防眩光板及其制备方法技术

技术编号:10713621 阅读:84 留言:0更新日期:2014-12-03 17:27
一种防眩光板,包括依次层叠的基底、连接层及散射层,所述连接层的材料为二氧化硅,所述散射层包括二氧化硅基体及分散在所述二氧化硅基体中的散射粒子,所述散射粒子的材料为二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽或二氧化铪。上述防眩光板的耐高温性能较好。本发明专利技术还提供一种防眩光板的制备方法。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种防眩光板,包括依次层叠的基底、连接层及散射层,所述连接层的材料为二氧化硅,所述散射层包括二氧化硅基体及分散在所述二氧化硅基体中的散射粒子,所述散射粒子的材料为二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽或二氧化铪。上述防眩光板的耐高温性能较好。本专利技术还提供一种防眩光板的制备方法。【专利说明】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
眩光是一种严重的光污染,会造成人的突发性暂时失明、视力错觉、头昏目眩,有些场合会引发事故,另外,亮度过大时,眼角膜和晶状体会产生光散射损伤眼睛,视力、识另O、速度等视机能下降,同时,眩光对于心理也有影响作用,它影响着人们的情绪,导致工作效率低下,造成较大心理压力。 随着社会的发展,人们生活水平不断提高,对照明品质的要求越来越高,防眩光是高品质照明工程一个必须解决的问题,各大照明、灯具厂商也对照明防眩光做了大量工作,对于照明工程来说主要通过合理的照明方案设计,把防眩光值控制在人们可接受的范围内,来实现防眩光。目前通用的做法就是使用防眩光灯罩。目前的防眩光灯罩主要为PC、PMMA材料添加过扩散剂达到扩散光线的效果,从而实现防眩光。然而PC、PMMA材料多用在普通照明领域,对于温度较高的照明场合则限制了这类灯罩的使用。
技术实现思路
基于此,有必要提供一种耐高温性能较好的防眩光板及防眩光板的制备方法。 一种防眩光板,包括依次层叠的基底、连接层及散射层,所述连接层的材料为二氧化硅,所述散射层包括二氧化硅基体及分散在所述二氧化硅基体中的散射粒子,所述散射粒子的材料为二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽或二氧化铪。 在其中一个实施例中,所述散射粒子的粒径为20nm?lOOnm。 在其中一个实施例中,所述基底的材料为无机透明材料。 在其中一个实施例中,所述连接层的厚度为50nm?200nm,所述散射层的厚度为400nm ?lOOOnm。 在其中一个实施例中,所述散射层中二氧化钛的的质量百分含量为2.65%? 13.25% ;所述散射层中二氧化错的质量百分含量为2.39%?11.95% ;所述散射层中五氧化二钽的质量百分含量为13.1%?65.3% ;所述散射层中二氧化铪的质量百分含量为6.7%?33.3%。 一种防眩光板防眩光板的制备方法,包括以下步骤: 在基底表面磁控溅射制备连接层,所述连接层的材料为二氧化硅;及 在所述连接层的表面制备散射层,散射层包括二氧化硅基体及分散在所述二氧化硅基体中的散射粒子,所述散射粒子的材料为二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽或二氧化铪,所述二氧化硅基体通过磁控溅射制备,所述散射粒子通过过滤阴极弧度技术制备。 在其中一个实施例中,还包括步骤:在基底表面磁控溅射制备连接层之前先在150°C?450°C、氩气气氛下对基底进行等离子体清洗。 在其中一个实施例中,所述散射粒子的粒径为20nm?100nm。 在其中一个实施例中,磁控溅射制备所述连接层时,温度为150°C?450°C,真空度为0.05Pa?3Pa,基底偏压为负500V?负1000V,通入气体为氧气与氩气的混合气体。 在其中一个实施例中,制备散射层时,将表面形成有连接层的基底放置在设置有磁控溅射靶及过滤阴极电弧靶的真空室中进行,所述磁控溅射靶的材料为硅,所述过滤阴极电弧靶的材料为T1、Zr、Ta或Hf,温度为150°C?450°C,基底偏压为负100V?