曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法技术

本发明专利技术提供一种曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法，通过在曝光机内增设第一清洗罩、第二清洗罩、清洗液提供设备、以及抽真空设备，在需要进行光罩清洗时，将第一清洗罩与第二清洗罩移动至光罩的正上方与正下方，再将第一清洗罩与第二清洗罩密封贴合，使得光罩位于第一清洗罩与第二清洗罩之间，对光罩进行清洗和干燥，在需要进行曝光时，将第一清洗罩与第二清洗罩移动至与光罩不重叠的区域，从而避免对曝光过程产生影响，能够在曝光机内直接进行光罩清洗，不需要拆装光罩，提升光罩清洗的效率，保持光罩洁净，提升产品产能和产品品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示制造
，尤其涉及一种曝光机及在曝光机内进行光罩清洗的方法。
技术介绍
在显示
，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。在平板显示器的制造过程中，会多次利用构图工艺。具体为，在涂有光刻胶的基板上方放置光罩(Mask)，然后利用曝光机对基板进行曝光，具体的，曝光机通过开启超高压水银灯发出紫外线(Ultraviolet，UV)光，将光罩上的图像信息转移到涂有光刻胶的基板表面上，基于光罩的图案，光刻胶会有被曝光的部分和未被曝光的部分。再利用显影液对光刻胶进行显影，即可去除光刻胶被曝光的部分，保留光刻胶未被曝光的部分(正性光刻胶)，或者去除光刻胶未被曝光的部分，保留光刻胶被曝光的部分(负性光刻胶)，从而使光刻胶形成所需的图形。在构图工艺的制作过程中，当UV光照射到基板上时，会造成基板上的起始剂断键形成小分子，小分子与溶剂相溶性较好，会溶解在溶剂中，并随溶剂挥发到空气中，进而附着在光罩上，造成光罩雾化。光罩雾化后，光罩上图案(Pattern)会产生变形，最终通过光罩形成的产品变形，影响产品品质。另外机台内环境问题也会导致光罩上形成有杂质(particle)，同样会影响产品品质。光罩脏污后就需要对光罩进行清洗，目前通常采用的清洗方法为：将光罩从曝光机上拆下，再搬运到光罩清洗机上进行清洗，洗完之后再安装到曝光机上。这种清洗方法需要将光罩经历多次的拆装过程及搬运过程，导致了光罩清洗的效率很低，对产能影响很大。另外，针对光罩雾化目前采用的清洗方法为定期清洗，但光罩雾化是持续过程，在未清洗前，产品品质会持续变差，影响产品品质的稳定性。而对杂质的清洗是不定期的，在发现杂质影响产品品质时就需要进行清洗，这种突发性的无规律清洗对于产能影响甚至比定期清洗更大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种曝光机，能够在曝光机内直接进行光罩清洗，提升光罩清洗的效率，保持光罩洁净，提升产品产能和产品品质。本专利技术的目的还在于提供一种在曝光机内进行光罩清洗的方法，能够提升光罩清洗的效率，保持光罩洁净，提升产品产能和产品品质。为实现上述目的，本专利技术首先提供了一种曝光机，包括：壳体、设于所述壳体内的光罩载台、分别设于所述壳体内的光罩载台的上下两侧的第一支架和第二支架、与所述第一支架活动连接的第一清洗罩、与所述第二支架活动连接的第二清洗罩、与所述第一清洗罩和第二清洗罩均连通的清洗液提供设备、以及与所述第一清洗罩和第二清洗罩均连通的抽真空设备；所述光罩载台的中间设有用于放置光罩的镂空部；所述第一清洗罩能够绕所述第一支架做轴向旋转并沿所述第一支架做竖直升降，所述第二清洗罩能够绕所述第二支架做轴向旋转并沿所述第二支架做竖直升降；清洗时，通过所述第一清洗罩的轴向旋转与第二清洗罩的轴向旋转使第一清洗罩与第二清洗罩分别位于光罩的正上方与光罩的正下方，通过所述第一清洗罩的竖直升降与第二清洗罩的竖直升降使第一清洗罩与第二清洗罩密封贴合，通过清洗液提供设备提供清洗液对位于第一清洗罩与第二清洗罩之间的光罩进行清洗，通过抽真空设备抽真空对清洗后的光罩进行干燥。所述第一清洗罩与第二清洗罩的罩口处分别设有第一底板与第二底板，所述第一底板与第二底板上均设有多个通孔，所述第一清洗罩与第二清洗罩的在其罩口处密封贴合，所述光罩位于第一底板与第二底板之间。