一种掩膜板、显示基板及显示器件制造技术

技术编号:14749091 阅读:176 留言:0更新日期:2017-03-02 02:06
本实用新型专利技术涉及显示技术领域,公开了一种掩膜板、显示基板及其制作方法、显示器件。制作隔垫物的掩膜板包括第一透光区,所述第一透光区对应非显示区域的第一隔垫物所在的区域,通过在所述第一透光区中设置第二透光区,其中,第二透光区的透光率大于第一透光区的透光率,来增加整个所述第一透光区的透光率,通过调整所述第一透光区的透光率改变曝光量,来调整制得第一隔垫物的高度,使其支撑的面板盒厚与显示区域的主隔垫物支撑的面板盒厚一致,保证面板的盒厚均一性。同时,由于仅需对现有的掩膜板进行结构上的改进,不需重新制作掩膜板,降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及显示
,特别是涉及一种掩膜板、显示基板及显示器件
技术介绍
在平板显示
,薄膜晶体管液晶显示器件(ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay,简称TFT-LCD)具有体积小、功耗低、制造成本相对较低等优点,逐渐在当今平板显示市场占据了主导地位。TFT-LCD的主要结构为显示面板,显示面板包括对盒的阵列基板和彩膜基板,在阵列基板和彩膜基板之间设置有主隔垫物和辅助隔垫物,主隔垫物用于支撑面板的盒厚,只有在面板受到较大外力时,辅助隔垫物才辅助支撑面板的盒厚。阵列基板包括多条栅线和多条数据线,限定多个像素区域,每一像素区域包括像素电极和薄膜晶体管,栅线与薄膜晶体管的栅电极电性连接,数据线与薄膜晶体管的源电极电性连接,像素电极与薄膜晶体管漏电极电性连接,通过控制打开薄膜晶体管,向像素电极传输像素电压。彩膜基板包括黑矩阵,用于在显示区域限定多个像素区域,每一像素区域设置有透射特定颜色光线的滤光层,以实现彩色显示。其中,层叠的黑矩阵和滤光层覆盖整个非显示区域。为了不影响显示,主隔垫物和辅助隔垫物与黑矩阵和薄膜晶体管的位置对应。为了保证盒厚的均一性,在非显示区域也形成有Dummy隔垫物,主隔垫物支撑的盒厚与Dummy隔垫物支撑的盒厚一致。但是,在实际制作工艺中,主隔垫物、辅助隔垫物和Dummy隔垫物由同一构图工艺制得,由于彩膜基板的非显示区域覆盖有层叠的黑矩阵和滤光层,当Dummy隔垫物与主隔垫物的高度一致时,Dummy隔垫物支撑的盒厚大于主隔垫物支撑的盒厚,而当Dummy隔垫物与辅助隔垫物的高度一致时,Dummy隔垫物支撑的盒厚小于主隔垫物支撑的盒厚,导致面板盒厚不均一,影响显示质量和产品品质。
技术实现思路
本技术提供一种掩膜板、显示基板及显示器件,用以解决非显示区域的Dummy隔垫物支撑的面板盒厚与显示区域的主隔垫物支撑的面板盒厚不一致,导致面板盒厚不均一的问题。为解决上述技术问题,本技术实施例中提供一种掩膜板,包括部分透光的第一透光区,所述第一透光区中具有至少一个第二透光区,所述第二透光区的透光率大于所述第一透光区的除第二透光区之外的区域的透光率,用于增加整个所述第一透光区的透光率。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述第一透光区中具有镂空部,由所述镂空部形成全透光的所述第二透光区。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述第一透光区中具有一个第二透光区。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述第二透光区占所述第一透光区的面积的10%~20%。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述第一透光区的直径为20um~30um,所述第二透光区的直径为3um~4um。