毒蕈碱受体激动剂制造技术

技术编号:4873320 阅读:252 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及式Ⅰ化合物。这些式Ⅰ化合物为M-1毒蕈碱受体的激动剂。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及药物与有机化学领域,并提供了对毒蕈碱受体具有活性的化合物。本专利技术化合物为毒蕈碱受体激动剂。更具体讲,本专利技术的化合物是毒蕈碱M-1受体的选择性激动剂。因而,它们可用于治疗中枢神经系统及其它身体系统的多种不同疾病。这些疾病包括认知障碍、ADHD、肥胖症、阿尔茨海默病(Alzheimer病)、包括精神分裂症在内的精神病,并且这些化合物还可用于缓解如青光眼的眼内压。在PCT公开号WO 97/25983(公开日1997年7月24日)和WO99/04778(公开日1999年2月4日)中,描述了一些可用于治疗毒蕈碱性胆碱能系统机能不良相关疾病的2,3-二氢化茚类化合物。本专利技术提供了式I化合物或其可药用的加成盐 式I其中Q,X,Y,和Z独立地选自CR1和N,条件是Q、X、Y、和Z中至多两个是N,且Q、X、Y和Z中至少两个为CH;或者Y为CH,Z为CH,而“Q=X”部分表示“S”以形成噻吩环;R1在每次出现时独立选自氢,卤素,C1-C4烷氧基和C1-C4烷基;R2选自卤素;C1-C4烷氧基;C1-C4烷基;C3-C8环烷基;氰基;三氟甲基;任选被一个或两个独立选自卤素、本文档来自技高网...

【技术保护点】
下式化合物或其可药用盐:***其中Q,X,Y,和Z独立地选自CR↑[1]和N,条件是Q、X、Y、和Z中至多两个是N,且Q、X、Y和Z中至少两个为CH;或者Y为CH,Z为CH,而“Q=X”部分表示“S”以形成噻吩环;   R↑[1]在每次出现时独立选自氢,卤素,C↓[1]-C↓[4]烷氧基和C↓[1]-C↓[4]烷基;R↑[2]选自卤素;C↓[1]-C↓[4]烷氧基;C↓[1]-C↓[4]烷基;C↓[3]-C↓[8]环烷基;氰基;三氟甲基;任选 被一个或两个独立选自卤素、C↓[1]-C↓[4]烷氧基和C↓[1]-C↓[4]烷基的...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:JR阿伦SA希奇科克刘斌WW小图尔纳JA亚米森
申请(专利权)人:伊莱利利公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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