一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法技术

本发明专利技术涉及一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法，它基于气体动力学技术和自发辐射荧光光谱技术，先用氟化氢荧光光谱测量光腔温度，再根据气动力学反推燃烧室的温度。本发明专利技术主要应用于氟化氢化学激光测试诊断技术领域，可以在燃烧室没有观察窗的情况下利用光学方法测量氟化氢激光器燃烧室温度。本发明专利技术利用痕量氢气注入技术，减少了氢气与氟原子化学反应放热对于燃烧室流出的主气流温度的影响。本发明专利技术具有简单方便、直观准确、非侵入性等特点。

【技术实现步骤摘要】
一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法
本专利技术涉及一种氟化氢化学激光器的测量诊断方法。在光腔内，利用痕量氢气注入方法，测量燃烧室气流经过喷嘴膨胀后的光腔气流温度Tcav，然后根据气动力学知识反推即可得到燃烧室温度T0。本专利技术可以实现在燃烧室无观察窗的条件下利用非侵入性光学测量技术获得燃烧室温度T0。
技术介绍
自从1964年第一台化学激光器问世以来，化学激光器的发展堪称突飞猛进，速度惊人，其中尤以氟化氢化学激光器的发展最为成熟，连续波输出功率高达MW级别的美国Alph氟化氢化学激光器曾一度是激光武器的代名词。氟化氢化学激光器的主要运行原理如下：(1)含F化合物在燃烧室中热解产生F原子，也可能会有少量F2分子，另外，在通过喷嘴的过程中F原子也可能复合产生F2分子；(2)从喷嘴中出来的F原子与加入的H2分子发生反应，产生振动激发态的HF分子(用HF(v)表示)，F+H2→HF(v)+H，此反应的放热量较小(31.5kcal/mol)，被称为冷反应，产物HF分子的振动量子数最高可以到v＝3；(3)产生的H原子又会与F2分子发生冷反应，产生振动激发态的HF分子(用HF(v)表示)，H+F2→HF(v)+F，此反应的发热量很大(98.0kcal/mol)，被称为热反应，产物HF分子的振动量子数最高可以到v＝10；(4)根据爱因斯坦受激辐射原理，振动激发态分子HF(v)在光腔中发生谐振，产生激光。由于氟原子是由三氟化氮在燃烧室中热解产生的，因此燃烧室的温度直接决定了氟原子的产率，为了深入了解氟化氢化学激光器的运行状况，有必要对燃烧室气体温度T0进行测量诊断。氟化氢化学激光器的燃烧室一般都是超高温运转的，约为2000K左右，超过了一般热偶的测量上限，热偶可能会烧化掉，因此常规的侵入式温度测量方法(即热偶法)不适合氟化氢化学激光燃烧室的温度测试。光学方法由于具有非侵入性的特点，所以最为适合这种超高温的测试场合。然而，氟化氢化学激光器的燃烧室一般都是密封运转的，添加观察窗比较困难，不适合直接在燃烧室挖一个观察窗。另外，燃烧室压力较高，一般在1～2大气压之间，发光粒子的寿命很短，而且发光强度也比较弱，因此综合来讲，在燃烧室位置直接开个观察窗利用发光光谱测量温度是不适合的。本专利技术正是在这样的背景下，充分考虑到气动力学技术和F+H2放热的特性而设计的一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的技术。该技术的基本原理如下，首先让燃烧室高温气流通过喷管膨胀后进入光腔，在光腔入口位置注入约为主气流流量0.01％～0.1％的痕量氢气，氢气与氟原子反应产生振动激发态的HF(v)，通过腔镜收集光腔内的化学荧光，可以获得HF(v)的振转跃迁光谱，根据该光谱可以测量得到光腔内气流温度Tcav；由于注入的痕量氢气对主气流的扰动很小，所以所得到的光腔内气流温度Tcav可以视为等于主气流通过超音速喷嘴膨胀后的下游静温T，同时测量燃烧室压力P0和光腔压力P，接着估算出比热比γ，最后根据气体动力学公式就可以得到燃烧室压力T0。光腔温度是很容易使用发光光谱法进行测量的，HF(v)振动态粒子的不同振转跃迁辐射的发光强度可以用如下公式表示：Iv,J＝hcωv,JAv,JNv,J(1)其中h为Planck常数，c为光速，ωv,J为跃迁波数，Av,J为爱因斯坦自发辐射系数，Nv,J为振转态(v,J)的粒子数密度。HF分子振动态的各个转动态粒子数分布符合转动热平衡分布(波尔兹曼分布定律)，即其中Nv为振动态(v)的粒子数密度，gv,J为振转态(v,J)的简并度，Ev,J是(v,J)态的转动能级，k为波尔兹曼常数，T为气体温度，Qv为转动配分函数。HF转动配分函数一般可以表示为代入(1)式，并对两边取对数，则可以得到如下公式：将简写为Ln(I/wag)，将常数代入得到hc/k＝1.44，所以可以将标记为1.44Fu，可得到如下公式：可以看到Ln(I/wag)与1.44Fu成线性关系，其斜率的负数就是HF分子的转动温度Trot，即光腔内气体温度Tcav。