【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光驱动飞片
,具体涉及一种用于激光驱动的飞片结构及其制备方法。
技术介绍
激光驱动飞片技术是用激光束辐照透明基底表面上的金属膜(飞片靶),激光能量将烧蚀一部分膜层产生高压等离子体,利用产生的等离子体推动剩余膜层(飞片)高速飞行,产生极高的瞬时冲击压力。飞片靶是激光驱动飞片中能量转换关键部件,其包含烧蚀层、阻热层和飞片层三层结构。其中烧蚀层的作用是吸收激光的能量,产生高压等离子体。由于铝金属的汽化热较低,容易形成等离子体,而被认为是理想的烧蚀层材料。但是金属铝表面对光的反射率很高,大部分激光能量被反射而浪费,从而导致需要输入高能量的激光去驱动飞片。在基底材料与烧蚀层间加入一层吸光度高的材料(碳黑、Ge、Mg)可以减少激光的反射,增强吸收,但是这些材料的加入影响了铝等离子的产生,激光能量与飞片动能间的转化率仅30%左右,飞片性能并没有得到明显改善。低的能量吸收和转换效率导致驱动高速飞片需要较高的激光能量,难以大规模推广使用激光
【技术保护点】
一种用于激光驱动的飞片结构,包括透明基底(1);其特征在于:所述透明基底(1)上设置纳米铝阵列烧蚀层(2);所述纳米铝阵列烧蚀层(2)上填充氧化铝阻热层(3);所述氧化铝阻热层(3)上设置铝飞片层(4)。
【技术特征摘要】
1.一种用于激光驱动的飞片结构,包括透明基底(1);其特征在于:所述透
明基底(1)上设置纳米铝阵列烧蚀层(2);所述纳米铝阵列烧蚀层(2)
上填充氧化铝阻热层(3);所述氧化铝阻热层(3)上设置铝飞片层(4)。
2.根据权利要求1所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于所述的纳米
铝阵列烧蚀层(2)厚度为0.2μm至1μm。
3.根据权利要求1所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于所述的纳米
铝阵列烧蚀层(2)是圆柱型纳米铝周期阵列结构。
4.根据权利要求3所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于相邻两个圆
柱型纳米铝的中心之间距离为0.6μm至1.2μm。
5.根据权利要求3或4所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于所述的
圆柱型纳米铝的直径为0.5μm至1μm。
6.根据权利要求1所述的用于激光驱动的飞片结构,其特征在于所述的氧化
铝阻热层(3)厚度为1μm至2μm。...
【专利技术属性】
技术研发人员:吉祥波,祝明水,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院化工材料研究所,
类型:发明
国别省市:四川;51
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