在氯乙烯聚合过程中防止或减少反应器上积垢上的方法技术

技术编号:1567226 阅读:191 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
***以上式所示的亚甲基吩噻嗪低聚物,式中n的平均值为1至5,用来减轻或消除在氯乙烯和共聚用单体聚合反应时形成的积垢,其方法为将该低聚物的溶液涂敷在聚合区的内壁或将该低聚物加入聚合区中。(*该技术在2013年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术乃有关1987年7月30日提出之美国专利申请案第079,315号之继续申请案。在氯乙烯及共聚用单体(Comonomer)聚合成聚氯乙烯(PVC)及氯乙烯共聚物时,树脂易粘附在反应器上形成壁垢。反应器壁垢之积累会妨碍热传导,如此会消耗有价值的单体,增加废料的形成,又必须费神地处理废料。美国专利申请案第2,415,252号记载吩噻嗪(phenothiazine)衍生物之制法,系使吩噻嗪和甲醛及醇在会形成接有亚甲基及烷氧基的改性吩噻嗪之条件下反应而得。此化合物及其在油中之溶液可用于医药、兽药及控制害虫之农业。美国专利第2,528,092号记载了吩噻嗪和甲醛及N-二甲苯胺之反应。所得化合物可作为矿油润滑剂的抗氧化剂。美国专利4,465,881号记载了吩噻嗪或被取代的吩噻嗪的N,N′-二聚物。此化合物乃由两个吩噻嗪分子经其氮基连接而得。此二聚物可由吩噻嗪在有机过氧化物存在下加热制备之。此二聚物可用来稳定苯乙烯及被取代的苯乙烯,以防止发生非所希望的聚合反应。美国专利第4,529,500号发表利用吩噻嗪或被取代的吩噻嗪,以防止高温烃制备装置之积垢。Romanovich及其同仁在苏联本文档来自技高网...

【技术保护点】
氯乙烯和可选择性的浓度高至约80%(摩尔%)的乙烯基不饱和共聚用单体的聚合方法,其改进包括使聚合反应在式(Ⅰ)所示的亚甲基吩噻嗪低聚物存在下进行。***(Ⅰ)。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:来蒙得C第渥德
申请(专利权)人:西洋化学股份有限公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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