根据气动力学知识，氟化氢激光器的超音速喷嘴上游总温T0和下游静温T之间存在着如下关系：其中，氟化氢激光器的超音速喷嘴上游总温T0即为燃烧室的温度。考虑到上游总压P0和下游静压P是比较使用压力表容易测量的，如果再知道了主气流膨胀后的下游静温T，那么就可以利用(4)式求出燃烧室温度T0。然而，虽然光腔内气体温度Tcav很容易得到，但是一般工况下的氟化氢化学激光器运转的时候，光腔内气体温度Tcav并不等同于下游静温T，这是一方面由于氟原子和氢气分子的化学反应会放出大量的热量，导致主气流的温度升高；另一方面氢气的热容很大，会吸收一部分热量。这两方面综合起来，非常复杂，因此很难根据光腔内气体温度Tcav给出下游静温T。假设加入的氢气流量很小，小到F+H2化学反应放热的影响可以忽略(一般设为燃烧室总气体流量的0.1％～1％即可)，那么光腔内气流温度Tcav可以视为等同于主气流通过超音速喷嘴膨胀后的下游静温T，即有以下关系成立：T＝Tcav(5)即加入痕量氢气时，光腔内气体温度Tcav等于下游静温T，这样通过光学方法测量得到光腔内气体温度Tcav也就相当于得到了下游静温T。将(5)带入(4)可以得到：至此，根据上游总压P0、下游静压P以及光腔内气体温度Tcav，就可以利用公式(6)反推燃烧室温度了。其中，公式(6)中的比热比γ可以通过估算得到，由于燃烧室内燃烧后的产物主要是DF、N2、F、He等，以双原子分子和原子为主，且处于高温状态下，理论计算显示其比热比γ的值大约在1.4附近，具体可以根据各气体流量ni进行估算，计算公式为：
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法。通过该方法，可以实现不用在燃烧室开观察窗即可利用非侵入式的光学方法测量燃烧室温度，进而考察HF激光器燃烧室运行状况的目的。为实现本专利技术的目的，具体的技术方案是：一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法，具体包括：(1)不影响主气流气动参数的痕量氢气注入方法；(2)利用光学测量方法测量氟化氢激光器的光腔温度；(3)根据光腔温度，利用气动力学反推燃烧室温度。所述的“不影响主气流气动参数的痕量氢气注入方法”：在测量诊断过程中，所加入的氢气流量很小，远远小于氟化氢化学激光器主气流的流量，一般约为0.1％～1％，以至于氢气和氟原子的反应放热几乎不影响主气流的温度。痕量氢气条件下光腔温度Tcav等于燃烧室气体经过喷管膨胀后在光腔入口处的气体静温T。所述的“利用光学测量方法测量氟化氢激光器的光腔温度”：利用傅里叶变化红外光谱仪测量振动激发态氟化氢分子的基频辐射光谱,对振动谱带的转动谱线强度数据进行处理后，以1.44Fu对Ln(I/wag)作图，可以得到一条直线，该直线斜率的负数即为光腔内气体温度。所述的“根据光腔温度，利用气动力学反推燃烧室温度”：首先测量得到燃烧室压力P0和光腔压力P，并根据公式估算出燃烧室主气流的比热比γ，再根据光谱方法测量得到光腔温度Tcav，根据公式即可反推得到燃烧室的温度T0。本专利技术的有益效果是：本专利技术结合了气动力学技术和非侵入式光学测量技术的优点，采用注入痕量氢气的方法，既可本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法，其特征在于：(1)于氟化氢激光器的光腔气体入口处向进入光腔的主气流中注入痕量氢气，注入痕量氢气的流量不影响主气流的气动参数；(2)利用光学测量方法测量氟化氢激光器的光腔温度；(3)根据光腔温度，利用气动力学反推燃烧室温度。

【技术特征摘要】
1.一种利用痕量氢气法测量氟化氢激光器燃烧室温度的方法，其特征在于：（1）于氟化氢激光器的光腔气体入口处向进入光腔的主气流中注入痕量氢气，注入痕量氢气的流量不影响主气流的气动参数；（2）利用光学测量方法测量氟化氢激光器的光腔温度；（3）根据光腔温度，利用气动力学反推燃烧室温度；所述注入痕量氢气的流量不影响主气流的气动参数是指，氢气由光腔气体入口处加入；所加入的氢气流量为氟化氢化学激光器主气流流量的0.1%~1%，氢气和氟原子的反应放热量很小以至于不影响主气流的温度；所述利用光学测量方法测量氟化氢激光器的光腔温度是指，利用傅里叶变化红外光谱仪测量光腔中振动激发态氟化氢...

【专利技术属性】
技术研发人员：李留成，多丽萍，金玉奇，唐书凯，李国富，王元虎，于海军，汪健，曹靖，康元福，
申请(专利权)人：中国科学院大连化学物理研究所，
类型：发明
国别省市：辽宁;21