掩膜板及其制造方法、蒸镀掩膜板组件及其制造方法技术

技术编号:14031011 阅读:362 留言:0更新日期:2016-11-19 21:01
本发明专利技术提供了一种掩膜板、蒸镀掩膜板组件、掩膜板的制造方法及蒸镀掩膜板组件的制造方法,所述掩膜板用于对显示基板进行蒸镀,包括相对的第一面和第二面,在所述第一面上设置有呈矩阵排列的多个凹槽,在每一所述凹槽的中部设置有开口部,所述开口部对应于显示基板上的显示区域。通过设置两张掩膜板,可以使得在进行精细金属掩膜板FMM张网时,圆形等非规则形状的开口部不会产生应力不均和褶皱的现象,使得精细金属掩膜板FMM的设计不受显示基板的显示区域形状和尺寸的影响;此外,凹槽减薄区可以减轻辅助掩膜板的重量,以减少重力下垂的现象。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
,尤其是涉及一种掩膜板、蒸镀掩膜板组件、掩膜板的制造方法及蒸镀掩膜板组件的制造方法。
技术介绍
在OLED(Organic Light Emission Display,有机电致发光二极管)制造技术中,真空蒸镀用的掩膜板是至关重要的部件,掩膜板的质量直接影响着生产制造成本和产品质量。OLED蒸镀过程用的掩膜板中,精细金属掩膜板(Fine Metal Mask,简称:FMM)是其中最关键的装备之一。FMM用于蒸镀发光层材料,在背板上形成像素图形,因此,FMM质量的好坏直接关系到屏幕的显示效果。随着AMOLED显示屏的快速发展,已经应用到人们生活中的各个领域,尤其,最近在智能可穿戴领域的需求量迅速增多,并且显示屏形状已不仅仅是传统的方形屏幕,而是更具有设计感的形状的圆形等形状。这种例如圆形的OLED产品对于蒸镀掩膜板的要求比较高,因为圆形的FMM在张网受力时应变不均匀,易发生变形及褶皱现象,从而导致混色不良。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种掩膜板、蒸镀掩膜板组件、掩膜板制造方法及蒸镀掩膜板组件的制造方法,可以解决圆形等非规则形状的显示屏在FMM张网过程中的应变不均、褶皱等问题,使得FMM的设计不受显示屏形状和尺寸的影响。本专利技术所提供的技术方案如下:一种掩膜板,用于对显示基板进行蒸镀;所述掩膜板包括相对的第一面和第二面,在所述第一面上设置有呈矩阵排列的多个凹槽,在所述凹槽的中部设置有开口部,所述开口部对应于显示基板上的显示区域。进一步的,所述凹槽的开口形状为矩形。进一步的,所述凹槽的开口形状为正方形。进一步的,所述开口部的开口形状为圆形或椭圆形。进一步的,围绕所述开口部的外周边缘一圈形成有预设宽度的凸起部。进一步的,所述凸起部的预设宽度为2~3mm。进一步的,所述凹槽的深度为所述掩膜板的第一面至第二面之间的厚度的一半。进一步的,所述掩膜板还包括对应于每一所述凹槽的对位部。进一步的,所述对位部包括在每一所述凹槽的四角位置设置的对位孔。进一步的,相邻两个凹槽之间间距为1~2mm。一种蒸镀掩膜板组件,包括:第一掩膜板,所述第一掩膜板为如上所述的掩膜板;叠放于所述第一掩膜板之上的第二掩膜板,所述第二掩膜板为精细金属掩膜板FMM,其中所述第一掩膜板的第一面面向所述第二掩膜板设置。进一步的,所述蒸镀掩膜板组件还包括框架,所述第一掩膜板焊接在所述框架上,所述第二掩膜板焊接于所述第一掩膜板上。一种掩膜板制造方法,用于制造如上所述的掩膜板,所述方法包括:在所述掩膜板的第一面上形成呈矩阵排列的多个凹槽,每一所述凹槽中部形成有开口部,所述开口部对应于显示基板上的显示区域。进一步的,在所述掩膜板的第一面上形成呈矩阵排列的凹槽,包括:采用半刻蚀工艺形成多个所述凹槽。一种如上所述的蒸镀掩膜板组件的制造方法,所述方法包括:用张网机将第一掩膜板的四边同时进行张网拉伸,焊接在框架的四边上;将第二掩膜板在张网完成的第一掩膜板上进行张网焊接,使得第二掩膜板紧贴第一掩膜板的第一面,并叠放于第一掩膜板上。进一步的,所述方法中,用张网机将第一掩膜板的四边同时进行张网拉伸,焊接在框架的四边上时,控制第一掩膜板的下垂量小于150um。本专利技术所带来的有益效果如下:上述方案,在对显示基板进行蒸镀时,可以设置两张掩膜板,一张掩膜板为精细金属掩膜板FMM,另一张掩膜板为为本专利技术所提供的掩膜板,作为辅助掩膜板,主要用于限定显示区域的形状,在该掩膜板上设置凹槽减薄区,在凹槽减薄区内又设置有与显示基板的圆形等非规则形状的显示区域所对应的开口部,来限定显示区域的形状,由于凹槽为规则的形状(如矩形形状),可以使得在进行精细金属掩膜板FMM张网时,圆形等非规则形状的开口部不会产生应力不均和褶皱的现象;并且,该掩膜板是以整张的形式进行张网,除了像素显示区域所对应的位置设置开口外,其余区域能够完全遮挡有机材料,起限定显示区域形状的作用,使得精细金属掩膜板FMM的设计可以不受显示基板的显示区域形状和尺寸的影响;此外,凹槽减薄区可以减轻辅助掩膜板的重量,以减少重力下垂的现象。附图说明图1表示本专利技术实施例中提供的掩膜板的结构示意图;图2表示本专利技术实施例中提供的掩膜板中一个凹槽结构示意图;图3表示本专利技术实施例中提供的掩膜板张网完成之后的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例的附图,对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。