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本发明公开了一种线圈外壳低温等离子体表面处理方法及装置，依次通过喷淋清洗、超声波清洗、等离子体清洗和等离子体渗氮完成处理工艺，其装置包括架体和按处理顺序依次设于架体上的物料摆放区、漂洗机、超声波清洗机、第一等离子体清洗机、第二等离子体清洗机...
该专利属于苏州创瑞机电科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过苏州创瑞机电科技有限公司授权不得商用。

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