一种釉面砖废渣循环利用的方法技术

本发明专利技术涉及一种釉面砖废渣循环利用的方法，利用釉面砖废渣制备二次烧陶质釉面砖，包括如下步骤：坯体原料的配制：将按质量百分比计含有30～50%釉面砖废渣的坯体原料混合球磨后制粉形成粉料，其中所述坯体原料使坯体烧成后的化学成分为：SiO2：66～71%；Al2O3：16～18.5%；Fe2O3：0.1～1.5%；TiO2：0.1～0.5%；CaO：5.0～8.5%；MgO：0.5～2.0%；K2O：1.2～2.5%；Na2O：1.0～2.2%；将所得的粉料成型、干燥、素烧、施底釉、施面釉、釉烧制得二次烧陶质釉面砖。本发明专利技术既可以解决抛光的釉面砖厂家大量釉面砖废渣面临处理的问题，又可以节约大量的原材料。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷建材领域，具体涉及一种釉面砖废渣循环利用的方法。
技术介绍
近几年来，在陶瓷行业飞速发展的同时，抛光釉面砖在市场上占有率越来越高，在带动经济发展的同时，也带来了令人困扰的问题，那就是砖坯表面经磨削后产生的大量废渣面临处理，以前大都采取填埋的方式，随着国家对经济实现可持续发展的严格要求，采取一种更科学的方式处理陶瓷行业的废渣显得尤为迫切。众所周知，陶瓷砖分无釉系列和有釉系列，在抛光釉面砖进入市场之前，行业内所称的抛光砖实则是指抛光的无釉砖系列，抛光废渣也是指抛光的无釉砖产生的废渣，随着抛光釉面砖产品的普及，也产生了大量的釉面砖废渣。由于无釉砖和釉面砖之间在工艺、性能上有明显的差别，砖坯表面在抛光过程中使用的磨块(包括磨块的组成、结构)也完全不同，这也造成了抛光废渣和釉面砖废渣在性能上有较大的差异。目前市场上有很多涉及利用陶瓷废渣的相关专利，如申请号CN200810220413.5、名为“一种超大规格轻质多孔陶瓷板及制造方法”的专利其特点主要是利用抛光废渣在高温下的发泡特性制备轻质多孔陶瓷板。申请号CN200910038098.9、名为“一种利用工业废渣生产的细炻砖”所述工业废渣为瓷质抛光砖抛光过程产生污水收集而成，仍然为抛光废渣系列，并且在其所举实施例中，产品吸水率超出了细炻砖的范畴。CN102617123A、名为“利用抛光废渣制造瓷砖坯体和釉面砖的配方及方法”公开了利用抛光废渣制造二次烧陶瓷质坯体方法。以上专利所涉及到的陶瓷废渣都是抛光废渣。但是，目前并没有单独利用釉面砖废渣制备陶瓷砖的相关报道，其主要原因在于没有搞清楚釉面砖废渣与抛光废渣之间的特性上的差异而将它们分开收集使用。如果能把这两种废渣分开使用，更能有效地发挥各自的作用。
技术实现思路
针对现有技术存在的问题，本专利技术的目的是提供一种釉面砖废渣循环利用的方法，利用釉面砖废渣制备二次烧的陶质釉面砖。本专利技术提供一种釉面砖废渣循环利用的方法，利用釉面砖废渣制备二次烧的陶质釉面砖，包括如下步骤：坯体原料的配制：将按质量百分比计含有30～50％釉面砖废渣的坯体原料混合球磨后制粉形成粉料，其中所述坯体原料使坯体烧成后的化学成分为：SiO2：66～71％；Al2O3：16～18.5％；Fe2O3：0.1～1.5％；TiO2：0.1～0.5％；CaO：5.0～8.5％；MgO：0.5～2.0％；K2O：1.2～2.5％；Na2O：1.0～2.2％；将所得的粉料成型、干燥、素烧、施底、面釉、釉烧制得二次烧陶质釉面砖。本专利技术中，所述釉面砖废渣的化学成分可为：烧失(IL)：2.0～4.5％；SiO2：58～68％；Al2O3：19～25％；Fe2O3：0～2.0％；TiO2：0～1.0％；CaO：1.0～4.0％；MgO：0～1.5％；K2O：0.5～3.0％；Na2O：1.0～4.0％。较佳地，所述釉面砖废渣通过如下方法获得：将釉面砖抛光过程中产生的废水汇集到污水池，加入适量的絮凝剂使污水沉淀，将沉淀后的污泥压滤成含水率小于30％的滤块，然后将滤块打碎并充分均混待用。本专利技术通过简单的方法即可收集到釉面砖废渣。本专利技术中，坯体原料可包括：按质量百分比计，釉面砖废渣30～50％、粘土12～18％、石灰石7～11％、硅灰石0～3％、石英3～13％、其余为砂石料。较佳地，混合球磨时，还加入相对于原料总质量0～0.3％的坯体增强剂、0.6～1.5％的水玻璃和0～0.4％的分散剂。本专利技术中，坯体增强剂可以增强坯体的强度，水玻璃、分散剂可以改善浆料流动性。较佳地，所述成型的方式为干压成型，压制压力为28～40MPa。较佳地，干燥后坯体含水量为0～1.5％。较佳地，干燥后的坯体进行素烧，烧成温度为1100～1160℃，烧成周期为30～60分钟。较佳地，坯体经素烧后，施底釉、面釉，另外，也可以辅以印花。较佳地，施釉后的坯体进行釉烧，烧成温度为1010～1060℃，烧成周期为35～60分钟。另一方面，本专利技术还提供由上述任意一种方法制备的二次烧陶质釉面砖。附图说明图1示出本专利技术一个示例的工艺流程图。具体实施方式以下结合附图和下述实施方式进一步说明本专利技术，应理解，下述附图和实施方式仅用于说明本专利技术，而非限制本专利技术。本专利技术提供一种釉面砖废渣循环利用的方法，利用釉面砖废渣制备二次烧陶质釉面砖。本专利技术中，陶质釉面砖是指吸水率平均值大于10％的有釉陶瓷砖。本专利技术主要通过研发坯体配方，原料经球磨、制粉、成型、干燥、素烧、施釉、釉烧工艺来实现。以下，作为示例，参照图1具体说明本专利技术的制备方法。釉面砖废渣的收集本专利技术中，釉面砖废渣是指釉面砖在抛光时釉层与磨块相互磨削过程中产生的污水经收集、沉积、压滤而成的固体废料。另外，本专利技术中，对作为釉面砖废渣来源的釉面砖没有特别限定，可以是本领域公知的釉面砖。釉面砖废渣的化学成分可为：IL：2.0～4.5％；SiO2：58～68％；Al2O3：19～25％；Fe2O3：0～2.0％；TiO2：0～1.0％；CaO：1.0～4.0％；MgO：0～1.5％；K2O：0.5～3.0％；Na2O：1.0～4.0％。可通过如下方法收集釉面砖废渣并均化：将釉面砖砖抛光过程中产生的废水汇集到污水池，加入适量的絮凝剂使污水沉淀，将沉淀后的污泥压滤成含水率小于30％的滤块，然后将滤块打碎并充分均混待用。所述絮凝剂可为聚丙烯酰胺、氯化铝、硫酸铝等。坯体配方配方中釉面砖废渣比例30～50％。在一个示例中，坯体配方主要组成为釉面砖废渣30～50％、粘土12～18％、砂石料A10～26％、砂石料B0～20％、石灰石7～11％、硅灰石0～3％、石英3～13％。其中，砂石料是指除以上所指出的粘土、石灰石、硅灰石、石英之外的可用于陶瓷生产的陶瓷矿物原料，其化学组成要求依坯体配方化学组成要求而定。砂石料A、砂石料B是根据坯体配方化学组成要求而选用的不同砂石料，其化学组成有所不同，其中，砂石料A的化学成分为SiO2：71.16％、Al2O3：19.27％、Fe2O3：1.54％、TiO2：0.20％、CaO：0.1％、MgO：0.19％、K2O：0.93％、Na2O：0.12％、烧失：6.44％，砂石料B的化学成分为SiO2：73.6％、Al2O3：15.77％、Fe2O3：0.71％、TiO2：0.16％、CaO：0.74％、MgO：0.25％、K2O：2.86％、Na2O：2.7％、烧失：3.16％。但是，应理解，上述坯体配方仅为示例，本专利技术的坯体配方不限于此，而只要其满足下述坯体配方化学成分要求即可。换言之，坯体的具体原料可以根据坯体配方化学成分要求合理选择。另外，还可以加入相对于该配方总质量0～0.3％的坯体增强剂，以增强坯体的强度。作为坯体增强剂，包括但不限于聚乙烯醇、邻苯二甲酸二丁酯。坯体配方化学成分可为：SiO2：66～71％；Al2O3：16～18.5％；Fe2O3：0.1～1.5％；TiO2：0.1～0.5％；CaO：5.0～8.5％；MgO：0.5～2.0％；K2O：1.2～2.5％；Na2O：1.0～2.2％。按照坯体配方将各种原料混合球磨。另外，在坯体配方的基础上再外加相对于坯体配方总质量0～1.5％的水玻璃和0～0.4％的分散剂，从而使浆料具有合理本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种釉面砖废渣循环利用的方法，利用釉面砖废渣制备二次烧陶质釉面砖，其特征在于，包括如下步骤：坯体原料的配制：将按质量百分比计含有30～50%釉面砖废渣的坯体原料混合球磨后制粉形成粉料，其中所述坯体原料使坯体烧成后的化学成分为：SiO2：66～71%；Al2O3：16～18.5%；Fe2O3：0.1～1.5%；TiO2：0.1～0.5%；CaO：5.0～8.5%；MgO：0.5～2.0%；K2O：1.2～2.5%；Na2O：1.0～2.2%；将所得的粉料成型、干燥、素烧、施底釉、施面釉、釉烧制得二次烧陶质釉面砖。

