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本实用新型涉及化工设备，特别是一种回流罐杂质的去除装置。包括支腿，置于支腿上的本体，所述本体为中空结构，本体的两端分别设有左端盖和右端盖，左端盖和右端盖分别与本体密封连接，左端盖的上部设有进料口，右端盖的上部和下部分别设有抽真空口、出料口；...
该专利属于唐山三友硅业有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过唐山三友硅业有限责任公司授权不得商用。

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