所述清洗液提供设备提供的清洗液经由第一底板与第二底板上的通孔流到位于第一底板与第二底板之间的光罩上。所述曝光机正常曝光作业时，所述第一清洗罩与第二清洗罩位于与所述光罩不重叠的区域。所述第一清洗罩与第二清洗罩的罩口边缘设有密封胶条。本专利技术还提供一种在曝光机内进行光罩清洗的方法，包括如下步骤：步骤1、提供一曝光机，包括：壳体、设于所述壳体内的光罩载台、分别设于所述壳体内的光罩载台的上下两侧的第一支架和第二支架、与所述第一支架活动连接的第一清洗罩、与所述第二支架活动连接的第二清洗罩、与所述第一清洗罩和第二清洗罩均连通的清洗液提供设备、以及与所述第一清洗罩和第二清洗罩均连通的抽真空设备；所述光罩载台的中间设有镂空部；步骤2、在所述光罩载台的镂空部内放置光罩，所述第一清洗罩与第二清洗罩的分别绕所述第一支架与第二支架做轴向旋转，直至第一清洗罩与第二清洗罩分别位于光罩的正上方与光罩的正下方；步骤3、所述第一清洗罩沿所述第一支架竖直下降，所述第二第二清洗罩沿所述第二支架竖直上升，直至第一清洗罩与第二清洗罩密封贴合，将光罩容置于第一清洗罩与第二清洗罩之间；步骤4、清洗液提供设备提供清洗液对所述光罩进行清洗，清洗完成后抽真空设备对所述第一清洗罩与第二清洗罩进行抽真空，将所述第一清洗罩与第二清洗罩之间的清洗液全部抽出，使得光罩干燥。所述第一清洗罩与第二清洗罩的罩口处分别设有第一底板与第二底板，所述第一底板与第二底板上均设有多个通孔，所述第一清洗罩与第二清洗罩在其罩口处密封贴合，所述光罩位于第一底板与第二底板之间。所述步骤4中清洗液提供设备提供的清洗液经由第一底板与第二底板上的通孔流到位于第一底板与第二底板之间的光罩上。还包括步骤5、清洗完成后，所述第一清洗罩沿所述第一支架竖直上升，所述第二清洗罩沿所述第二支架竖直下降，直至第一清洗罩与第二清洗罩完全脱离，随后所述第一清洗罩与第二清洗罩的分别绕所述第一支架与第二支架做轴向旋转，直至所述第一清洗罩与第二清洗罩位于与所述光罩不重叠的区域，从而使得曝光机能够通过清洗后的光罩继续进行曝光作业。所述第一清洗罩与第二清洗罩的罩口边缘设有密封胶条。本专利技术的有益效果：本专利技术提供了一种曝光机，通过在曝光机内增设第一清洗罩、第二清洗罩、清洗液提供设备、以及抽真空设备，在需要进行光罩清洗时，将第一清洗罩与第二清洗罩移动至光罩的正上方与正下方，再将第一清洗罩与第二清洗罩密封贴合，使得光罩位于第一清洗罩与第二清洗罩之间，并通过清洗液提供设备向第一清洗罩与第二清洗罩之间提供清洗液，利用清洗液对光罩进行清洗，随后再利用抽真空设备将第一清洗罩与第二清洗罩之间的清洗液全部抽出，使得光罩干燥，在需要进行曝光时，将第一清洗罩与第二清洗罩移动至与光罩不重叠的区域，从而避免对曝光过程产生影响，能够在曝光机内直接进行光罩清洗，不需要拆装光罩，提升光罩清洗的效率，保持光罩洁净，提升产品产能和产品品质。本专利技术还提供了一种在曝光机内进行光罩清洗的方法，能够提升光罩清洗的效率，保持光罩洁净，提升产品产能和产品品质。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的曝光机的结构示意图暨本专利技术的在曝光机内进行光罩清洗的方法的步骤2的示意图；图2为本专利技术的在曝光机内进行光罩清洗的方法的步骤5的示意图；图3为本专利技术的曝光机中第一清洗罩与第二清洗罩密封贴合时的剖面示意图；图4为本专利技术的曝光机中第一清洗罩与第二清洗罩的立体示意图；图5为本本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机，其特征在于，包括：壳体(1)、设于所述壳体(1)内的光罩载台(2)、分别设于所述壳体(1)内的光罩载台(2)的上下两侧的第一支架(3)和第二支架(4)、与所述第一支架(3)活动连接的第一清洗罩(5)、与所述第二支架(4)活动连接的第二清洗罩(6)、与所述第一清洗罩(5)和第二清洗罩(6)均连通的清洗液提供设备(7)、以及与所述第一清洗罩(5)和第二清洗罩(6)均连通的抽真空设备(8)；所述光罩载台(2)的中间设有用于放置光罩的镂空部(21)；所述第一清洗罩(5)能够绕所述第一支架(3)做轴向旋转并沿