【技术特征摘要】
1.一种釉面砖废渣循环利用的方法，利用釉面砖废渣制备二次烧陶质釉面砖，其特征在于，包括如下步骤：坯体原料的配制：将按质量百分比计含有30～50%釉面砖废渣的坯体原料混合球磨后制粉形成粉料，其中所述坯体原料使坯体烧成后的化学成分为：SiO2：66～71%；Al2O3：16～18.5%；Fe2O3：0.1～1.5%；TiO2：0.1～0.5%；CaO：5.0～8.5%；MgO：0.5～2.0%；K2O：1.2～2.5%；Na2O：1.0～2.2%；将所得的粉料成型、干燥、素烧、施底釉、施面釉、釉烧制得二次烧陶质釉面砖。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述釉面砖废渣的化学成分为：烧失：2.0～4.5%；SiO2：58～68%；Al2O3：19～25%；Fe2O3：0～2.0%；TiO2：0 ～1.0%；CaO：1.0～4.0%；MgO：0～1.5%；K2O：0.5～3.0%；Na2O：1.0～4.0%。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述釉面砖废渣通过如下方法获得：将釉面砖抛光时釉层与磨块相互磨削过程中产生的污水汇集到污水池，加入适量的絮凝剂使污水沉淀，将沉淀后的污泥压滤成含水率小于30%的滤块，然...

【专利技术属性】
技术研发人员：萧礼标，周锡荣，刘一军，王贤超，
申请(专利权)人：蒙娜丽莎集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44