一种匀胶机用免清洗罩制造技术

本实用新型专利技术涉及到微纳米技术领域，尤其涉及一种匀胶机用免清洗罩。该匀胶机包括罩底、罩沿和安装孔，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及到微纳米
，尤其涉及一种匀胶机用免清洗罩。
技术介绍
匀胶机有很多种称谓，英文叫SpinCoater或者SpinProcessor，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。只是匀胶机由于旋转光刻胶使得匀胶机机台内壁有大量的光刻胶玷污清洗时不太容易清洁彻底，反而给本该便捷的工作带来了繁琐。为了解决上述技术问题，本技术设计了一种匀胶机用免清洗罩，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。
技术实现思路
为了克服
技术介绍
中存在的缺陷，本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底、罩沿和安装孔，所述罩底的外沿上设有罩沿，所述罩沿的高度为8厘米，所述罩底的中心设有安装孔，所述罩底上设有四个环形槽，所述罩底上均匀分布有十二条径向槽，相邻两个环形槽之间的距离为3厘米。本技术所涉及的一种匀胶机用免清洗罩，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。附图说明下面结合附图和实施例对本技术进一步说明。图1是本技术一种匀胶机用免清洗罩的结构示意图；图2是图1中A出的局部放大图；其中:1、罩底；2、罩沿；3、安装孔；4、环形槽；5、径向槽。具体实施方式现在结合附图对本技术作进一步详细的说明。附图为简化的示意图，仅以示意方式说明本技术的基本结构，因此其仅显示与本技术有关的构成。具体实施例，请参阅图1、图2，一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底1、罩沿2和安装孔3，所述罩底1的外沿上设有罩沿2，所述罩沿2的高度为8厘米，所述罩底1的中心设有安装孔3，所述罩底1上设有四个环形槽4，所述罩底1上均匀分布有十二条径向槽5，相邻两个环形槽4之间的距离为3厘米。本技术所涉及的一种匀胶机用免清洗罩，该清洗罩罩底上设有四个环形槽，还均匀分布有十二条径向槽，此方法设计的免清洗的罩子可以一次性使用，省力、省事又省时，也避免了清洗匀胶机机台的损耗，减少了劳力，降低了成本，简单耐用易安装。该新型匀胶机设计合理，使用方便快捷，适合推广使用。显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本专利技术创造的保护范围之中。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底（1）、罩沿（2）和安装孔（3），其特征在于：所述罩底（1）的外沿上设有罩沿（2），所述罩沿（2）的高度为8厘米，所述罩底（1）的中心设有安装孔（3），所述罩底（1）上设有四个环形槽（4），所述罩底（1）上均匀分布有十二条径向槽（5）。

【技术特征摘要】
1.一种匀胶机用免清洗罩，包括罩底（1）、罩沿（2）和安装孔（3），其特征在于：所述罩底（1）的外沿上设有罩沿（2），所述罩沿（2）的高度为8厘米，所述罩底（1）的中心设有安装孔（3），所述罩底（...

【专利技术属性】
技术研发人员：王云翔，
申请(专利权)人：苏州美图半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32