过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的制造方法技术

本发明专利技术提供一种制造过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的方法，其特征在于，包括使全氟烯烃与氧反应的步骤，其中，使全氟烯烃与氧的反应在微型反应器中进行。

Process for the production of perfluorinated fluorinated olefin compounds

The present invention provides a method for manufacturing a peroxide perfluorinated polyoxyalkylene compound, characterized in that, including the perfluorinated olefins and oxygen reaction steps, which makes the perfluoro olefin and oxygen reaction in micro reactor.

【技术实现步骤摘要】
过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的制造方法
本专利技术涉及过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的制造方法。
技术介绍
全氟聚醚化合物作为润滑剂、各种聚合物的中间体等被广泛利用，其用途还在进一步扩展。过氧化全氟聚氧化烯烃化合物已知为全氟聚醚化合物的原料，通过将过氧化全氟聚氧化烯烃化合物分解或还原，能够得到全氟聚醚化合物。作为过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的制造方法，已知例如使四氟乙烯与氧反应的方法。代表性的，该反应通过在紫外线照射下使四氟乙烯与氧反应来进行(专利文献1)。另外，作为其他方法，已知有不进行紫外线照射，通过添加氟源，例如F2、FO－烷基等，使四氟乙烯与氧的反应开始的方法(专利文献2)。这些反应使用常规尺寸的反应器(根据专利文献1和2的实施例，为500mL的玻璃制反应器)，以批次反应进行。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平6－128373号公报专利文献2：日本特表平4－505171号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题随着全氟聚醚化合物的用途的扩展，对于在分子量、主链结构等上具有各种变形的全氟聚醚化合物的要求变高。即，对于作为全氟聚醚化合物的原料的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物，也要求能够制造具有各种分子量或主链结构的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的方法。然而，以上述的专利文献1和2的方法，难以得到具有特定的分子量或主链结构的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物。而且，上述的批次反应中，为了防止由于反应产生的聚合物的析出，作为溶剂使用氢氯氟烃(HCFC)系溶剂或氯氟烃(CFC)系溶剂。然而，HCFC系溶剂或CFC系溶剂是臭氧层破坏物质以及温室效应气体，因此其使用是不优选的。本专利技术的目的在于，提供一种能够高效地得到具有特定的物性的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的制造方法、或者即使不使用HCFC系溶剂或CFC系溶剂也能够实施的制造方法。用于解决课题的方法本专利技术人等对于上述课题进行深入研究，结果发现，通过使全氟烯烃与氧的反应在微型反应器中进行，能够不使用HCFC系溶剂或CFC系溶剂而使反应良好地进行，并且能够得到具有特定的物性的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物，以致完成了本专利技术。根据本专利技术的主旨，提供一种制造过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的方法，其特征在于，包括使全氟烯烃与氧反应的步骤，其中，使全氟烯烃与氧的反应在微型反应器中进行。在一个方案中，本专利技术提供上述制造方法，其特征在于，向含有全氟烯烃和氧的反应混合物中导入氟源。在其他方案中，本专利技术提供上述制造方法，其特征在于，对含有全氟烯烃和氧的反应混合物进行光照射。在其他方案中，本专利技术提供上述制造方法，其特征在于，向含有全氟烯烃和氧的反应混合物中导入氟源，再进行光照射。专利技术的效果根据本专利技术，使全氟烯烃与氧的反应在微型反应器中进行，能够不使用HCFC系溶剂或CFC系溶剂，得到具有特定的物性的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物。具体实施方式以下，对于本专利技术的制造方法进行详细的说明。本专利技术的制造方法中使用的“全氟烯烃”是指，烯烃的全部氢原子被氟原子取代的化合物。上述“烯烃”是指，含有1个双键的直链状或支链状的不饱和烃。在全氟烯烃中，烯烃链的碳原子数优选为2～12个，优选为2～8个，更优选为2～6个，特别优选为2个。本专利技术所使用的全氟烯烃优选为直链状。另外，本专利技术所使用的全氟烯烃优选为在分子末端具有双键的下述式所示的化合物：R1－CF＝CF2[R1为氟原子或碳原子数为1～11个的全氟烷基。]。上述R1优选为氟原子或碳原子数为1～5个的全氟烷基，例如为三氟甲基、五氟乙基、七氟正丙基、九氟正丁基、十一氟正戊基，更优选可以为氟原子。本专利技术所使用的全氟烯烃优选为四氟乙烯或六氟丙烯，更优选为四氟乙烯。上述全氟烯烃还可以具有取代基。作为上述取代基，没有特别限定，可以列举例如，选自卤素原子(例如，氟原子、氯原子、溴原子等)；可以被1个或1个以上的卤素原子取代的C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10元的不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。在优选方案中，上述全氟烯烃不具有上述的取代基。通过本专利技术的制造方法得到的过氧化全氟聚氧化烯烃化合物是在分子中具有过氧化物结构(－O－O－)以及全氟聚醚结构(－(CnF2nO)m－)的化合物。上述－(CnF2nO)m－中，n是每个附有m并以括号括起来的单位独立选择的整数，例如为1～12的整数，优选为1～4的整数，m为任意的整数，优选为2～2000的整数，例如为20～2000的整数。在优选方案中，过氧化全氟聚氧化烯烃化合物为下述式(I)所示的化合物：Rf－[(OC4F8)a－(OC3F6)b－(OC2F4)c－(OCF2)d－(O)e]－Rf’…(I)。上述式中，Rf和Rf’分别独立地为－CF3、－CF2CF3、－COF或－CF2COF。上述式中，a和b分别独立地为0以上100以下，例如为1以上100以下的整数，优选为0以上50以下的整数，更优选可以为0以上30以下的整数。上述式中，c和d分别独立地为0以上1000以下的整数，例如为2以上1000以下的整数，优选为0以上800以下的整数，更优选为2以上600以下的整数，例如可以为10以上600以下的整数。a、b、c和d的和为2以上2000以下的整数，优选为2以上1500以下的整数，更优选为2以上1000以下的整数，例如可以为100以上800以下的整数或250以上800以下的整数。上述式中，e为0以上250以下的整数，例如为1以上或5以上250以下的整数，优选为0以上150以下，更优选为0以上100以下，例如可以为50以下、40以下或35以下的整数。附有脚标a、b、c、d或e并以括号括起来的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。各重复单元之中，－(OC4F8)－可以是－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)CF2)－和－(OCF2CF(C2F5))－中的任意种，优选为－(OCF2CF2CF2CF2)－。－(OC3F6)－可以是－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和－(OCF2CF(CF3))－中的任意种，优选为－(OCF2CF2CF2)－。另外，－(OC2F4)－可以是－(OCF2CF2)－和－(OCF(CF3))－中的任意种，优选为－(OCF2CF2)－。在一种方案中，上述过氧化全氟聚氧化烯烃化合物可以是下述式所示的化合物：Rf－[(OC2F4)c－(OCF2)d－(O)e]－Rf’。在一种方案中，过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的数均分子量例如为5,000以上，优选为10,000以上，更优选为15,000以上，更加优选为20,000以上，进一步更加优选为25,000以上。过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的数均分子量的上限没有特别限定，例如，过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的数均分子量可以是150,000以下，100,000以下或50,000以下。在本专利技术中，过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的数均分子本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的方法，其特征在于：包括使全氟烯烃与氧反应的步骤，其中，使全氟烯烃与氧的反应在微型反应器中进行。

【技术特征摘要】
2015.12.10 JP 2015-2415131.一种制造过氧化全氟聚氧化烯烃化合物的方法，其特征在于：包括使全氟烯烃与氧反应的步骤，其中，使全氟烯烃与氧的反应在微型反应器中进行。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：还包括向含有全氟烯烃和氧的反应混合物中导入氟源的步骤。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于：氟源为F2。4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：还包括对含有全氟烯烃和氧的反应混合物进行光照射的步骤。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于：光照射通过照射具有200nm～350nm的波长的光来进行。6.如权利要求1所述的方法，其特征在于：还包括向含有全氟烯烃和氧的反应混合物中导入氟源，再进行光照射的步骤。7.如权利要求6所述的方法，其特征在于：氟源为F2，光照射通过照射具有200nm～350nm的波长的光来进行。8.如权利要求1～7中任一项所述的方法，其特征在于：全氟烯烃为四氟乙烯。9.如权利要求1～7中任一项所述的方法，其特征在于：过氧化全氟聚氧化烯烃化合物为下述式(I)所示的化合物，Rf－[(OC4F8)a－(OC3F6)b－(OC2F4)c－(OCF2)d－(O)e]－Rf’…(I)式中：Rf和Rf’分别独立地为－CF3、－CF2CF3、－COF或－CF2COF，a和b分别独立地为0以上100以下的整...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边佳一郎，中谷英树，志野元久，高桑达哉，森本和贺，
申请(专利权)人：大金工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP