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场效应晶体管以及制备方法技术

技术编号:13380668 阅读:20 留言:0更新日期:2016-07-21 12:22
本发明专利技术公开了场效应晶体管以及制备方法。该场效应晶体管包括:衬底;栅极,所述栅极嵌在所述衬底中;异质结,所述异质结设置在所述衬底的上表面,所述异质结包括单层石墨烯以及层状材料;源极,所述源极设置在所述异质结的上表面;以及漏极,所述漏极设置在所述异质结的上表面。利用单层石墨烯以及层状材料形成异质结以调节沟道材料禁带宽度,从而可以提高该场效应晶体管的开关比;嵌在衬底中的栅极结构有利于保护单层石墨烯结构不在制备栅极的过程中被破坏,从而可以提高该场效应晶体管的性能。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种场效应晶体管,其特征在于,包括:衬底;栅极,所述栅极嵌在所述衬底中;异质结,所述异质结设置在所述衬底的上表面,所述异质结包括单层石墨烯以及层状材料;源极,所述源极设置在所述异质结的上表面;以及漏极,所述漏极设置在所述异质结的上表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:卢琪伍晓明吴华强张进宇余志平钱鹤
申请(专利权)人:清华大学
类型:发明
国别省市:北京;11

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