负200V,真空度为0.05Pa?3Pa,磁控溅射靶由5kW?30kW磁控电源供电,过滤阴极电弧靶的电流为 40A ?IlOA0 上述,散射层中的二氧化硅基体及分散在二氧化硅基体中的散射颗粒可以对光线进行散射,有效的防止眩光;通过在基底的表面制备连接层及散射层,连接层使得防眩光板具有较好的机械性能;散射层中二氧化硅基体及散射粒子材料的耐高温性能均较好,从而使得防眩光板具有较好的耐高温性能。 【专利附图】【附图说明】 图1为一实施方式的防眩光板的结构示意图; 图2为一实施方式的防眩光板的制备方法的流程图; 图3为一实施方式的用于制备散射层的制备装置的构示意图。 【具体实施方式】 下面结合附图和具体实施例对进一步阐明。 请参阅图1,一实施方式的防眩光板100,包括依次层叠的基底10、连接层20及散射层30。 基底10大体为平板状。基底10由透明材料制成,具体在本实施方式中,基底10由无机透明材料制成,如玻璃,当然在其他实施例中基底10也可以有耐高温的有机透明材料制成。基底10大体为平板状。需要说明的是,基底10的形状不限于为平板状,还可以为其他几何形状,比如将防眩光板100应用于灯具作为防眩灯罩使用时可以将基底10设计为半球形、弧形或其他不规则形状。 连接层20形成于基底10的其中一个表面。连接层20的材料为二氧化硅(Si02)。连接层20的厚度为50nm?200nm。 散射层30形成于连接层20的表面。散射层30包括二氧化硅基体32及分散在二氧化硅基体32中的散射粒子34。二氧化硅基体32跟传统的聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)相比有更高的可见光透过率,抗氧化温度及更好的抗刮擦性能。散射粒子34的材料为二氧化钛(T12)、二氧化锆(ZrO2)、五氧化二钽(Ta2O5)或二氧化铪(HfO2)。散射粒子34的粒径为20nm?lOOnm。散射层30的厚度为400nm?lOOOnm。当散射粒子34的材料为二氧化钛时,散射层30中二氧化钛的质量百分含量为2.65%?13.25% ;当散射粒子34的材料为二氧化锆时,散射层30中二氧化锆的质量百分含量为2.39%?11.95% ;当散射粒子34的材料为五氧化二钽时,散射层30中五氧化二钽的质量百分含量为13.1%?65.3% ;当散射粒子34的材料为二氧化铪时,散射层30中二氧化铪的质量百分含量为6.7%?33.3%。 上述防眩光板100,散射层30中的二氧化硅基体32及分散在二氧化硅基体32中的散射颗粒34可以对光线进行散射,具有较高雾度(最高达60%)、光通过率(最高达90%),有效的防止眩光;通过在基底10的表面制备连接层20及散射层30,连接层20连接基底10及散射层30,提高了散射层30和基底10之间的结合力,使得防眩光板100具有较好的机械性能;散射层30中二氧化硅基体32及散射粒子34材料的耐高温性能均较好,从而使得防眩光板100具有较好的耐高温性能及耐候性能;同时制备的防眩光板100的散射层30具有良好的耐磨性(摩擦系数低于0.6)、耐高温(最高抗氧化温度800°C)及良好的耐候性保证了防眩光板100的长期稳定性,减少了更换防眩光配件所带来的成本投入。 需要说明的是,防眩光板100不限于应用于灯具,也可以用于相框装裱、屏幕等。 请同时参阅图2,一实施方式的防眩光板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 步骤S110、在基底10表面磁控溅射制备连接层20,连接层20的材料为二氧化硅。 基底10大体为平板状。基底10由透明材料制成,具体在本实施方式中,基底10由无机透明材料制成,如玻璃,当然在其他实施例中基底10也可以有耐高温的有机透明材料制成。基底10大体为平板状。需要说明的是,基底10的形状不限于为平板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防眩光板,其特征在于,包括依次层叠的基底、连接层及散射层,所述连接层的材料为二氧化硅,所述散射层包括二氧化硅基体及分散在所述二氧化硅基体中的散射粒子,所述散射粒子的材料为二氧化钛、二氧化锆、五氧化二钽或二氧化铪。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:周明杰田灿鑫
申请(专利权)人:海洋王照明科技股份有限公司深圳市海洋王照明技术有限公司深圳市海洋王照明工程有限公司
类型:发明
国别省市:广东;44

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