本发明专利技术的课题在于提供一种利用低曝光量可形成密合性优异的图案的负型感光性树脂组合物、使用了该负型感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该负型感光性树脂组合物形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具有该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。本发明专利技术的解决手段为含有下述式(1)表示的化合物的负型感光性树脂组合物。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该感光性树脂组合物形成的固化膜、绝缘膜及滤色器(color filter)、以及具有该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。
技术介绍
感光性树脂组合物中的负型感光性树脂组合物具有通过紫外线等电磁波的照射而进行固化的特性。对于该负型感光性树脂组合物而言，通过使照射了电磁波的部分固化，可得到所期望的形状的图案，因此，被广泛应用于显示装置、半导体装置、电子部件、微电子机械系统(MEMS)等各种用途。例如，在显示装置中，已被用作液晶显示器、有机EL显示器等中的平坦化膜、绝缘膜、滤色器、黑色矩阵(black matrix)、间隔物(spacer)、隔壁等的材料。另外，在正型感光性树脂组合物的情况下，也可通过紫外线等电磁波的照射及显影后得到的热固化等工序而得到固化物。作为这样的感光性树脂组合物，为了确保产品的可靠性，要求即使在形成了微小图案时也与基板密合那样的高密合性。因此，以往，提出了含有胺系硅烷偶联剂作为密合增强剂的感光性树脂组合物(参见专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2000－035670号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题另外，近年来，从更进一步提高生产率的观点考虑，期望利用低曝光量可形成良好的形状的图案的感光性树脂组合物。然而，如专利文献1那样含有胺系硅烷偶联剂作为密合增强剂时，虽然与基板的密合性提高，但存在图案形成所需要的曝光量增加这样的问题。本专利技术是鉴于上述课题而完成的，目的在于提供利用低曝光量可形成密合性优异的图案的感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该感光性树脂组合物形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具有该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。用于解决课题的手段本专利技术的专利技术人们为了达成上述目的而反复进行了深入研究。结果发现，通过在感光性树脂组合物中含有特定的化合物，可解决上述课题，从而完成了本专利技术。具体而言，本专利技术提供如下所述的方案。本专利技术的第一方式为一种感光性树脂组合物，其含有下述式(1)表示的化合物。(式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基(sulfonato group)、膦基(phosphino group)、氧膦基(phosphinyl group)、膦酸盐/酯基(phosphonato group)、或有机基团，n为0～3的整数。)本专利技术的第二方式为一种图案形成方法，所述方法中，使用本专利技术涉及的感光性树脂组合物形成涂膜或成型体，对该涂膜或成型体以规定图案状照射电磁波并进行显影。本专利技术的第三方式为使用本专利技术涉及的感光性树脂组合物形成的固化膜。本专利技术的第四方式为使用本专利技术涉及的感光性树脂组合物形成的绝缘膜。本专利技术的第五方式为使用本专利技术涉及的感光性树脂组合物形成的滤色器。本专利技术的第六方式为具有本专利技术涉及的固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。专利技术的效果通过本专利技术，可提供利用低曝光量可形成密合性优异的图案的感光性树脂组合物、使用了该感光性树脂组合物的图案形成方法、使用该感光性树脂组合物形成的固化膜、绝缘膜及滤色器、以及具有该固化膜、绝缘膜或滤色器的显示装置。具体实施方式《感光性树脂组合物》本说明书中，对于“感光性树脂组合物”而言，只要没有特别记载，则通常包含负型感光性树脂组合物及正型感光性树脂组合物。＜式(1)表示的化合物＞本专利技术的感光性树脂组合物为含有下述式(1)表示的化合物的感光性树脂组合物。以下，首先对式(1)表示的化合物进行说明，然后对感光性树脂组合物进行说明。(式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。)式(1)中，R1为氢原子或烷基。R1为烷基时，该烷基可以是直链烷基，也可以是支链烷基。该烷基的碳原子数没有特别限制，优选为1～20，更优选为1～10，进一步优选为1～5。作为适于作为R1的烷基的具体例，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、叔戊基、正己基、正庚基、正辛基、2－乙基正己基、正壬基、正癸基、正十一烷基、正十二烷基、正十三烷基、正十四烷基、正十五烷基、正十六烷基、正十七烷基、正十八烷基、正十九烷基、及正二十烷基。式(1)中，R2为可以具有取代基的芳香族基。可以具有取代基的芳香族基为可以具有取代基的芳香族烃基、或可以具有取代基的芳香族杂环基均可。芳香族烃基的种类在不妨碍本专利技术的目的的范围内没有特别限制。芳香族烃基可以是单环式的芳香族基，也可以是2个以上芳香族烃基进行稠合而形成的基团，也可以是2个以上的芳香族烃基通过单键进行键合而形成的基团。作为芳香族烃基，优选苯基、萘基、联苯基、蒽基、菲基。芳香族杂环基的种类在不妨碍本专利技术的目的的范围内没有特别限制。芳香族杂环基可以是单环式基，也可以是多环式基。作为芳香族杂环基，优选吡啶基、呋喃基、噻吩基、咪唑基、吡唑基、噁唑基、噻唑基、异噁唑基、异噻唑基、苯并噁唑基、苯并噻唑基、及苯并咪唑基。作为苯基、多环芳香族烃基、或芳香族杂环基可以具有的取代基，可举出卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、亚磺基(sulfino group)、磺酸基、磺酸盐/酯基、膦
基、氧膦基、膦酰基(phosphono group)、膦酸盐/酯基、氨基、铵基(ammonio group)、及有机基团。苯基、多环芳香族烃基、或芳香族杂环基具有多个取代基时，该多个取代基可以相同也可以不同。芳香族基所具有的取代基为有机基团时，作为该有机基团，可举出烷基、链烯基、环烷基、环链烯基、芳基、及芳烷基等。对于该有机基团而言，可在该有机基团中包含杂原子等烃基以外的键、取代基。另外，该有机基团可以是直链状、支链状、环状中的任何。该有机基团通常为1价，在形成环状结构等情况下，可形成2价以上的有机基团。芳香族基在相邻的碳原子上具有取代基时，键合在相邻的碳原子上的2个取代基可以键合而形成环状结构。作为环状结构，可举出脂肪族烃环、含有杂原子的脂肪族环。芳香族基所具有的取代基为有机基团时，该有机基团所含有的键只要不损害本专利技术的效果，就没有特别限制，有机基团可含有包含氧原子、氮原子、硅原子等杂原子的键。作为包含杂原子的键的具体例，可举出醚键、硫醚键、羰键、硫代羰键、酯键、酰胺键、氨基甲酸酯键、亚氨键(－N＝C(－R)－、－C(＝NR)－：R表示氢原子或有机基团)、碳酸酯键、磺酰键、亚磺酰键、偶氮键等。作为有机基团可以具有的包含杂原子的键，从式(1)表示的化合物的耐热性的观点考虑，优选醚键、硫醚键、羰键、硫代羰键、酯键、酰胺键、氨键(－NR－：R表示氢原子或1价的有机基团)、氨基甲酸酯键、亚氨键(－N＝C(－R)－、－C(＝NR)－：R表示氢原子或1价的有机基团)、碳酸酯键、磺酰键、亚磺酰键。有机基团为烃基以外的取代基时，烃基以外的取代基的种类在本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种感光性树脂组合物，其含有下述式(1)表示的化合物，式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。
【技术特征摘要】
2015.03.30 JP 2015-070223;2016.01.14 JP 2016-005631.一种感光性树脂组合物，其含有下述式(1)表示的化合物，式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。2.如权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，还含有选自具有Cardo结构的树脂、具有酚式羟基的树脂、聚酰亚胺树脂及环氧树脂中的树脂。3.如权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，还含有碱...
【专利技术属性】
技术研发人员：石川达郎，野田国宏，千坂博树，盐田大，
申请(专利权)人：东京应化工业株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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