所述第一支架(3)做竖直升降，所述第二清洗罩(6)能够绕所述第二支架(4)做轴向旋转并沿所述第二支架(4)做竖直升降；清洗时，通过所述第一清洗罩(5)的轴向旋转与第二清洗罩(6)的轴向旋转使第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)分别位于光罩的正上方与光罩的正下方，通过所述第一清洗罩(5)的竖直升降与第二清洗罩(6)的竖直升降使第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)密封贴合，通过清洗液提供设备(7)提供清洗液对位于第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)之间的光罩进行清洗，通过抽真空设备(8)抽真空对清洗后的光罩进行干燥。...

【技术特征摘要】
1.一种曝光机，其特征在于，包括：壳体(1)、设于所述壳体(1)内的光罩载台(2)、分别设于所述壳体(1)内的光罩载台(2)的上下两侧的第一支架(3)和第二支架(4)、与所述第一支架(3)活动连接的第一清洗罩(5)、与所述第二支架(4)活动连接的第二清洗罩(6)、与所述第一清洗罩(5)和第二清洗罩(6)均连通的清洗液提供设备(7)、以及与所述第一清洗罩(5)和第二清洗罩(6)均连通的抽真空设备(8)；所述光罩载台(2)的中间设有用于放置光罩的镂空部(21)；所述第一清洗罩(5)能够绕所述第一支架(3)做轴向旋转并沿所述第一支架(3)做竖直升降，所述第二清洗罩(6)能够绕所述第二支架(4)做轴向旋转并沿所述第二支架(4)做竖直升降；清洗时，通过所述第一清洗罩(5)的轴向旋转与第二清洗罩(6)的轴向旋转使第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)分别位于光罩的正上方与光罩的正下方，通过所述第一清洗罩(5)的竖直升降与第二清洗罩(6)的竖直升降使第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)密封贴合，通过清洗液提供设备(7)提供清洗液对位于第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)之间的光罩进行清洗，通过抽真空设备(8)抽真空对清洗后的光罩进行干燥。2.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)的罩口处分别设有第一底板(51)与第二底板(61)，所述第一底板(51)与第二底板(61)上均设有多个通孔，所述第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)在其罩口处密封贴合，所述光罩位于第一底板(51)与第二底板(61)之间。3.如权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述清洗液提供设备(7)提供的清洗液经由第一底板(51)与第二底板(61)上的通孔流到位于第一底板(51)与第二底板(61)之间的光罩上。4.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述曝光机正常曝光作业时，所述第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)位于与所述光罩不重叠的区域。5.如权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述第一清洗罩(5)与第二清洗罩(6)的罩口边缘设有密封胶条。6.一种在曝光机内进行光罩清洗的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一曝光机，包括：壳体(1)、设于所述壳体(1)内的光罩载台(2)、分别设于所述壳体(1)内的光罩载台(2)的上下两侧的第一支架(3)和第二支架(4)、与所述第一支架(3)活动连接的第...

【专利技术属性】
技术研发人员：张岳妍，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44