用于胶印的移印版及其制备方法技术

本发明专利技术提供了用于胶印的移印版及其制备方法。

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求于2014年12月1日向韩国专利厅递交的第10-2014-0169920号的优先权，其韩国专利申请文献中公开的内容以引用的方式并入本文中。
本专利技术涉及一种用于胶印的移印版及其制备方法。
技术介绍
在如液晶显示器(liquidcrystaldisplay：LCD)或等离子体显示面板(plasmadisplaypanel：PDP)的平板显示器(flatpaneldisplay：FPD)的制造过程中，需要电极、黑矩阵、彩色滤光片、隔板、薄膜晶体管等不同种类的图案形成工艺。这些图案形成工艺中，使用较多的是利用光刻胶和光掩膜，通过曝光和显影得到经过选择性去除的光刻胶图案，并利用它形成图案的方法。这些光掩膜工艺存在着需要使用大量的如光刻胶或显影液的材料、需要使用昂贵的光掩膜、工艺实施步骤多或工艺时间增长的问题。为了解决这些问题，有人提出了例如不使用光刻胶，而是基于喷墨印刷、丝网印刷及激光转印方法而直接印刷待形成图案物质等印刷方法。然而，对于丝网印刷和喷墨印刷而言，存在着在实现不到数十μm精细图案时的局限性。另外，基于激光转印的方法存在着发生费用过多、花费时间过长、无法实现大面积图案的局限性。作为用于实现精细图案的方法，存在着利用移印版(cliche)将图案化的材料转印到橡皮布上，将这一橡皮布上的图案转印到基板上的胶印法。使用移印版的胶印法与使用光刻胶的传统工艺相比，具有材料消耗少、工艺简单、与喷墨印刷或激光转印相比工艺速度快的优点。然而，需要对应不同图案的基板的单独的移印版、以普通玻璃制作的移印版的制作工艺复杂而且昂贵、移印版一旦破裂则需要重新经过昂贵的激光曝光工艺进行重新制作的缺点。另外，为了提高反向胶印工艺的生产效率，需要减少(需求)节拍时间(takttime)，为此需要多个移印版。随着移印版个数的增多，制作工艺费用也有所增加，玻璃移印版尤其存在着移印版制作费用较高、不易复制相同的移印版的问题。以下图1中示意性地显示了反向胶印(reverseoffsetprinting)。胶印法中的移印版，具体地对于反向胶印法中的移印版而言，通常情况下通过对玻璃进行湿式蚀刻制造而成。然而，湿法蚀刻由于是等向性蚀刻，为实现线宽小于2μm的精细图案，蚀刻深度应当非常薄，至数百nm水平。因此，在利用如上所述移印版实施印刷工艺的情况下，存在着容易发生橡皮布接触移印版的图案底部的现象，并且容易受到基材不平坦等影响的问题。在先技术文献专利文献韩国专利公开公报第2009-0031337号
技术实现思路
技术问题本说明书旨在提供一种能够解决所述问题的用于胶印的移印版及其制备方法。技术方案本说明书的一个实施方式中提供了一种用于胶印的移印版，其包括凹槽部及凸出部，所述凹槽部包括精细图案线条，所述精细图案线条的间距(pitch)满足下述公式1，所述精细图案线条的深度为1μm以上且5μm以下，所述精细图案线条的线宽为0.5μm以上且2μm以下。[公式1]p(μm)≥2d+2所述公式1中，p为精细图案线条的间距(μm)，d为精细图案线条的深度(μm)。本说明书的一个实施方式中提供了一种用于胶印的移印版的制造方法，其包括：形成移印版模具的步骤；在所述移印版模具上涂抹光固化性树脂组合物的步骤；使所述光固化性组合物固化，形成包括凹槽部及凸出部的移印版的步骤；及去除所述移印版模具的步骤。所述凹槽部包括精细图案线条，所述精细图案线条的间距满足所述公式1，所述精细图案线条的深度为1μm以上且5μm以下，所述精细图案线条的线宽为0.5μm以上且2μm以下。有益效果本专利技术的一个实施方式中的用于胶印的移印版，能够形成线宽2μm以下的精细图案线条。另外，本专利技术的一个实施方式中的用于胶印的移印版具备能够显著降低精细图案线条的不合格率的优点。本说明书的一个实施方式中的用于胶印的移印版，能够大面积地形成精细图案线条。本说明书的一个实施方式中的用于胶印的移印版，能够以低廉的费用进行制作，具有容易复制相同移印版的优点。本说明书的一个实施方式中的用于胶印的移印版，由于可同时包括用于显示器装置画面部的精细图案线条和用于边框的追加图案线条，因此在形成排线部时可简化制造工艺。利用本说明书的一个实施方式中的用于胶印的移印版进行印刷的情况下，能够减少精细图案引起的云纹(MOIRE)显影的发生。附图说明图1为示意性地示出反向胶印(reverseoffsetprinting)工艺的图。图2及图4为表示本说明书的一个实施方式的移印版模具的形成步骤的图。图3及图5为表示本说明书的一个实施方式的用于胶印的移印版的制造步骤的图。图6为表示本说明书的一个实施方式的用于胶印的移印版和使用其形成的图案的图。图7为对比普通的用于胶印的移印版与本说明书的一个实施方式的用于胶印的移印版的图。具体实施方式本专利技术中称某一部件位于另一部件“之上”时，不仅包括了某一部件与另一部件接触的情况，还包括了两个部件之间存在其他部件的情况。本专利技术中称某一部分中“包括”某一组成要素时，只要没有相反的特别说明则意味着还可以包括其他组成要素。以下对本说明书进行进一步的详细说明。本说明书的一个实施方式中提供了一种用于胶印的移印版，其包括凹槽部及凸出部，所述凹槽部包括精细图案线条，所述精细图案线条的间距满足下述公式1，所述精细图案线条的深度为1μm以上且5μm以下，所述精细图案线条的线宽为0.5μm以上且2μm以下。[公式1]p(μm)≥2d+2所述公式1中，p为精细图案线条的间距(μm)，d为精细图案线条的深度(μm)。根据本说明书的一个实施方式，所述精细图案线条的线宽:线深可以是2:1～1:10。根据本说明书的一个实施方式，所述精细图案线条的间距(pitch)可以是25μm以上且500μm以下。利用本说明书的一个实施方式的使用用于胶印的橡皮布而印刷的图案，其线宽可以是2μm以下。进而，当线宽为2μm以下的所述图案被包含在显示装置的情况下，不被肉眼识别，并且能够显著减少所述图案引起的云纹显影。进而，采用本说明书的一个实施方式的用于胶印的橡皮布的情况下，能够以低廉的费用形成精细图案。进而，采用所述用于胶印的橡皮布的情况下有以下优点，为了形成大面积的微图形，即使不将多个较小的精细图案本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于胶印的移印版，其中，所述移印版包括凹槽部及凸出部；所述凹槽部包括精细图案线条，并且所述精细图案线条的间距满足以下公式1；所述精细图案线条的深度为1μm以上且5μm以下；所述精细图案线条的线宽为0.5μm以上且2μm以下，[公式1]p(μm)≥2d+2所述公式1中，p为精细图案线条的间距(μm)，d为精细图案线条的深度(μm)。

【技术特征摘要】
2014.12.01 KR 10-2014-01699201.一种用于胶印的移印版，其中，
所述移印版包括凹槽部及凸出部；
所述凹槽部包括精细图案线条，并且所述精细图案线条的间距满足以下
公式1；
所述精细图案线条的深度为1μm以上且5μm以下；
所述精细图案线条的线宽为0.5μm以上且2μm以下，
[公式1]
p(μm)≥2d+2
所述公式1中，p为精细图案线条的间距(μm)，d为精细图案线条的深度
(μm)。
2.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述精细图案线条的线宽:线深为2:1～1:10。
3.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述精细图案线条的间距为25μm以上且500μm以下。
4.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述凸出部的锥度为70度以上且90度以下。
5.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述精细图案线条形成网状图案。
6.根据权利要求5所述的用于胶印的移印版，其中，
所述精细图案线条形成规则的网状图案，所述网状图案形成三角形、四
边形或蜂窝形的图案。
7.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述凹槽部在由所述精细图案线条形成的图案区域的至少一侧面上，还
包括追加图案线条。
8.根据权利要求7所述的用于胶印的移印版，其中，
所述追加线条的线宽为6μm以上且40μm以下。
9.根据权利要求7所述的用于胶印的移印版，其中，
所述追加图案线条中的至少一根，同时包含相互不同的线深。
10.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述精细图案线条用于印刷显示器装置的印刷部。
11.根据权利要求7所述的用于胶印的移印版，其中，
所述追加图案线条用于印刷显示器装置的边框部。
12.根据权利要求1所述的用于胶印的移印版，其中，
所述用于胶印的移印版包含光固化性树脂。
13.根据权利要求1所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：成知玹，金萨拉，李东炫，李承宪，黄智泳，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR