【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示
,尤其涉及一种阵列基板及包括该阵列基板的显示面板。
技术介绍
随着显示技术的发展,柔性显示面板得到越来越广泛的应用。现有技术中的柔性显示面板通常包括柔性基板以及位于柔性基板一侧的缓冲层等无机层、TFT和发光元件,其中,在所述柔性显示面板发生弯折时,所述无机层也会随之发生弯折,从而产生应力缺陷,影响TFT和发光元件的正常工作。
技术实现思路
为解决上述技术问题,本技术实施例提供了一种阵列基板及包括该阵列基板的显示面板,以解决所述显示面板在发生弯折时影响TFT和发光元件正常工作的问题。为解决上述问题,本技术实施例提供了如下技术方案:一种阵列基板,其特征在于,包括:柔性基板;位于所述柔性基板第一侧的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括源极、漏极、沟道以及与所述源极、所述沟道和所述漏极均绝缘的栅极;第一金属层,所述第一金属层包括与所述栅极电连接的栅极线;第二金属层,所述第二金属层位于所述薄膜晶体管远离所述柔性基板的一侧,所述第二金属层包括多条金属线,所述多条金属线包括数据线,所述数据线与所述源极或所述漏极电连接,所述数据线和所述栅极线绝缘交叉限定多个显示像素,所述数据线用于为所述显示像素提供数据信号;位于所述柔性基板第一侧且覆盖所述柔性基板第一侧表面的堆叠结构,所述堆叠结构包括多层无机层,所述多层无机层包括:位于所述柔性基板与所述薄膜晶体管之间的一层或多层缓冲层、位于沟道区和所述栅极之间的一层或多层栅绝缘层、位于所述薄膜晶体管和所述第二金属层之间的第一隔离层;其中,所述多层无机层中至少一层无机层对应所述显示区的位置具有多个开口。一种柔性显示面板,包括:上 ...
【技术保护点】
一种阵列基板,其特征在于,包括:柔性基板;位于所述柔性基板第一侧的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括源极、漏极、沟道以及与所述源极、所述沟道和所述漏极均绝缘的栅极;第一金属层,所述第一金属层包括与所述栅极电连接的栅极线;第二金属层,所述第二金属层位于所述薄膜晶体管远离所述柔性基板的一侧,所述第二金属层包括多条金属线,所述多条金属线包括数据线,所述数据线与所述源极或所述漏极电连接,所述数据线和所述栅极线绝缘交叉限定多个显示像素,所述数据线用于为所述显示像素提供数据信号;位于所述柔性基板第一侧且覆盖所述柔性基板第一侧表面的堆叠结构,所述堆叠结构包括多层无机层,所述多层无机层包括:位于所述柔性基板与所述薄膜晶体管之间的一层或多层缓冲层、位于沟道区和所述栅极之间的一层或多层栅绝缘层、位于所述薄膜晶体管和所述第二金属层之间的第一隔离层;其中,所述多层无机层中至少一层无机层对应所述显示区的位置具有多个开口。
【技术特征摘要】
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:柔性基板;位于所述柔性基板第一侧的薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括源极、漏极、沟道以及与所述源极、所述沟道和所述漏极均绝缘的栅极;第一金属层,所述第一金属层包括与所述栅极电连接的栅极线;第二金属层,所述第二金属层位于所述薄膜晶体管远离所述柔性基板的一侧,所述第二金属层包括多条金属线,所述多条金属线包括数据线,所述数据线与所述源极或所述漏极电连接,所述数据线和所述栅极线绝缘交叉限定多个显示像素,所述数据线用于为所述显示像素提供数据信号;位于所述柔性基板第一侧且覆盖所述柔性基板第一侧表面的堆叠结构,所述堆叠结构包括多层无机层,所述多层无机层包括:位于所述柔性基板与所述薄膜晶体管之间的一层或多层缓冲层、位于沟道区和所述栅极之间的一层或多层栅绝缘层、位于所述薄膜晶体管和所述第二金属层之间的第一隔离层;其中,所述多层无机层中至少一层无机层对应所述显示区的位置具有多个开口。2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述开口贯穿所述无机层。3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,至少一层所述缓冲层具有开口,所述缓冲层的开口在所述阵列基板所在平面的正投影与所述薄膜晶体管在所述阵列基板所在平面的正投影不交叠。4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,至少一层所述栅绝缘层具有开口,所述栅绝缘层的所述开口在所述阵列基板所在平面的正投影与所述薄膜晶体管在所述阵列基板所在平面的正投影不交叠。5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,至少一层所述第一隔离层具有开口;所述第一金属层与所述第二金属层在垂直于所述阵列基板所在平面的方向上具有第一交叠区域;所述第一隔离层的开口在所述阵列基板所在平面的正投影与所述第一交叠区域在所述阵列基板所在平面的正投影不交叠。6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第二金属层背离所述第一隔离层一侧设置有覆盖所述第二金属层的一层或多层钝化层;至少一层所述钝化层具有开口;所述钝化层的开口在所述阵列基板所在平面的正投影与所述第二金属层的所述多条金属线在所述阵列基板所在平面的正投影不交叠。7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板还包括:第二隔离层,所述第二隔离层位于所述栅极和所述第一隔离层之间;电容金属层,所述电容金属层位于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:冷伶俐,世良贤二,陈海晶,
申请(专利权)人:上海天马微电子有限公司,天马微电子股份有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
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