The invention relates to the field of optical film preparation, in particular to a high barrier optical film, a preparation method and an application thereof. The optical thin film by optical membrane, oxygen barrier membrane and vapor barrier membrane compounded on the surface of the optical film coated with the oxygen barrier film on the surface of the oxygen barrier film coated with the vapor barrier membrane, the oxygen barrier film on the optical membrane and the vapor barrier membrane between. The preparation method comprises the following steps: preparation of S1. hydrophobic modified PVA barrier liquid and water blocking barrier; coating and drying of S2. hydrophobic modified PVA barrier liquid; coating and drying of S3. water blocking liquid. The product of high barrier optical thin film provided by the invention comprises optical membrane, oxygen barrier film and vapor barrier film three layer, obtained products with extremely low oxygen permeability barrier, outer membrane can be used as quantum dots film or as a request to block the outside oxygen and moisture of food packaging film; preparation method simple, low production cost.
【技术实现步骤摘要】
一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用
本专利技术涉及光学膜制备领域,具体涉及一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用。
技术介绍
将通过量子点纳米材料制备的量子点膜应用在显示器的背光模组中,可以提高色域值和色彩饱和度,是近年来兴起的一项热门技术。但是量子点材料对高温、强光、氧气、湿度及酸等有害环境极为敏感,非常容易衰减,故在量子点膜的实际应用中,需要良好的阻隔性能,以保证产品在使用过程中的稳定性。目前,在电学、包装等领域一般多采用无机物或无机物与有机物复合制备阻隔涂层,其具有良好的阻隔性能;目前也已经开发出高度透明的阻隔涂层应用于光学膜领域。但是现有的阻隔层一般通过化学气相沉积、等离子体增强化学气相沉积、溅射和真空工艺等制备,成本高且工艺复杂。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种高阻隔性光学薄膜及其制备方法和应用,该薄膜由有机高分子材料制成,制备时采用简单方便的涂膜工艺依次在基膜上形成氧气阻隔层和水汽阻隔层,得到的薄膜具有较好的阻隔性能,可用作量子点膜的外层阻隔膜或用作要求阻隔外界氧气和水汽的食品包装膜等。本专利技术解决上述技术问题的技术方案如下:一种高阻隔性光学薄膜,其由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜复合而成,所述光学基膜的上表面涂有所述氧气阻隔膜,所述氧气阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜,所述氧气阻隔膜位于所述光学基膜与所述水汽阻隔膜之间。在上述技术方案的基础上,本专利技术还可以有如下进一步的具体选择。上述的氧气阻隔膜和水汽阻隔膜均由有机高分子材料制成,有机高分子材料被用作阻隔材料时,小分子物质是通过高分子材料的分子间自由体积渗透的,因 ...
【技术保护点】
一种高阻隔性光学薄膜,其特征在于,由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜复合而成,所述光学基膜的上表面涂有所述氧气阻隔膜,所述氧气阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜,所述氧气阻隔膜位于所述光学基膜与所述水汽阻隔膜之间。
【技术特征摘要】
1.一种高阻隔性光学薄膜,其特征在于,由光学基膜、氧气阻隔膜和水汽阻隔膜复合而成,所述光学基膜的上表面涂有所述氧气阻隔膜,所述氧气阻隔膜的上表面涂有所述水汽阻隔膜,所述氧气阻隔膜位于所述光学基膜与所述水汽阻隔膜之间。2.根据权利要求1所述的一种高阻隔性光学薄膜,其特征在于,所述光学基膜为光学PET膜或光学PC膜。3.根据权利要求1所述的一种高阻隔性光学薄膜,其特征在于,所述氧气阻隔膜为疏水改性PVA膜,所述疏水改性PVA膜由PVA水溶液和戊二醛水溶液在盐酸催化作用下发生缩醛化反应交联后再流延烘干而成。4.根据权利要求1所述的一种高阻隔性光学薄膜,其特征在于,所述水汽阻隔膜为PE膜、PC膜、PMMA膜和PS膜中的任意一种。5.根据权利要求1至4任一项所述的一种高阻隔性光学薄膜,其特征在于,所述光学基膜的厚度为10-250μm,所述氧气阻隔膜的厚度为0.4-14.5μm,所述水汽阻隔膜的厚度为0.4-14.5μm。6.一种高阻隔性光学薄膜的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.将PVA水溶液、戊二醛水溶液和盐酸混合配制成疏水改性的PVA阻隔液,备用;将PE、PC、PMMA和PS中的任一种溶于有机溶剂配制...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐瑞璋,向爱双,丁玲,张磊,
申请(专利权)人:武汉保丽量彩科技有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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