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一种基于反挖槽工艺的双台阶整流芯片制造技术

技术编号:13267672 阅读:145 留言:0更新日期:2016-05-18 04:14
本实用新型专利技术属于半导体领域,具体涉及一种基于反挖槽工艺的双台阶整流芯片,包括硅基片,其中,该硅基片包括N型扩散层和P型扩散层,且N型扩散层位于P型扩散层的上方,N型扩散层和P型扩散层之间形成PN结,所述硅基片的上表面上开设有挖槽,挖槽将硅基片上表面划分为位于芯片中间的凸台,以及位于芯片边缘的两侧台阶,其中台阶的上表面低于凸台的上表面,PN结暴露在挖槽的侧壁上,挖槽的底部和侧壁上均覆盖有玻璃钝化层。本实用新型专利技术其电极性与常规的整流芯片相反,反向耐压能够高于2000伏特,同时,既能保证芯片的电性能,又可以防止芯片短路,提高了芯片的耐压性和可靠性。

【技术实现步骤摘要】

本技术属于半导体领域,具体涉及一种基于反挖槽工艺的双台阶整流芯片
技术介绍
台面型二极管是二极管的一种,因为在制作过程中,只保留PN结及其必要的部分,腐蚀掉不必要的部分,其剩余的部分便呈现出台面形,因而得名。台面型二级管主要用于整流,目前以来,国内整流芯片的生产多采用“玻璃钝化保护”工艺,所生产的产品具有不含有害有毒物质,生产中无重金属污染,产品电热性能优良,制造成本低、易于批量化生产等优点。整流芯片由于其结构与工艺的特殊性,有其结构上的优点与不足,目前的整流芯片中是以N型衬底位于P型扩散层的下方,从P型扩散层上用化学腐蚀法向单晶硅片内部开槽,槽宽约300微米,槽深约140微米,槽中填入玻璃料粉,在高温条件下与槽周面烧融在一起,固态玻璃对断裂的PN结产生钝化与保护的作用。这种产品所加反向电压的极性是上P面加负电压、下N面加正电压的,产品在加反向电压时,产品边缘呈现负角造型形状。这种结构造型的优点是,对开槽深度要求不严,但凡深度能超过PN结的界面后,产品都能承受反向电压,目前PN结深度从P面起算,多在100微米左右,开槽深度很容易达到;随着反向电压的升高,等势线将上翘,耐压本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基于反挖槽工艺的双台阶整流芯片,其特征在于:包括硅基片,其中,该硅基片包括N型扩散层和P型扩散层,且N型扩散层位于P型扩散层的上方,N型扩散层和P型扩散层之间形成PN结,所述硅基片的上表面上开设有挖槽,挖槽将硅基片上表面划分为位于芯片中间的凸台,以及位于芯片边缘的两侧台阶,其中台阶的上表面低于凸台的上表面,PN结暴露在挖槽的侧壁上,挖槽的底部和侧壁上均覆盖有玻璃钝化层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘志鑫迟界竹李新跃周国栋
申请(专利权)人:刘志鑫
类型:新型
国别省市:山东;37

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