回流罐杂质的去除装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及化工设备，特别是一种回流罐杂质的去除装置。包括支腿，置于支腿上的本体，所述本体为中空结构，本体的两端分别设有左端盖和右端盖，左端盖和右端盖分别与本体密封连接，左端盖的上部设有进料口，右端盖的上部和下部分别设有抽真空口、出料口；所述进料口通过第一阀门和进料管线与回流罐连通，抽真空口通过第二阀门和抽真空管线与真空泵连通，出料口与第三阀门和出料管线连接。利用真空抽料，抽走回流罐底部静置的杂质，提升精馏产品质量，减少设备腐蚀，保证设备长效稳定运行，降低生产成本。

Device for removing impurity of reflux tank

The utility model relates to a chemical equipment, in particular to a device for removing impurities in a reflux tank. Including the legs, legs in the body, the body is a hollow structure, wherein the two ends of the body are respectively provided with a left end cover and a right end cover, a left end cover and a right end cover are respectively connected with the upper part of the sealing body, a left end cover is provided with a feed inlet, the upper and lower right end cover are respectively provided with a vacuum port, the outlet; the material inlet through the first valve and the feed pipe is communicated with the reflux tank, vacuum pumping through second valves and vacuum pipeline connected with the vacuum pump, the outlet and the third valve and discharge pipe connection. The vacuum pump is used to remove the impurities in the bottom of the reflux tank to improve the product quality, reduce the corrosion of the equipment, ensure the long-term stable operation of the equipment, and reduce the production cost.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化工设备，特别是一种回流罐杂质的去除装置。
技术介绍
精馏过程是化工生产过程中应用最广泛的分离过程，其过程变量和被控变量较多，过程的动态及机理较为复杂。在实际生产过程中，精馏装置的操作方法和相关参数也并非完全合理。因此，精馏过程中会有一些难以去除的杂质，不但影响产品的质量，甚至会对精馏塔造成一定程度的腐蚀，导致大工程的检修作业。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术提供一种去除回流罐底部杂质的回流罐杂质去除装置。采用如下技术方案：一种回流罐杂质的去除装置，包括支腿，置于支腿上的本体，所述本体为中空结构，本体的两端分别设有左端盖和右端盖，左端盖和右端盖分别与本体密封连接，左端盖的上部设有进料口，右端盖的上部和下部分别设有抽真空口、出料口；所述进料口通过第一阀门和进料管线与回流罐连通，抽真空口通过第二阀门和抽真空管线与真空泵连通，出料口与第三阀门和出料管线连接。采用上述技术方案的本技术与现有技术相比，有益效果是：利用真空抽料，抽走回流罐底部静置的杂质，提升精馏产品质量，减少设备腐蚀，保证设备长效稳定运行，降低生产成本。进一步的，本技术的优化方案是：所述装置本体的内壁设有防腐层结构。所述进料管线与出料管线的距离小于或等于200毫米。所述本体为正方体、长方体或圆柱体。附图说明图1为本技术的结构示意图。图2为本技术的连接示意图。图中：杂质去除装置1；本体1-1；进料口1-2；抽真空口1-3；出料口1-4；防腐层1-5；支腿1-6；左端盖1-7；右端盖1-8；第一阀门2；进料管线3；第二阀门4；抽真空管线5；第三阀门6；回流罐7；真空泵8；出料管线9。具体实施方式下面结合附图和实施例进一步详述本技术。图1中，本实施例包括支腿1-6，置于支腿1-6上的本体1-1，本体1-1为中空结构，本体1-1的两端分别设有左端盖1-7和右端盖1-8，左端盖1-7和右端盖1-8分别通过螺栓与本体1-1密封连接，各密封部位的严密性必须达到0.5MPa-0.9MPa，本体1-1可以为正方体、长方体或圆柱体。左端盖1-7的上部设有进料口1-2，右端盖1-8上部和下部分别设有抽真空口1-3、出料口1-4；本体1-1的内壁设有防腐层结构1-4。图2中，进料口1-2通过第一阀门2和进料管线3与回流罐7连通，抽真空口1-3通过第二阀门4和抽真空管线5与真空泵8连通，出料口1-4与第三阀门6和出料管线9一端连接，出料管线9另一端连接杂质收集罐。进料管线3与出料管线9的距离小于或等于200毫米。本实施例在工作时，首先关闭进料口1-2的第一阀门2，打开抽真空口1-3的第二阀门4，开启真空泵8，让本体1-1内形成真空。达到一定真空后，关闭第二阀门4，打开第一阀门2，抽取回流罐7底部静置的难去除的酸性杂质，集液结束后关闭第一阀门2，打开出料口1-4的第三阀门6，排出本实施例内物质。在一定周期内，重复以上操作步骤。本技术提升精馏产品质量，减少酸性物质对设备的腐蚀，保证设备长效稳定运行，降低生产成本。可广泛用于：炼油、石油化工、精细化工、化肥、制药等行业，尤其适合上述行业内具有难去除对设备有酸性腐蚀的杂质。适用温度-20℃-100℃。以上所述仅为本技术较佳可行的实施例而已，并非因此局限本技术的权利范围，凡运用本技术说明书及附图内容所作的等效结构变化，均包含于本技术的权利范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种回流罐杂质的去除装置，包括支腿，置于支腿上的本体，其特征在于：所述本体为中空结构，本体的两端分别设有左端盖和右端盖，左端盖和右端盖分别与本体密封连接，左端盖的上部设有进料口，右端盖的上部和下部分别设有抽真空口、出料口；所述进料口通过第一阀门和进料管线与回流罐连通，抽真空口通过第二阀门和抽真空管线与真空泵连通，出料口与第三阀门和出料管线连接。

【技术特征摘要】
1.一种回流罐杂质的去除装置，包括支腿，置于支腿上的本体，其特征在于：所述本体为中空结构，本体的两端分别设有左端盖和右端盖，左端盖和右端盖分别与本体密封连接，左端盖的上部设有进料口，右端盖的上部和下部分别设有抽真空口、出料口；所述进料口通过第一阀门和进料管线与回流罐连通，抽真空口通过第二阀门和抽真空管线与真空泵连通，...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙长江，江春兴，武志民，郑喜明，朱宏，孙海超，郑银虎，孙国俊，刘存泽，范玉东，张向杰，刘秋艳，孙景阳，刘胜芹，郑海涛，刘东军，窦洪亮，曹立全，牛帅，江春艳，
申请(专利权)人：唐山三友硅业有限责任公司，
类型：新型
国别省市：河北;13