一种高防眩、高透光玻璃及其制备工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种高防眩、高透光玻璃及其制备工艺，该玻璃的表面具有厚度为0.10～0.20μm的刻蚀层和厚度为0.05‑0.15μm的SiO2薄膜和厚度为0.02‑0.10μm的TiO2薄膜，该玻璃制备工艺包括如下步骤：(1)清洗：用水或乙醇将玻璃进行清洗；(2)刻蚀：将清洗后的玻璃表面用刻蚀液进行刻蚀；(3)抛光：将刻蚀后的玻璃表面采用氢氟酸和硫酸的混合酸溶液进行抛光处理；(4)镀膜：将抛光后的玻璃表面依次镀SiO2薄膜和TiO2薄膜。本发明专利技术的玻璃的透光率不小于93％，反光率不大于0.5％，本发明专利技术的制备工艺成本低，操作简单。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及玻璃，特别涉及一种高防眩、高透光玻璃及其制备工艺。
技术介绍
在当前市场上的各种显示终端，如液晶显示器和液晶电视等受外界光源的影响，显示终端的成像效果和清晰度等会显著降低。针对此问题，人们提出了在显示终端前段采用防反射玻璃的方法来降低外界光源对显示终端的影响，同时也扩大了显示终端的应用领域，如室外广告机。当前市场上的防反射玻璃根据不同的防反射原理可以分为两大类：一类是其通过刻蚀工艺在玻璃面板表面形成一层颗粒状表面，起到对外界入射光进行散射的作用，达到降低入射光反射的目的，称为防眩玻璃(AG玻璃)；另一类为在玻璃面板表面通过镀膜工艺制备一个光学干涉层，利用光学干涉层对反射光的干涉相消的原理，实现降低玻璃的光反射、提高透光率的目的，简称为防反射玻璃(简称为AR玻璃)。以普通的碱金属玻璃面板为例，通常其本身的透光率为89％左右，反光率为8％；该玻璃面板，经AG刻蚀处理后，其反光率可以降低到3％，而对玻璃面板的透光率不会产生较大的影响，透光率通常在89％左右；而经过AR镀膜处理，其透光率较高在95％以上，反光率可降低到2％左右。这两种不同方式加工的玻璃都有其各自的优点和缺点，AG玻璃的防反射能力更好，但透射率相对较低；AR玻璃透射率高，但防反射能力较差。这种缺点，导致了单一工艺的防反射玻璃无法满足当前市场的一些实际应用的要求：高防眩兼具高透光。同时，当前玻璃的AR镀膜工艺主要采用磁控溅射方法来生产，其成本高，效率低，不利于大规模工业化生产。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题克服现有技术的上述缺点，提供一种反光率低和透光性高的玻璃及其制备工艺，该制备工艺成本低并且操作简单。为达到上述目的，本专利技术一方面提供了一种高防眩、高透光玻璃，该玻璃表面具有厚度为0.10～0.20μm的刻蚀层和厚度为0.05-0.15μm的SiO2薄膜和厚度为0.02-0.08μmTiO2薄膜。在本专利技术的一个优选例中，玻璃的刻蚀层具有紧密整齐蜂窝状的六边形蚀刻图形。在本专利技术的一个优选例中，该玻璃表面具有厚度为0.15μm的刻蚀层和厚度为0.1μm的SiO2薄膜和厚度为0.05μm的TiO2薄膜。在本专利技术的另一个优选实施例中，该玻璃的透光率不小于93％，反光率不大于0.5％。在本专利技术的另一个优选实施例中，该玻璃的透光率为97％，反光率为0.1％。本专利技术另一方面提供了一种高防眩、高透光玻璃的制备工艺，该制备工艺包括如下步骤：(1)清洗：将玻璃表面用水或乙醇进行清洗；(2)刻蚀：将清洗后的玻璃表面用刻蚀液进行刻蚀；(3)抛光：将经步骤(1)或步骤(2)处理后的玻璃表面采用氢氟酸和硫酸的混合酸溶液进行抛光处理；(4)镀膜：将抛光后的玻璃表面依次镀SiO2薄膜和TiO2薄膜。在本专利技术的一个优选例中，当进行单面刻蚀时，在步骤(1)和(2)之间还包括将不需要刻蚀的表面遮盖起来，当进行单面镀膜时，在步骤(3)和(4)之间还包括将不需要镀膜的表面遮盖起来。在本专利技术的一个优选例中，步骤(2)中的刻蚀液包括以下重量份的组分：在本专利技术的另一个优选例中，步骤(2)中的刻蚀液包括以下重量份的组分：在本专利技术的另一个优选例中，步骤(2)中的刻蚀液包括以下重量份的组分：在本专利技术的另一个优选例中，步骤(2)的刻蚀是将刻蚀液喷涂到玻璃表面上。在本专利技术的另一个优选例中，所述喷涂条件为：喷头喷涂120-180秒。在本专利技术的另一个优选例中，步骤(2)的刻蚀是将玻璃浸入刻蚀液中。在本专利技术的另一个优选例中，将玻璃浸入刻蚀液中进行刻蚀的条件为：在25℃下，浸入刻蚀液中30秒。在本专利技术的另一个优选例中，步骤(3)中氢氟酸的质量浓度为20％，硫酸的质量浓度为30％。在本专利技术的另一个优选例中，步骤(3)中氢氟酸和硫酸的体积比为4:1。在本专利技术的另一个优选例中，步骤(4)中所述镀膜是将抛光后的玻璃用乙醇清洗后浸入SiO2溶胶中，采用提拉法镀膜；再将该玻璃浸入TiO2溶胶中，采用提拉法镀膜。在本专利技术的另一个优选例中，所述SiO2溶胶由包括以下体积份的组分：在本专利技术的另一个优选例中，所述SiO2溶胶由包括以下体积份的组分：在本专利技术的另一个优选例中，SiO2溶胶的配制步骤为：(1)将上述体积份的正硅酸乙酯、25％(w/w)氨水、甘油和去离子水(或二次蒸馏水)混合后充分搅拌，密封后至于50℃烘箱中静置100小时并过滤；(2)向步骤(1)溶液中滴加醋酸，3-8％(w/w)聚乙烯醇水溶液，密封后在50-40℃保温处理8-16小时，获得澄清，透明的淡蓝色SiO2溶胶。在本专利技术的另一个优选例中，SiO2溶胶使用前经0.2μm的微孔滤膜过滤。在本专利技术的另一个优选例中，所述TiO2溶胶包括以下体积份的组分：所述TiO2溶胶使用30-40％(w/w)HNO3的水溶液调节直至TiO2溶胶均匀透明，呈浅黄色。在本专利技术的另一个优选例中，所述TiO2溶胶包括以下体积份的组分：所述TiO2溶胶使用35％(w/w)HNO3的水溶液调节直至TiO2溶胶均匀透明，呈浅黄色。在本专利技术的另一个优选例中，TiO2溶胶制备工艺步骤为：(1)按上述体积份，将钛酸四丁酯溶于乙二醇单甲醚中，加入乙酰乙酸乙酯和甲酰胺，搅拌得到混合溶液；(2)向步骤(1)所得混合溶液中滴加35％(w/w)HNO3的水溶液并搅拌，直至得到均匀透明的浅黄色TiO2
溶胶，静置陈化后备用。在本专利技术的另一个优选例中，TiO2溶胶使用前经0.2μm的微孔滤膜过滤。在本专利技术的另一个优选例中，提拉法镀膜中提拉速率为：1～10cm/min。在本专利技术的另一个优选例中，薄膜的厚度通过调节溶胶前驱体的质量浓度或重复提拉工艺来控制。在本专利技术的另一个优选例中，重复提拉工艺程中，每提拉一次都需进行一次低温预烧处理，进行多次提拉和低温预烧达到预计厚度之后，最终进行一次高温结晶处理。在本专利技术的另一个优选例中，所述镀膜包括热处理：低温预烧和高温快速热处理获得均匀、致密的SiO2薄膜和TiO2薄膜，低温预烧处理是在100～150℃保温0.5小时，去除胶体中的溶剂作用，高温快速热处理是在400～500℃保温2小时，形成完全结晶的SiO2薄膜和TiO2薄膜。通过上述技术方案，本专利技术的有益效果是：本专利技术的玻璃的透光率不小于93％，反光率不大于0.5％。本专利技术的玻璃通过刻蚀工艺在玻璃表面形成一层刻蚀层，有效降低了反光率，然后通过镀膜工艺在刻蚀后的表面依次镀SiO2薄膜和TiO2薄膜，有效增加了透光性。该玻璃的加工工艺成本低并且操作简单。附图说明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高防眩、高透光玻璃，其特征在于，该玻璃的表面具有厚度为0.10～0.20μm的刻蚀层和厚度为0.05‑0.15μm的SiO2薄膜和厚度为0.02‑0.08μm的TiO2薄膜。

【技术特征摘要】
1.一种高防眩、高透光玻璃，其特征在于，该玻璃的表面具有厚度为0.10～0.20μm的刻
蚀层和厚度为0.05-0.15μm的SiO2薄膜和厚度为0.02-0.08μm的TiO2薄膜。
2.根据权利要求1所述的高防眩、高透光玻璃，其特征在于，该玻璃的透光率不小于
93％，反光率不大于0.5％。
3.权利要求1或2所述的高防眩、高透光玻璃的制备工艺，其特征在于，所述制备工艺
包括如下步骤：
(1)清洗：将玻璃表面用水或乙醇进行清洗；
(2)刻蚀：将清洗后的玻璃表面用刻蚀液进行刻蚀；
(3)抛光：将经步骤(1)或步骤(2)处理后的玻璃表面采用氢氟酸和硫酸的混合酸溶
液进行抛光处理；
(4)镀膜：将抛光后的玻璃表面依次镀SiO2薄膜和TiO2薄膜。
4.根据权利要求3所述的高防眩、高透光玻璃的制备工艺，其特征在于，当进行单面刻
蚀时，在步骤(1)和(2)之间还包括将不需要刻蚀的表面遮盖起来，当进行单面镀膜时，
在步骤(3)和(4)之间还包括将不需要镀膜的表面遮盖起来。
5.根据权利要求3或4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁彦辉，
申请(专利权)人：上海赢赛实业有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31