一种单晶炉副室氩气填充喷头制造技术

本实用新型专利技术提供了一种单晶炉副室氩气填充喷头，包括喷头主体，所述喷头主体中部具有与单晶炉提拉头配合的通孔，所述喷头主体的上部设有进气管接头、所述喷头主体的内部设有气道，所述喷头主体的下部设有若干个出气孔，所述进气管接头与所述气道连通，所述出气孔也与所述气道连通。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶炉副室氩气填充喷头
本技术涉及单晶棒加工
，尤其是一种单晶炉副室氩气填充喷头。
技术介绍
单晶生长炉在生产拉制单晶硅棒的过程中，由于有真空泵的连接，炉内一直处于负压状态，而且内部需要持续填充氩气，填充氩气的位置在单晶炉副室的顶部，现有的氩气填充装置，只有一个出气口，是沿单晶炉提拉头的方向，竖直向下充气，填充效果不佳，而且不均匀。所以，如何提供一种单晶炉副室氩气填充喷头，解决现有技术中氩气填充不均匀的缺陷，是目前本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本技术提供了一种单晶炉副室氩气填充喷头，解决现有技术中存在的缺陷，具体方案如下：一种单晶炉副室氩气填充喷头，包括喷头主体，所述喷头主体中部具有与单晶炉提拉头配合的通孔，所述喷头主体的上部设有进气管接头、所述喷头主体的内部设有气道，所述喷头主体的下部设有若干个出气孔，所述进气管接头与所述气道连通，所述出气孔也与所述气道连通。具体的，所述喷头主体、所述进气管接头、所述出气孔为一体成型的不锈钢材质，所述气道为环形。具体的，所述出气孔有8个，均匀分布在所述喷头主体的下部。具体的，所述进气管接头有两个，对称分布在所述喷头主体的上部。具体的，所述进气管接头有四个，对称分布在所述喷头主体的上部。具体的，所述喷头主体的厚度为20mm，所述出气孔凸出所述喷头主体外的长度为2mm。具体的，出气孔为喇叭口形状，所述出气孔的大口朝向单晶炉副室。本技术与现有技术相比，具有的优点是：可以更加均匀的填充氩气，让炉内气体的循环更加顺畅，提高拉制单晶硅棒的质量和生产效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术提供的第一实施例仰视图。图2为图1中沿A-A方向剖切主视图。图3为本技术提供的第二实施例仰视图。图4为图3中沿A-A方向剖切主视图。图5为本技术提供的第三实施例仰视图。图6为本技术工作状态示意图。图中：10、喷头主体11、进气管接头12、出气孔13、孔20、气道30、提拉头。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。相关术语解释提拉头：单晶炉最上端的部件，内部有驱动电机，卷丝轮等，连接钢丝绳用。本技术请求保护一种单晶炉副室氩气填充喷头，图6为本技术使用状态图，本技术包括喷头主体10，所述喷头主体10中部具有与单晶炉提拉头30配合的通孔13，所述喷头主体10的上部设有进气管接头11、所述喷头主体10的内部设有气道20，所述喷头主体10的下部设有若干个出气孔12，所述进气管接头11与所述气道20连通，所述出气孔12也与所述气道20连通。具体的，所述喷头主体10、所述进气管接头11、所述出气孔12为一体成型的不锈钢材质，所述气道20为环形。具体实施例1：参照图1-2所示，所述出气孔有8个，均匀分布在所述喷头主体10的下部，所述进气管接头11为一个，氩气通过进气管接头11引入气道20，再由20分配至8个出气孔中，均匀送至单晶炉副室内。具体实施例2：参照2-3所示，所述进气管接头11有两个，对称分布在所述喷头主体10的上部，有利于气道12中的氩气向出气孔供气平稳，优化工艺过程。具体实施例3：参照图5所示，所述进气管接头11有四个，对称分布在所述喷头主体10的上部，可以使送气过程更加平稳。具体的，所述喷头主体10的厚度为20mm，所述出气孔12凸出所述喷头主体10外的长度为2mm。具体的，出气孔12为喇叭口形状，所述出气孔12的大口朝向单晶炉副室。上面结合附图对本技术的实施例进行了描述，但是本技术并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本技术的启示下，在不脱离本技术宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本技术的保护之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种单晶炉副室氩气填充喷头，其特征在于：包括喷头主体，所述喷头主体中部具有与单晶炉提拉头配合的通孔，所述喷头主体的上部设有进气管接头、所述喷头主体的内部设有气道，所述喷头主体的下部设有若干个出气孔，所述进气管接头与所述气道连通，所述出气孔也与所述气道连通。

【技术特征摘要】
1.一种单晶炉副室氩气填充喷头，其特征在于：包括喷头主体，所述喷头主体中部具有与单晶炉提拉头配合的通孔，所述喷头主体的上部设有进气管接头、所述喷头主体的内部设有气道，所述喷头主体的下部设有若干个出气孔，所述进气管接头与所述气道连通，所述出气孔也与所述气道连通。2.根据权利要求1所述的单晶炉副室氩气填充喷头，其特征在于：所述喷头主体、所述进气管接头、所述出气孔为一体成型的不锈钢材质，所述气道为环形。3.根据权利要求2所述的单晶炉副室氩气填充喷头，其特征在于：所述出气孔有8个，均匀分布在所述喷...

【专利技术属性】
技术研发人员：张刚，
申请(专利权)人：保定爱廸新能源股份有限公司，英利能源中国有限公司，
类型：新型
国别省市：河北,13