窗口式氮化硅板制造技术

本实用新型专利技术涉及一种窗口式氮化硅板，包括有硅垫底层，其特点是：硅垫底层的上方外围设置有单晶硅外框，硅垫底层上分布有凹槽结构，凹槽内分布有若干单晶硅支架梁，若干单晶硅支架梁相互之间间隔排布，构成框架阵列，框架阵列之间形成氮化硅窗口，硅垫底层的上方、硅垫底层的下方、单晶硅支架梁的顶端，均分布有氮化硅膜层。由此，单晶硅支架梁的高度与宽度采用精简化设计，保证承载能力的同时，无需向外延长发展，降低了使用成本。并且，即便是某些特殊情况下，需要进行外延分布，高度亦可以超过20um，减少了规格上的限制。采用框架阵列的构造，整体结构稳定，有效承载外界应力。制造便利，实施工艺简单，实际投产的成品优良率高。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种硅板结构，尤其涉及一种窗口式氮化硅板。
技术介绍
X射线荧光分析仪、SEM的能量色散谱分析系统(EDS)、X射线仪器的太空应用和许多其他X射线设备均需要优质的耐压及耐受高低能量X射线(软X射线)的透过率窗口。X射线窗口需要满足超薄、耐高温、耐振动、机械强度高、支撑结构所占面积小于25％以及能够耐受至少一个大气压强差等要求，以保证X射线的透射率和X射线设备的真空要求。这就对X射线窗口的材料性能、结构设计与制备工艺提出了较高的要求。低原子序数的金属铍具有良好的X射线透过率，但是其机械强度较差，薄膜厚度至少要达到1um，导致整体的X射线透过率极低。另外，铍的耐腐蚀性较差，钝化后会导致X射线透过率进一步降低。人造金刚石薄膜是另一种X射线窗口，相对于金属，它有很多优点。例如机械强度高并且能够耐受高温。但是人造金刚石薄膜的厚度仍然是几百个纳米量级，导致X射线在282eV到800eV部分具有显著的吸收。聚合物也可作为X射线窗口的常用材料，其优点在于几百纳米厚的柔性聚合物可以很好地透过X射线，并且能够耐受不同的气压差。但是，聚合物的耐温性较差，极大限制了其应用条件。同时由于聚合物对于本文档来自技高网...

【技术保护点】
窗口式氮化硅板，包括有硅垫底层，其特征在于：所述硅垫底层的上方外围设置有单晶硅外框，所述硅垫底层上分布有凹槽结构，所述凹槽内分布有若干单晶硅支架梁，所述若干单晶硅支架梁相互之间间隔排布，构成框架阵列，所述框架阵列之间形成氮化硅窗口，所述硅垫底层的上方、硅垫底层的下方、单晶硅支架梁的顶端，均分布有氮化硅膜层。

【技术特征摘要】
1.窗口式氮化硅板，包括有硅垫底层，其特征在于：所述硅垫底层的上方外围设置有单晶硅外框，所述硅垫底层上分布有凹槽结构，所述凹槽内分布有若干单晶硅支架梁，所述若干单晶硅支架梁相互之间间隔排布，构成框架阵列，所述框架阵列之间形成氮化硅窗口，所述硅垫底层的上方、硅垫底层的下方、单晶硅支架梁的顶端，均分布有氮化硅膜层。2.根据权利要求1所述的窗口式氮化硅板，其特征在于：所述凹槽结构为倒棱形凹槽。3.根据权利要求1所述的窗口式氮化硅板，其特征在于：所述单晶硅支架梁为梯形支架梁。4.根据权利要求1所述的窗口式氮化硅板，其特征在于：所述单晶硅外框为矩形框，...

【专利技术属性】
技术研发人员：王建平，
申请(专利权)人：苏州原位芯片科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32