带有可调泵装置的真空处理设备制造方法及图纸

一真空处理设备，设在一用于对板状基片连续覆膜的覆膜线内，所述板状基片沿覆膜线连续运动，所述覆膜线优选为一玻璃覆膜线，其带有至少一个、优选为多个的连续设置的真空工作间（１）或工作间区域（２至８、１７），这些真空工作间或工作间区域通过至少一个、优选为多个的抽空设备（２１）抽空，并且至少一个工作间或工作间区域在工作间顶部设有可拆卸的盖体（２０，３０），至少有一个抽空设备与盖体（２０，３０）连接，该盖体构造以形成一盖体空间（２８）并且在工作室或工作室区域上同盖体空间一同突出。

Vacuum treatment equipment with adjustable pump device

A vacuum processing device, in a line of film for plate type substrate continuous laminating within the plate-like substrate along the film line continuous movement, the film is preferably a glass coated wire line, with at least one, preferably a plurality of continuous vacuum set (1) regional workshop or work (2 to 8, 17), the vacuum working and working space area through to at least one device, preferably multiple (21) time, and at least one work or work area in the workshop is arranged at the top of the cover body can be disassembled (20, 30), at least one vacuum equipment and the cover body (20, 30) connected with the cover body structure to form a cover space (28) and in the studio or workshop area with a cover body with prominent space.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一如权利要求1前序部分所述的真空处理设备和其一可拆卸的盖体。
技术介绍
真空处理设备和特别是用于大面积平板状或盘状基板如建筑玻璃的覆膜线(coating line)是在现有技术中熟知的，为了被提供例如热隔离层或其类似物，所述基板被沿着覆膜线连续地移动。在这些设备中一个接一个地设置有大量的工作间，从而连续地实施不同的加工和覆膜操作，有必要在用于覆膜加工的多个处理间内形成所谓的真空条件，也就是说，具有非常低压力的气氛。为了获得低处理压力，习惯上使用两不同种类的泵-首先是涡流分子泵，其次是扩散泵，特别是油扩散泵。这些与不同级泵联合使用的泵产生覆膜过程所需的真空或高真空条件，因此这些泵对于覆膜线是至关重要的。因为涡流分子泵和扩散泵的机构和工作方式非常不同，现有技术的覆膜线或真空装置只能被设计成适用于一种泵。尽管涡流分子泵通常竖直地安装在真空装置的上方，但是它们可以通过它们某一部分的法兰以各种方式安装到真空装置上；由于它们的工作方式，扩散泵和特别是油扩散泵，相比较而言，通常用法兰直接连接至加工间，这样，它们可被悬挂或处于垂直位置。由于这种固定的结构，及泵的布置的不同的固有特性和定位，对于扩散泵的后来的位置改变或甚至由一种泵换为另一种泵是不再可能的。要做到这点，将必须用砂轮切割机打开这种真空装置的工作间，并拆除这些扩散泵然后通过焊上其它设备组件来更换它们。
技术实现思路
本专利技术的目是生产一种真空装置，且特别是一种覆膜线，优选是玻璃覆膜线，该覆膜线在所用的真空泵和它们的定位是可变的。另外，这种装置应该是容易装配且在工作方面是有效的。这一目的通过具有权利要求1的技术特征的真空处理装置和真空处理装置的工作间的盖体装置实现，所谓的盖体装置具有权利要求11的技术特征。在此基础上所做的有益的开发构成从属权利要求的主题。专利技术者认识到如果用于涡流分子泵的公知形式的装置(也就是在一个可拆卸的加工间的盖体上)也可以用于油扩散泵，那么抽空设备的可变装置和特别是甚至不同种类的真空泵之间的更换应该是特别容易的。根据本专利技术，以简单的方式通过构造一真空处理工作间或工作间区域(工作舱)的盖体可以实现这一目的，这样，盖体可装入一盖体空间(工作舱盖体)，经过该盖体空间，可实现从工作间通过该盖体进行一定量的的输送。通过使盖体具有足够气导的方式，可以保证使用扩散泵均匀抽空该装置。扩散泵特别是油扩散泵的连接设备能够设置在盖体的侧部或底部，扩散泵通过有足够高的气导的适当的适配器连接。适配器在盖体和泵之间包括一个直线连接或一个角形(corner-type)连接。优选将适配器装备所谓的挡板，该挡板通过冷却的隔离板(baffle plate)阻止油进入到盖体空间内。