在现有技术中,显示基板蒸镀时都是采用一张精细金属掩膜板FMM,在该精细金属掩膜板FMM上具有与显示基板上的显示区域形状相同的图案部,在该图案部上又设置有与像素对应的开口部,对于显示基板上显示区域为圆形等非规则形状的情况,在精细金属掩膜板FMM进行张网时,由于图案部的形状为圆形等非规则形状,会发生应力不均以及褶皱等现象,进行导致混色不良。针对上述现有技术中显示基板蒸镀时所采用的掩膜板在蒸镀具有圆形等非规则形状显示区域的显示基板时,会存在精细金属掩膜板FMM张网时应力不均、褶皱等技术问题,本专利技术提供了一种掩膜板,可以解决圆形等非规则形状的显示屏在精细金属掩膜板FMM张网过程中的应变不均、褶皱等问题,使得精细金属掩膜板FMM的设计不受显示屏形状和尺寸的影响。本专利技术实施例中提供的掩膜板用于对显示基板进行蒸镀,如图1和图2所示,所述掩膜板包括相对的第一面和第二面,在所述第一面上设置有呈矩阵排列的多个凹槽100,在所述凹槽100的中部设置有开口部200,所述开口部200对应于显示基板上的显示区域。本专利技术中,在对显示基板进行蒸镀时,可以设置两张掩膜板,其中一张为精细金属掩膜板FMM,其上布设有像素开口图案,用于蒸镀有机材料;另一张为本专利技术实施例所提供的掩膜板20,作为辅助掩膜板20,叠放在精细金属掩膜板FMM下方,其第一面面向精细金属掩膜板FMM设置,主要起到阻挡有机材料和支撑精细金属掩膜板FMM的作用,用于限定显示区域的形状,在该辅助掩膜板20上设置凹槽100减薄区,在凹槽100减薄区内又设置有与显示基板上的圆形等非规则形状的各显示区域所对应的多个开口部200,来限定各显示区域的形状,由于凹槽100为规则的形状(如矩形形状),可以使得在进行精细金属掩膜板FMM张网时,圆形等非规则形状的开口部200不会产生应力不均和褶皱的现象;并且,该掩膜板20是以整张的形式进行张网,除了像素显示区域所对应的位置设置开口外,其余区域能够完全遮挡有机材料,起限定显示区域形状的作用,使得精细金属掩膜板FMM的设计可以不受显示基板的显示区域形状和尺寸的影响;此外,凹槽100减薄区可以减轻辅助掩膜板20的重量,以减少重力下垂的现象,使得掩膜板20的下垂量更容易控制在150um以内,并且能够减小张网拉力,减轻开口部200的变形量。需要说明的是,本专利技术所提供的掩膜板20优选应用于蒸镀工艺中,作为蒸镀掩膜板20使用,还可以应用于其他工艺,例如光刻工艺中,作为光刻掩膜板20使用。还需要说明的是,本专利技术所提供的掩膜板20可以是与精细金属掩膜板FMM一起配合使用本文档来自技高网...
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【技术保护点】
一种掩膜板,用于对显示基板进行蒸镀;其特征在于,包括相对的第一面和第二面,在所述第一面上设置有呈矩阵排列的多个凹槽,在所述凹槽的中部设置有开口部,所述开口部对应于显示基板上的显示区域。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,用于对显示基板进行蒸镀;其特征在于,包括相对的第一面和第二面,在所述第一面上设置有呈矩阵排列的多个凹槽,在所述凹槽的中部设置有开口部,所述开口部对应于显示基板上的显示区域。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述凹槽的开口形状为矩形。3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述凹槽的开口形状为正方形。4.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述开口部的开口形状为圆形或椭圆形。5.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,围绕所述开口部的外周边缘一圈形成有预设宽度的凸起部。6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述凸起部的预设宽度为2~3mm。7.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述凹槽的深度为所述掩膜板的第一面至第二面之间的厚度的一半。8.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板还包括对应于每一所述凹槽的对位部。9.根据权利要求8所述的掩膜板,其特征在于,所述对位部包括在每一所述凹槽的四角位置设置的对位孔。10.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,相邻两个凹槽之间间距为1~2mm。11.一种蒸镀掩膜板组件,其特征在于,包括:第一掩膜板,所述第一掩膜板为如权利要求1至10任一项所述的掩膜板;...

【专利技术属性】
技术研发人员:白珊珊
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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