一种二极管及瞬态电压抑制器制造技术

技术编号:13565652 阅读:60 留言:0更新日期:2016-08-20 06:01
本实用新型专利技术公开了一种二极管及瞬态电压抑制器,二极管包括芯片、上下钉头无氧铜导线、焊接层、非空腔塑封体组成,所述芯片台面周围设置有一次性涂覆电子纯聚酰亚胺胶层,所述涂覆电子纯聚酰亚胺胶层的芯片二次再涂覆有电子纯硅橡胶层;所述芯片位于上下钉头无氧铜导线之间,所述上下钉头无氧铜导线的上下钉头与芯片通过焊接层连接;所述上下钉头、焊接层、芯片模塑封装在塑封体内,所述芯片包括硅基片,其中,该硅基片包含有N型衬底和P型扩散层,N型衬底和P型扩散层之间形成PN结,所述硅基片的上表面上进一步设有沟道,沟道将硅基片上表面划分为位于芯片中间的凸台。所述瞬态电压抑制器包括上述的二极管。本实用新型专利技术可以提高切割速度。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种二极管及瞬态电压抑制器
技术介绍
瞬态电压抑制器与被保护的集成电路并联,在集成电路正常工作的时候,瞬态电压抑制器并不工作。只有在集成电路受到静电、浪涌等瞬态高压冲击时,瞬态电压抑制器才会瞬间启动,把瞬态高压降到较低的电压,从而保护了集成电路。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种二极管及瞬态电压抑制器,其可以解决现有技术中的上述缺点。本技术采用以下技术方案:一种二极管,包括芯片、上下钉头无氧铜导线、焊接层、非空腔塑封体组成,所述芯片台面周围设置有一次性涂覆电子纯聚酰亚胺胶层,所述涂覆电子纯聚酰亚胺胶层的芯片二次再涂覆有电子纯硅橡胶层;所述芯片位于上下钉头无氧铜导线之间,所述上下钉头无氧铜导线的上下钉头与芯片通过焊接层连接;所述上下钉头、焊接层、芯片模塑封装在塑封体内,所述芯片包括硅基片,其中,该硅基片包含有N型衬底和P型扩散层,N型衬底和P型扩散层之间形成PN结,所述硅基片的上表面上进一步设有沟道,沟道将硅基片上表面划分为位于芯片中间的凸台,PN结暴露在沟道的侧壁上,沟道的底部和侧壁上均覆盖有钝化层。所述电子纯聚酰亚胺胶层厚度1-2um;所述电子纯硅橡胶层厚度为0.5-0.7mm。所述钝化层为CVD膜。凸台的上表面和硅基片的下表面上均设有金属导电层。一种瞬态电压抑制器,包括上述的二极管。本技术的优点是:可以提高切割速度,又可以防止芯片短路,并有利于装配,提高了芯片的耐压性、可靠性及电性能。附图说明下面结合实施例和附图对本技术进行详细说明,其中:图1是本技术的结构示意图。图2是本技术的电源模块电路的电路图。具体实施方式下面结合附图进一步阐述本技术的具体实施方式:如图1所示,包括硅基片1,其中,该硅基片包含有N型衬底2和P型扩散层3,N型扩散层2和P型扩散层3之间形成PN结4,所述硅基片1的上表面上进一步设有沟道5,沟道5将硅基片上表面划分为位于芯片中间的凸台6,PN结4暴露在沟道5的侧壁上,沟道5的底部和侧壁上均覆盖有钝化层8。所述钝化层8为CVD膜。凸台6的上表面和硅基片1的下表面上均设有金属导电层9。上述双台阶二极管芯片的制造工艺如下:先选取N型硅基片1,在硅基片1上通过扩散形成P型扩散层3和平面PN结4;再通过光刻、腐蚀在硅基片1上表面形成沟道5和凸台6;在已形成凸台6的硅基片1上沉积钝化层8,对暴露于沟道5侧壁(即凸台6侧壁)上的平面PN结4进行包覆;通过腐蚀去除凸台6上表面的钝化层8;在凸台6的上表面以及硅基片1的下表面沉积金属导电层9。本技术的芯片台面周围设置有一次性涂覆电子纯聚酰亚胺胶层,所述涂覆电子纯聚酰亚胺胶层的芯片二次再涂覆有电子纯硅橡胶层;所述芯片位于上下钉头无氧铜导线之间,所述上下钉头无氧铜导线的上下钉头与芯片通过焊 接层连接;所述上下钉头、焊接层、芯片模塑封装在塑封体内。所述电子纯聚酰亚胺胶层厚度1-2um。所述电子纯硅橡胶层厚度为0.5-0.7mm。本技术还公开了一种瞬态电压抑制器,包括上述的二极管,还包括一电源模块电路,其如图2所示,瞬态电压抑制器TVS连接驱动电路,驱动电路与抑制电路相连,驱动电路连接负载,实现高压抑制,保护用电电路。以上所述仅为本技术的较佳实施例而已,并不用以限制本技术,凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二极管,其特征在于,包括芯片、上下钉头无氧铜导线、焊接层、非空腔塑封体组成,所述芯片台面周围设置有一次性涂覆电子纯聚酰亚胺胶层,所述涂覆电子纯聚酰亚胺胶层的芯片二次再涂覆有电子纯硅橡胶层;所述芯片位于上下钉头无氧铜导线之间,所述上下钉头无氧铜导线的上下钉头与芯片通过焊接层连接;所述上下钉头、焊接层、芯片模塑封装在塑封体内,所述芯片包括硅基片,其中,该硅基片包含有N型衬底和P型扩散层,N型衬底和P型扩散层之间形成PN结,所述硅基片的上表面上进一步设有沟道,沟道将硅基片上表面划分为位于芯片中间的凸台,PN结暴露在沟道的侧壁上,沟道的底部和侧壁上均覆盖有钝化层。

【技术特征摘要】
1.一种二极管,其特征在于,包括芯片、上下钉头无氧铜导线、焊接层、非空腔塑封体组成,所述芯片台面周围设置有一次性涂覆电子纯聚酰亚胺胶层,所述涂覆电子纯聚酰亚胺胶层的芯片二次再涂覆有电子纯硅橡胶层;所述芯片位于上下钉头无氧铜导线之间,所述上下钉头无氧铜导线的上下钉头与芯片通过焊接层连接;所述上下钉头、焊接层、芯片模塑封装在塑封体内,所述芯片包括硅基片,其中,该硅基片包含有N型衬底和P型扩散层,N型衬底和P型扩散层之间形成PN结,所述硅基片的上表面上进一步设有沟道,沟...

【专利技术属性】
技术研发人员:徐芳芳
申请(专利权)人:上海智晶半导体科技有限公司
类型:新型
国别省市:上海;31

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1