基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置
本专利技术涉及用于在基板上形成电子器件用图案的基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置。
技术介绍
以往，如日本特开平9-219353号公报所示，作为基板处理装置，公知有对设于在平板上移动的移动载台上的基板进行器件图案的曝光的曝光装置。该曝光装置的平板经由具有减振机构的安装部件而支承在基台上。移动载台在设于平板上的可动引导件上沿X方向移动。可动引导件通过设于基台上的两台线性马达而在平板上沿Y方向移动。两台线性马达设在基台的X方向的两侧，以非接触的方式使可动引导件沿Y方向移动。也就是说，各线性马达具有动子和定子，定子固定在基台上，另一方面，动子分别固定在可动引导件的X方向的两侧，动子与定子为非接触状态。上述日本特开平9-219353号公报的曝光装置中，由于线性马达的动子及定子为非接触状态，所以抑制了因外部干扰产生的振动经由可动引导件及移动载台而传递到平板上。
技术实现思路
在上述特开平9-219353号公报的曝光装置中，通过两台线性马达使可动引导件在平板上沿Y方向移动，同样地，移动载台相对于可动引导件的移动也利用线性马达来进行。该情况下，线性马达也以非接触的方式使移动载台沿X方向移动。但是，由于在平板上使移动载台相对于可动引导件移动，所以因移动载台的移动而产生的振动可能传递到平板。另外，上述日本特开平9-219353号公报的曝光装置在移动载台上保持基板来进行曝光，但不限于该结构，也存在以连续状态供给膜状的基板并针对供给的基板对器件图案进行扫描曝光的情况。该情况下，在供给基板时，基板可能会振动。本专利技术的方案是鉴于上述课题而研发的，其目的在于提供一种能够进一步降低对曝光单元带来的振动、并通过曝光单元良好地进行曝光的基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置。本专利技术的第1方案为一种基板处理装置，具有：减振台，其设在设置面上；曝光单元，其设在上述减振台上，且对供给的基板进行曝光处理；和处理单元，其设在上述设置面上且与上述曝光单元以非接触的独立状态设置，并对上述曝光单元进行处理。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述处理单元包括对向上述曝光单元供给的上述基板的宽度方向上的位置进行调整的位置调整单元，上述位置调整单元具有：基台，其设在上述设置面上；宽度方向移动机构，其设在上述基台上，且使上述基板相对于上述基台沿上述基板的宽度方向移动；和固定辊，其设在上述基台上，将通过上述宽度方向移动机构进行位置调整后的上述基板朝向上述曝光单元引导，并且，该固定辊相对于上述基台的位置是固定的。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，还具有：第1基板检测部，其固定地设在上述基台上，检测供给到上述固定辊的上述基板的宽度方向上的位置；和控制部，其基于上述第1基板检测部的检测结果来控制上述宽度方向移动机构，从而将供给到上述固定辊的上述基板的宽度方向上的位置修正为第1目标位置。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述位置调整单元还具有调整上述固定辊相对于上述曝光单元的位置的辊位置调整机构，上述基板处理装置还具有：第2基板检测部，其固定地设在上述减振台上，检测供给到上述曝光单元的上述基板的位置；和控制部，其基于上述第2基板检测部的检测结果来控制上述辊位置调整机构，从而将供给到上述曝光单元的上述基板的位置修正为第2目标位置。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，还具有：推压机构，其对从上述位置调整单元向上述曝光单元供给的上述基板以赋予张力的方式进行推压；第2基板检测部，其固定地设在上述减振台上，检测供给到上述曝光单元的上述基板的位置；和控制部，其基于上述第2基板检测部的检测结果来控制上述推压机构，从而调整对上述基板的推压量。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述处理单元包括驱动上述曝光单元的驱动单元，上述曝光单元具有：对被照明光照明的光罩进行保持的光罩保持部件；和对来自上述光罩的投影光所投射的上述基板进行支承的基板支承部件，上述驱动单元具有：为了使上述光罩沿扫描方向移动而驱动上述光罩保持部件的光罩侧驱动部；和为了使上述基板沿扫描方向移动而驱动上述基板支承部件的基板侧驱动部。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述曝光单元具有：支承上述光罩保持部件的第1框架；和支承上述基板支承部件的第2框架，上述减振台包括设在上述设置面与上述第1框架之间的第1减振台、和设在上述设置面与上述第2框架之间的第2减振台。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述曝光单元具有支承上述光罩保持部件及上述基板支承部件的框架，上述减振台设在上述设置面与上述框架之间。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述光罩保持部件对具有以第1轴为中心且为第1曲率半径的光罩面的上述光罩进行保持，上述光罩侧驱动部通过使上述光罩保持部件旋转驱动来使上述光罩沿扫描方向移动，上述基板支承部件沿着以第2轴为中心且为第2曲率半径的支承面，来支承上述基板，上述基板侧驱动部通过使上述基板支承部件旋转驱动来使上述基板沿扫描方向移动。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述光罩保持部件对具有成为平面的光罩面的上述光罩进行保持，上述光罩侧驱动部通过使上述光罩保持部件直线驱动来使上述光罩沿扫描方向移动，上述基板支承部件沿着以第2轴为中心且为第2曲率半径的支承面，来支承上述基板，上述基板侧驱动部通过使上述基板支承部件旋转驱动来使上述基板沿扫描方向移动。