带有封闭盖体空间的工作间盖体优选伸出在工作间上方，这样，泵、供给管线和类似的装置不仅能够从顶部和侧部安装，而且特别是也可以从下部安装。这种方式可特别容易地将油扩散泵直接或通过适合的适配装置安装在盖体上，并且，通过扩散泵特别是油扩散泵抽出盖体下工作间或工作舱的空气也特别容易。已经证明如果盖体横向伸出，也就是说，横向于基片传送方向、在工作间的一侧但优选两侧伸出是有益的，因为这一布置，特别是在工作间的两侧的布置是一种扩散泵的简单布置方式，并且有利于调整盖体和工作间内的气流。设置带有相应于油扩散泵的连接设备的盖体是有益的，这些连接设备位于伸出区域的下侧，且优选地设计成如果盖体被插入而不安装任何扩散泵时它们能够被封闭。用于其它泵特别是涡流分子泵的附加的连接设备可以类似方式设于盖体顶部，这样，可对涡流分子泵和油扩散泵使用一个相同的盖体。当然，这种设置在盖体顶部的涡流分子泵的连接设备被构造得能够以真空密闭方式封闭。因为加工工具通常也通过加工工作间顶部的开口装入，或这些加工工具被安装在用于封闭这些开口的合适的盖体上，所以根据本专利技术，另外的或作为替换的、位于同一或优选地不同结构的盖体的油扩散泵能够保证特别是可调节地使用在基本设计上通常几乎相同的真空处理装置的工作舱或工作间。依靠正处于讨论中的应用或真空处理装置的结构，工作间和工作舱由适合的盖体封闭，举例来说，可通过带有涡流分子泵的扁平盖体、设置的作为附加或替换带有加工工具的盖体、或设置的作为附加或替代带有扩散泵的工作间盖体等等。通过更换工作间或工作间区域的盖体，可以容易地实现重新设置或转换。如果，例如，使用油扩散泵代替涡流分子泵抽空工作间，将相应于涡流分子泵的盖体更换为扩散泵的盖体。一种特别简单的、用于形成一个气体输送空间或盖体空间的盖体的结构可以通过使用立方体形或盒子形设计实现，在这种结构中除了前面所述的用于泵设置的连接设备，在盖体的下部仅有必要设置一适合的开口用于连接真空工作间或真空工作间的工作舱。根据一个有利的实施例，盖体上设置至少一个节流阀，通过该方式可以设置和调节所连接的抽空设备的抽空容量。这样优选的是为每一个连接一种抽空设备的连接设备设置一分立的节流阀，所属节流阀可以例如位于与连接设备相对的一边。根据另一个有利的实施例，所述节流阀具有一能够移动的封闭的设备，例如通过一与连接设备的开口相关的线性驱动器，也就是与抽空设备相关的，并且，在极限情况中能够封闭连接设备中的开口且因此也连接抽空设备。为了使用连接至盖体的抽空设备抽空不同的工作间区域或工作舱区域，有益的是盖体内有分隔或导流的板(隔板(partitions))。这样设置是有益的，例如，如果工作间区域(工作舱)设置成气体隔离段的部分，并且邻近该工作舱的工作间或工作间区域经由该工作腔的一部分被抽空，同时该工作间的其他部分被直接抽空。在这种设置中，在工作舱中也设置相应于盖体中隔板的隔板。根据优选实施例，在盖体空间中可以几乎对角地设置一隔板，以允许通过两个横向布置的抽空设备抽空两个不同的区域。附图说明下面将结合附图对本专利技术的优选实施例进行详细说明，以解释本专利技术进一步的优点、特性和特征。这些附图实际上是单纯的图示。图1是玻璃覆膜线在基片传送方向的局部剖视的侧视图；图2是穿过图1的玻璃覆膜线且横向于传送方向的剖视图；图3是一玻璃覆膜线和/或工作间区域的另一实施例在基片传输方向上的部分剖视的侧视图，为清晰起见在图中未示出某些构件；图4是相应于图3的但示出了在图3中未示出的一些组件的视图；图5是一盖体的俯视图，其中通过示意图示出了扩散泵的连接装置；图6是带有隔板的玻璃覆膜线的俯视图；扩散泵的连接装置通过示意图示出。具体实施例方式图1所示为连续工作的玻璃覆膜线的工作间1的部分剖视的侧视图，该玻璃覆膜线包括本质上基本设计相同的七个工作舱2至8。这些在基本设计上实际相同且因此应用于各种用途的工作舱配备了不同的加工工具(13和14)，以应用于覆膜加工(工作舱3、5和7)的各个阶段或另外作为泵工作舱(工作舱2、4、6和8)，以用于在工作间1或工作舱2到8中产生覆膜加工所需的真空条件；泵工作舱(2、4、6、8)也抽空邻近的加工工作舱。对于一个完整的玻璃覆膜线来说，可以连续地布设几个这种工作间，这些工作间通过成形为工作间凸缘的工作间壁9和10以真空密封的形式相互连接。这些单独的工作间2到8通过隔离壁16将彼此分开，从而阻止这些单独的工作间之间的任何空气交换。特别是在一个覆膜工序和另一个覆膜工序相邻的位置，这一点是基本文档来自技高网...

【技术保护点】
一真空处理设备，设在一用于对板状基片连续覆膜的覆膜线内，所述板状基片沿覆膜线连续运动，所述覆膜线优选为一玻璃覆膜线，其带有至少一个、优选为多个的连续设置的真空工作间（１）或工作间区域（２至８、１７），这些真空工作间或工作间区域通过至少一个、优选为多个的抽空设备（２１）抽空，并且至少一个工作间或工作间区域在工作间顶部设有可拆卸的盖体（２０，３０），至少有一个抽空设备与盖体（２０，３０）连接，其特征在于：该盖体构造以形成一盖体空间（２８）并且所述盖体带有至少一个用于扩散泵、优选为油扩散泵的连接装置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：安德烈亚斯绍尔，格特勒德林，
申请(专利权)人：应用薄膜有限责任与两合公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]