聚偏二氯乙烯涂覆的基底制造技术

技术编号:13396708 阅读:45 留言:0更新日期:2016-07-23 16:41
本发明专利技术涉及包括基底和厚度小于10微米的挤出涂覆PVdC层的涂覆基底。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种涂覆基底,其包括基底和厚度小于10微米的挤出涂覆PVdC层。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:克里斯多夫·康柯大卫·泰勒科林·马歇尔
申请(专利权)人:英诺薄膜有限公司
类型:发明
国别省市:英国;GB

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1