本专利技术的第1方案为上述基板处理装置，也可以是，上述光罩保持部件对具有以第1轴为中心且为第1曲率半径的光罩面的上述光罩进行保持，上述光罩侧驱动部通过使上述光罩保持部件旋转驱动来使上述光罩沿扫描方向移动，上述基板支承部件具有一对支承辊，其以使上述基板具有平面的方式，能够旋转地支承上述基板的扫描方向上的两侧，上述基板侧驱动部通过使上述一对支承辊旋转驱动来使上述基板沿扫描方向移动。本专利技术的第2方案为一种器件制造系统，具有：本专利技术的第1方案的基板处理装置；向上述基板处理装置供给上述基板的基板供给装置；和对由上述基板处理装置处理后的上述基板进行回收的基板回收装置。本专利技术的第2方案为上述器件制造系统，也可以是，上述基板供给装置具有：第1轴承部，其将供给用卷能够旋转地支承，其中该供给用卷是将上述基板卷绕成卷状而得到的；第1升降机构，其使上述第1轴承部升降；进入角度检测部，其检测从上述供给用卷送出的上述基板相对于要卷绕上述基板的第1辊的进入角度；和控制部，其基于上述进入角度检测部的检测结果来控制上述第1升降机构，从而将上述进入角度修正为目标进入角度。本专利技术的第2方案为上述器件制造系统，也可以是，上述基板回收装置具有：第2轴承部，其将回收用卷能够旋转地支承，其中该回收用卷对由上述基板处理装置进行了处理的处理后的上述基板进行卷绕；第2升降机构，其使上述第2轴承部升降；排出角度检测部，其检测向上述回收用卷送出的上述基板相对于要卷绕上述基板的第2辊的排出角度；和控制部，其基于上述排出角度检测部的检测结果来控制上述第2升降机构，从而将上述排出角度修正为目标排出角度。本专利技术的第3方案为一种器件制造方法，包括：使用本专利技术的第1方案的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板处理装置，其特征在于，具有：减振台，其设在设置面上；曝光单元，其设在所述减振台上，且对供给的基板进行曝光处理；和处理单元，其设在所述设置面上且与所述曝光单元以非接触的独立状态设置，并对所述曝光单元进行处理。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2013.07.08 JP 2013-142922;2014.06.16 JP 2014-123081.一种基板处理装置，将长尺寸的挠性的片材基板沿长边方向搬送并实施曝光处理，其特征在于，具有：减振台，其设在设置面上；曝光单元，其设在所述减振台上，且一边在用旋转滚筒的外周面的一部分将供给的所述片材基板支承为圆筒面状的状态下沿长边方向搬送，一边对供给的所述片材基板进行曝光处理；位置调整单元，其设在所述设置面上且与所述曝光单元以非接触的独立状态设置，所述位置调整单元具有：设在所述设置面上的基台；宽度方向移动机构，其设在所述基台上，且使所述片材基板相对于所述基台沿与所述长边方向正交的宽度方向移动；和固定辊，其设在所述基台上的被固定的位置，将通过所述宽度方向移动机构进行位置调整后的所述片材基板朝向所述曝光单元引导，推压机构，其对从所述位置调整单元向所述曝光单元供给的所述片材基板以赋予张力的方式进行推压；第1基板检测部，其固定地设在所述减振台上，检测供给到所述曝光单元的所述片材基板的位置；和控制部，其基于所述第1基板检测部的检测结果来控制所述推压机构，从而调整对所述片材基板的推压量，减少向所述旋转滚筒供给的所述片材基板的振动。2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，还具有：第2基板检测部，其为了检测供给到所述固定辊的所述片材基板的所述宽度方向上的位置而固定地设在所述基台上，所述控制部基于所述第2基板检测部的检测结果来控制所述位置调整单元的所述宽度方向移动机构，从而将供给到所述固定辊的所述片材基板的所述宽度方向上的位置修正为第1目标位置。3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述位置调整单元还具有调整所述固定辊相对于所述曝光单元的位置的辊位置调整机构。4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制部基于所述第1基板检测部的检测结果来控制所述辊位置调整机构，从而将供给到所述曝光单元的所述片材基板的位置修正为第2目标位置。5.如权利要求1、2、4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，所述曝光单元具有：对光罩进行保持的光罩保持部件，所述光罩形成有曝光于所述片材基板的光罩图案；向所述光罩照射曝光用照明光的照明机构；以被通过所述照明光的照射而从所述光罩发生的光束投射的方式对所述基板进行支承的基板支承部件，以使所述片材基板在沿所述长边方向的扫描方向移动的方式驱动所述基板支承部件的基板侧驱动部；和以使形成有所述光罩图案的所述光罩的光罩面沿与所述片材基板的移动方向对应的扫描方向移动的方式驱动所述光罩保持部件的光罩侧驱动部。6.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述曝光单元具有：支承所述光罩保持部件的第1框架；和支承所述基板支承部件的第2框架，所述减振台包括设在所述设置面与所述第1框架之间的第1减振台、和设在所述设置面与所述第2框架之间的第2减振台。7.如权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，所述曝光单元还具有支承所述光罩保持部件及所述基板支承部件的框架，所述减振台设在所述设置面与所述框架之间。8....

【专利技术属性】
技术研发人员：铃木智也，小宫山弘树，加藤正纪，渡边智行，鬼头义昭，堀正和，林田洋祐，木内彻，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP