电子元件用钛铜制造技术

本发明专利技术提供一种具有较大Ti浓度波动的钛铜。该钛铜是电子元件用钛铜，其含有2.0～4.0质量％的Ti，作为第三元素合计含有0～0.5质量％的选自由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B以及P组成的群中的一种以上元素，剩余部分由铜以及不可避免的杂质构成，针对与轧制方向平行的剖面处的＜100＞晶向的晶粒进行了母相中的Ti浓度的面分析时的Ti浓度的最大最小差为5～16质量％。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种适于用作连接器等电子元件用构件的钛铜。
技术介绍
近年，以移动终端等为代表的电子仪器的小型化日益发展，因此其所用的连接器窄间距化、低高度化以及窄宽度化的趋势明显。由于越是小型的连接器引脚宽度越窄，呈折叠得较小的加工形状，因此对使用的构件要求用以得到所需的弹性的高强度。从这一点来看，由于含钛的铜合金(以下称为“钛铜”。)相对强度较高，在应力松弛特性方面在铜合金中最优秀，因此从很早的时候就一直被用作尤其要求强度的信号系端子用构件。钛铜是时效硬化型的铜合金。当通过固溶处理形成作为溶质原子的Ti的过饱和固溶体，并从该状态开始在低温下实施相对长时间的热处理时，通过亚稳态分解，在母相中作为Ti浓度的周期性变动的调制结构发达，强度提高。此时，问题在于强度和弯曲加工性相悖的特性这一点。即，若提高强度则有损弯曲加工性，反之，若重视弯曲加工性则无法得到所希望的强度。一般而言，虽然由于越提高冷轧的压缩比，导入的位错就越多，位错密度越高，因此有助于析出>的形核位置增加，能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种钛铜，其为电子元件用钛铜，该钛铜含有2.0～4.0质量％的Ti，作为第三元素合计含有0～0.5质量％的选自由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B以及P组成的群中的一种以上元素，剩余部分由铜以及不可避免的杂质构成，其中，针对与轧制方向平行的剖面处的＜100＞晶向的晶粒进行了母相中的Ti浓度的面分析时的Ti浓度的最大最小差为5～16质量％。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.11.18 JP 2013-2383351.一种钛铜，其为电子元件用钛铜，该钛铜含有2.0～4.0质量％的Ti，作
为第三元素合计含有0～0.5质量％的选自由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、
Mo、V、Nb、Mn、B以及P组成的群中的一种以上元素，剩余部分由铜以及不
可避免的杂质构成，其中，针对与轧制方向平行的剖面处的＜100＞晶向的晶粒
进行了母相中的Ti浓度的面分析时的Ti浓度的最大最小差为5～16质量％。
2.一种钛铜，其为电子元件用钛铜，该钛铜含有2.0～4.0质量％的Ti，作
为第三元素合计含有0～0.5质量％的选自由Fe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、
Mo、V、Nb、Mn、B以及P组成的群中的一种以上元素...

【专利技术属性】
技术研发人员：堀江弘泰，
申请(专利权)人：JX金属株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP