SJ-MOS管电路的拓扑结构制造技术

技术编号:15074494 阅读:267 留言:0更新日期:2017-04-06 19:40
本实用新型专利技术提供一种SJ-MOS管电路的拓扑结构,包括第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102,以及快恢复二极管D1;第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102的栅极接在一起作为复合管的栅极;第一SJ-MOS管Q101的漏极连接快恢复二极管D1的阴极,并作为复合管的漏极;第一SJ-MOS管Q101的源极接第二SJ-MOS管Q102的源极;第二SJ-MOS管的漏极接快恢复二极管D1的阳极,并作为复合管的源极。本实用新型专利技术可避开原SJ-MOS寄生二极管反向恢复很差的问题,使得SJ-MOS管电路的拓扑结构的应用电路工作更稳定,SJ-MOS管不容易损坏。

Topology of SJ-MOS tube circuit

The utility model provides a topology of SJ-MOS tube circuit, including the first SJ-MOS tube Q101 and second SJ-MOS Q102, and D1 fast recovery diode; the first SJ-MOS gate Q101 and second SJ-MOS tube Q102 together as the gate of composite pipe; leakage cathode connection fast recovery diode D1 first SJ-MOS tube Q101 and, as a drain composite pipe; the first SJ-MOS Q101 source with second SJ-MOS tube Q102 source drain is connected to the anode; fast recovery diode D1 second SJ-MOS tubes, and as a source of composite pipe. The utility model can avoid the problem of poor reverse recovery of the parasitic diode of the Kaiyuan SJ-MOS, so that the application circuit of the SJ-MOS tube circuit topology is more stable, and the SJ-MOS tube is not easy to be damaged.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及SJ-MOS管,尤其是一种改进的SJ-MOS管电路的拓扑结构
技术介绍
目前使用SJ-MOS管(超结功率MOSFET)搭建的典型全桥电路如图1所示;此电路在单个SJ-MOS管续流时,SJ-MOS管内寄生二极管的恢复速度不够快,会存在SJ-MOS寄生二极管的反向恢复问题;目前的SJ-MOS由于内部结构问题,寄生二极管反向恢复特性较差,反向恢复电流很大,di/dt,dv/dt耐性较差;引起寄生二极管做续流使用时,很容易损坏。
技术实现思路
针对现有技术中存在的不足,本技术提供一种SJ-MOS管电路的拓扑结构,用于替代图1中的单个SJ-MOS管,解决SJ-MOS寄生二极管的反向恢复较差问题;本技术采用的技术方案是:一种SJ-MOS管电路的拓扑结构,包括第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102,以及快恢复二极管D1;第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102的栅极接在一起作为复合管的栅极;第一SJ-MOS管Q101的漏极连接快恢复二极管D1的阴极,并作为复合管的漏极;第一SJ-MOS管Q101的源极接第二SJ-MOS管Q102的源极;第二SJ-MOS管的漏极接快恢复二极管D1的阳极,并作为复合管的源极。进一步地,快恢复二极管D1采用MUR30120。本技术的优点在于:避开原SJ-MOS寄生二极管反向恢复很差的问题,使得SJ-MOS管电路的拓扑结构的应用电路工作更稳定,SJ-MOS管不容易损坏。附图说明图1为现有的全桥电路原理图。图2为本技术的SJ-MOS管电路的拓扑结构示意图。具体实施方式下面结合具体附图和实施例对本技术作进一步说明。本使用新型提出的SJ-MOS管电路的拓扑结构,如图2所示,包括第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102,以及快恢复二极管D1;快恢复二极管D1可采用MUR30120,或其它的耐压达到数百伏以上的快恢复二极管;第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102的栅极接在一起作为复合管的栅极;第一SJ-MOS管Q101的漏极连接快恢复二极管D1的阴极,并作为复合管的漏极;第一SJ-MOS管Q101的源极接第二SJ-MOS管Q102的源极;第二SJ-MOS管的漏极接快恢复二极管D1的阳极,并作为复合管的源极。快恢复二极管(简称FRD)是一种具有开关特性好、反向恢复时间短特点的半导体二极管,主要应用于开关电源、PWM脉宽调制器、变频器等电子电路中。快恢复二极管的内部结构与普通PN结二极管不同,它属于PIN结型二极管,即在P型硅材料与N型硅材料中间增加了基区I,构成PIN硅片。因基区很薄,反向恢复电荷很小,所以快恢复二极管的反向恢复时间较短,正向压降较低,反向击穿电压(耐压值)较高。将图1中的SJ-MOS单管Q1、Q2、Q3、Q4全部用上述SJ-MOS管电路的拓扑结构构成的复合管代替;当复合管的栅极接高电平时,电流从Q101,Q102流过;续流时Q102的寄生二极管反向阻断,续流的电流从快恢复二极管D1流过,如此可以解决SJ-MOS寄生二极管的反向恢复较差问题。此SJ-MOS管电路的拓扑结构的核心在于关断MOS管,需要续流时,提供旁路通道,阻断SJ-MOS体内二极管的续流路径;此应用可以延伸到半桥以及类似拓展电路。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种SJ‑MOS管电路的拓扑结构,其特征在于,包括第一SJ‑MOS管Q101和第二SJ‑MOS管Q102,以及快恢复二极管D1;第一SJ‑MOS管Q101和第二SJ‑MOS管Q102的栅极接在一起作为复合管的栅极;第一SJ‑MOS管Q101的漏极连接快恢复二极管D1的阴极,并作为复合管的漏极;第一SJ‑MOS管Q101的源极接第二SJ‑MOS管Q102的源极;第二SJ‑MOS管的漏极接快恢复二极管D1的阳极,并作为复合管的源极。

【技术特征摘要】
1.一种SJ-MOS管电路的拓扑结构,其特征在于,包括第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102,以及快恢复二极管D1;第一SJ-MOS管Q101和第二SJ-MOS管Q102的栅极接在一起作为复合管的栅极;第一SJ-MOS管Q101的漏极连接快恢复二极管D...

【专利技术属性】
技术研发人员:白玉明冷强张海涛
申请(专利权)人:无锡同方微电子有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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