作为M3毒蕈碱受体的吡咯烷衍生物制造技术

技术编号:1508014 阅读:161 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
盐或两性离子形式的式Ⅰ化合物,其中R↑[1]、R↑[2]、R↑[3]、R↑[4]和R↑[5]具有说明书中所指出的含义,其可用于治疗通过毒蕈碱M3受体介导的病症。还描述了含有该化合物的药物组合物和制造该化合物的方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及有机化合物、它们的制备和作为药物的用途。一方面,本专利技术提供了盐或两性离子形式的式I化合物, 其中R1和R3各自独立地是C3-C15-碳环基团或者具有至少一个选自氮、氧和硫的环杂原子的5-至12-元杂环基团;R2是氢、羟基或者任选被羟基取代的C1-C4-烷基;或者-CR1R2R3一起构成下式基团 其中Ra是键、-O-、-S-、-CH2-、-CH=CH-、-CH2-CH2-、氨基或-N(CH3)-,Rb是氢、羟基或者任选被羟基取代的C1-C4-烷基;R4是C1-C4-烷基;R5是被-CO-O-R6或-CO-NH-R6取代的C1-烷基,或者R5是被-O-CO-R6、-CO-O-R6、-NH-CO-R6或-CO-NH-R6取代的C2-C10-烷基,或者R5是任选被-R7或-R8取代的C2-C10-链烯基或C2-C10-炔基;R6是C3-C15-碳环基团或者5-至12-元杂环基团,其具有至少一个选自氮、氧和硫的环杂原子,或者R6是C1-C10-烷基,任选地被C1-C10-烷氧基、-O-R7、C3-C15-碳环基团或具有至少一个选自氮、氧和硫的环杂原子的5-至12-元杂环本文档来自技高网...

【技术保护点】
盐或两性离子形式的式Ⅰ化合物***Ⅰ其中R↑[1]和R↑[3]各自独立地是C↓[3]-C↓[15]-碳环基团或者具有至少一个选自氮、氧和硫的环杂原子的5-至12-元杂环基团;R↑[2]是氢、羟基或者任选被羟基取代的C↓[1]-C↓[4]-烷基;或者-CR↑[1]R↑[2]R↑[3]一起构成下式基团***其中R↑[a]是键、-O-、-S-、-CH↓[2]-、-CH=CH-、-CH↓[2]-CH↓[2]-、氨基或-N(CH↓[3])-,R↑[b]是氢、羟基或者任选被羟基取代的C↓[1]-C↓[4]-烷基;R↑[4]是C↓[1]-C↓[4]-烷基;R↑[5]是被-CO-O-R↑[6]或-CO-NH-...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:NJ普雷斯SP科林伍德
申请(专利权)人:诺瓦提斯公司
类型:发明
国别省市:CH[瑞士]

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