偏移校准方法及系统技术方案

本发明专利技术提供了一种偏移校准方法及系统，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。本发明专利技术提供的偏移校准方法及系统，能够校准背板的预设位置和掩膜板的开口之间的偏移量(Offset)，从而可以避免混色和和不良品的出现。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于显示
，具体涉及一种偏移校准方法及系统。
技术介绍
目前，有LCD、OLED、PDP和电子墨水等多种显示板，其中，OLED显示板借助轻薄、低功耗、高对比度、高色度域以及可柔性显示等优点，作为下一代显示器的发展趋势。OLED显示板包括PMOLED和AMOLED两种类型，其中AMOLED显示包括LTPS背板+精细金属掩膜(FMM Mask)方式和Oxide背板+WOLED+彩膜两种方式，前者主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应监控器和电视等应用。现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。在采用金属掩膜板在背板上进行蒸镀时，需要将金属掩膜板上的开口与背板上的预设电极位置进行准确对位，以减小混色和不良品的出现，从而提高生产良率。在实际应用中，由于每张金属掩膜板的焊接情况不一致，且蒸镀腔室和金属掩膜板的匹配精度不高，因此，在初次对位完成之后，并不能使得金属掩膜板的开口和背板的预设电极位置准确对位。为此，目前亟需一种校准金属掩膜板的开口和背板的预设电极位置的方法和系统。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提出了一种偏移校准方法及系统。为解决上述问题之一，本专利技术提供了一种偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。优选地，执行上述步骤两次，在第一次执行时，所述背板采用测试背板；在第二次执行时，所述背板采用工艺背板。优选地，所述测试背板为白玻璃。优选地，在第二次执行时，所述测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标，包括：对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。优选地，所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；θ为所述旋转角度；ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。优选地，所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys； R = ( X m 2 + Y m 2 ) ; ]]>X’＝R*cos(θ1+θ2)；Y’＝R*sin(θ1+θ2)；θ2＝arc tan(Ym/Xm)；θ1为所述旋转角度；ΔX2＝X’-Xm；ΔY2＝Y’-Ym；ΔX3＝ΔX1+ΔX2；ΔY3＝ΔY1+ΔY2；ΔX4＝ΔX3+ΔX；ΔY4＝ΔY3+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。本专利技术还提供了一种偏移校准系统，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，包括测量模块、校准量获得模块和调整模块：其中所述测量模块用于在基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀后，测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；所述校准量获得模块用于根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；所述调整模块用于根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。优选地，还包括图像获取模块，所述图像获取模块用于对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；所述测量模块用于测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。优选地，所述校准量获得模块被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；θ为所述旋转角度；ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。优选地，所述校准量获得模块被设置成：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys； R = ( X m 2 + Y m 2 ) ; ]]>X’＝R*cos(θ1+θ2)；Y’＝R*sin(θ1+θ2)；θ2＝arc tan(Ym/Xm)；θ1为所述旋转角度；ΔX2＝X’-Xm；ΔY2＝Y’-Ym；ΔX3＝ΔX1+ΔX2；ΔY3＝ΔY1+ΔY2；ΔX4＝ΔX3+ΔX；ΔY4＝ΔY3+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX4，ΔY4分别为在基于θ1、ΔX、ΔY校准之后沿所述坐标系的X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX4，ΔY4满足偏移要求的情况下计算校准所需的所述旋转角度θ1和所述平移量ΔX、ΔY。本专利技术具有以下有益效果：本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，其特征在于，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。

【技术特征摘要】
1.一种偏移校准方法，用于校准背板上的预设位置和掩膜板上开口之间的偏移，其特征在于，包括以下步骤：基于所述背板和所述掩膜板的初始位置进行一次蒸镀；测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标；根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在偏移量满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量；根据所述旋转角度和所述平移量调整所述背板或掩膜板。2.根据权利要求1所述的偏移校准方法，其特征在于，执行上述步骤两次，在第一次执行时，所述背板采用测试背板；在第二次执行时，所述背板采用工艺背板。3.根据权利要求2所述的偏移校准方法，其特征在于，所述测试背板为白玻璃。4.根据权利要求2所述的偏移校准方法，其特征在于，在第二次执行时，所述测量所述背板上的多个预设位置以及与该预设位置一一对应形成蒸镀位置在所在平面内的预设坐标系中的坐标，包括：对蒸镀后的所述背板上每个单元的不同位置分别获取一张图片；测量每张图片中的至少一个所述预设位置和与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标。5.根据权利要求1所述的偏移校准方法，其特征在于，所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys；ΔX2＝(cosθ-1)*Xm-Ym*sinθ；ΔY2＝Xm*sinθ+(cosθ-1)*Ym；θ为所述旋转角度；ΔX3＝ΔX1+ΔX2+ΔX；ΔY3＝ΔY1+ΔY2+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所述平移量；ΔX3，ΔY3分别为在基于θ、ΔX、ΔY校准之后沿X轴和Y轴的偏移量；在所有的预设位置对应的ΔX3，ΔY3满足偏移要求的情况下获得校准所需的所述旋转角度θ和所述平移量ΔX、ΔY。6.根据权利要求1所述的偏移校准方法，其特征在于，所述根据测量的多个所述预设位置和与该预设位置一一对应的所述蒸镀位置的坐标，获得在满足偏移要求的情况下校准所需的旋转角度和平移量，包括：测量的每个所述预设位置的坐标为(Xs,Ys)以及与该预设位置一一对应的蒸镀位置的坐标为(Xm,Ym)；ΔX1＝Xm-Xs；ΔY1＝Ym-Ys； R = ( X m 2 + Y m 2 ) ; ]]>X’＝R*cos(θ1+θ2)；Y’＝R*sin(θ1+θ2)；θ2＝arc tan(Ym/Xm)；θ1为所述旋转角度；ΔX2＝X’-Xm；ΔY2＝Y’-Ym；ΔX3＝ΔX1+ΔX2；ΔY3＝ΔY1+ΔY2；ΔX4＝ΔX3+ΔX；ΔY4＝ΔY3+ΔY；ΔX、ΔY分别为沿所述坐标系的X轴和Y轴的所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宝军，金龙，张金中，黄俊杰，唐富强，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京;11