一种钛元素掺杂氧化硅溶胶的复合磨粒、其抛光液组合物及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种钛元素掺杂氧化硅溶胶的复合磨粒、其抛光液组合物及其制备方法。本发明专利技术的钛元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒，所述的复合磨粒按照重量百分数由以下成分组成：含钛化合物0.1‑5wt.%；氧化硅溶胶99.9‑95 wt.%。本发明专利技术的复合磨粒的物理结构为纳米球形，该磨粒的化学组成上含有钛元素，钛元素可以提高磨粒的化学作用。化学作用可提高磨粒的抛光速率，提高材料的去除速率。采用本发明专利技术提供的抛光液对蓝宝石基片、硅片进行抛光，可以有效地降低蓝宝石、硅片表面的粗糙度，提高蓝宝石、硅片表面的去除速率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种抛光磨粒、抛光液组合物及其制备方法，特别是一种钛元素掺杂硅溶胶复合磨粒的制备方法以及原材料表面研磨抛光

技术介绍
蓝宝石材料由于其较高的莫氏硬度和较好的化学稳定性，被广泛的应用于电学、光学等领域。在光电子领域中，发光二极管(LED)具有低工作电压、低功耗、高效率、长寿命、固体化、快响应速度和驱动电路等简单优点，被公认为21世纪最具发展前景的高
之一。蓝宝石因为其有良好的高温稳定性和力学性能，而作为LED的衬底材料。蓝宝石的表面质量对LED器件性能和质量有着非常重要的影响，目前要求超光滑、无缺陷且粗糙度小于0.2nm。因此蓝宝石最后一道抛光加工的要求很高，成为最重要的制程。目前，普遍采用化学机械抛光(CMP)技术对蓝宝石器件表面进行精密抛光。磨粒是化学机械抛光液中的主要成分，目前实际中广泛采用的研磨粒通常是氧化硅、氧化铝等传统无机粒子。而氧化硅磨粒对蓝宝石的抛光效果较好，但在CMP抛光过程中主要存在一些问题，如抛光速率低而导致生产效率低，表面质量有待继续提高。因此我们通过改变抛光液中磨粒特性来提高去除率。专利申请“201110298605.X”，名称本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种钛元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒，其特征在于，所述的复合磨粒按照重量百分数由以下成分组成：含钛化合物     0.1‑5％氧化硅溶胶     95‑99.9％。

【技术特征摘要】
1.一种钛元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒，其特征在于，所述的复合磨粒按照重量百分数由以下成分组成：含钛化合物 0.1-5％氧化硅溶胶 95-99.9％。2.根据权利要求1所说的钛元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒，其特征在于，所述的复合磨粒按照重量百分数由以下成分组成：含钛化合物 0.5-1.5％氧化硅溶胶 98.5-99.5％所述的含钛化合物为TiO(OH)2。3.如权利要求1或2所述的钛元素掺杂氧化硅溶胶复合磨粒的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：1)将水玻璃通过阳离子交换树脂，待流出的液体的pH值在2.5-3.5之间时接收流出的液体，则得到活性硅酸溶液；2)在100℃及搅拌下，将硫酸钛溶液与步骤1所得的活性硅酸溶液，加入到晶种氧化硅溶液中，同时滴加氢氧化钠溶液，控制滴加速度，保持氧化硅晶种母液的液面保持基本不变，且控制pH范围在9.0-11.0之间；3)控制滴加及水分蒸发速度，使母液的液面保持基本不变，直到混合液滴完，关掉加热器，搅拌降温到室...

【专利技术属性】
技术研发人员：李家荣，仝开宇，雷红，朱小华，
申请(专利权)人：江苏天恒纳米科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32