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述第一透光区和第二透光区的形状为正多边形。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述掩膜板还包括全透光的全透光区、部分透光的第三透光区、不透光的遮光区,所述第一透光区的除所述第二透光区之外的区域为不透光。本技术实施例中的掩膜板,其中,所述掩膜板还包括全透光的全透光区、部分透光的第三透光区、不透光的遮光区,所述第一透光区的除所述第二透光区之外的区域与所述第三透光区的透光率一致。本技术实施例中还提供一种显示基板,包括显示区域和位于显示区域外围的非显示区域,所述显示基板包括基底和设置在所述基底上的位于非显示区域的支撑图形,以及设置在所述支撑图形上的第一隔垫物,所述第一隔垫物的材料选择感光材料,并采用如上所述的掩膜板制得,在曝光过程中,所述第一透光区与所述第一隔垫物的位置对应,通过调整整个所述第一透光区的透光率能够调整所述第一隔垫物的高度。本技术实施例中的显示基板,其中,所述显示区域包括主隔垫物和辅助隔垫物,在垂直于所述基底所在平面的方向上,所述第一隔垫物的背离所述基底的顶面的高度与所述主隔垫物的背离所述基底的顶面的高度一致。本技术实施例中的显示基板,其中,所述显示基板为彩膜基板,所述显示区域包括黑矩阵,用于限定多个像素区域,每一像素区域包括透射特定颜色光线的滤光层,所述主隔垫物和辅助隔垫物设置在所述黑矩阵上;所述支撑图形包括与黑矩阵同层设置的遮光图形和与滤光层同层设置在彩膜图形,所述彩膜图形设置在所述遮光图形上;所述第一隔垫物设置在所述彩膜图形上。本技术实施例中的显示基板,其中,所述显示基板为阵列基板,所述显示区域包括栅线和数据线,用于限定多个像素区域,每一像素区域包括薄膜晶体管,所述主隔垫物和辅助隔垫物设置在所述薄膜晶体管上;所述支撑图形与所述薄膜晶体管同层设置;所述第一隔垫物设置在所述支撑图形上。本技术实施例中还提供一种显示器件,采用如上所述的显示基板。本技术实施例中的显示器件,其中,所述显示器件为显示面板,所述显示面板包括对盒的彩膜基板和阵列基板,包括设置在所述彩膜基板和阵列基板之间的主隔垫物和辅助隔垫物;所述显示基板为彩膜基板或阵列基板,在垂直于所述基底所在平面的方向上,所述第一隔垫物的背离所述基底的顶面的高度与所述主隔垫物的背离所述基底的顶面的高度一致。本技术的上述技术方案的有益效果如下:上述技术方案中,制作隔垫物的掩膜板包括第一透光区,所述第一透光区对应非显示区域的第一隔垫物所在的区域,通过在所述第一透光区中设置第二透光区,其中,第二透光区的透光率大于第一透光区的透光率,来增加整个所述第一透光区的透光率,通过调整所述第一透光区的透光率改变曝光量,来调整制得第一隔垫物的高度,使其支撑的面板盒厚与显示区域的主隔垫物支撑的面板盒厚一致,保证面板的盒厚均一性。同时,由于仅需对现有的掩膜板进行结构上的改进,不需重新制作掩膜板,降低了生产成本。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。图1表示本技术实施例中掩膜板的结构示意图一;图2表示本技术实施例中掩膜板的结构示意图二;图3表示本技术实施例中掩膜板的结构示意图三;图4表示本技术实施例中掩膜板的第一透光区的局部俯视图;图5表示本技术实施例中显示基板的制作过程示意图;图6表示本技术实施例中显示面板的结构示意图一;图7表示本技术实施例中显示面板的结构示意图二。具体实施方式对于TFT-LCD,显示面板的盒厚由位于显示区域的主隔垫物和辅助隔垫物,以及位于非显示区域的第一隔垫物(即Dummy隔垫物)共同支撑。在显示面板未受到外力时,显示面板的盒厚由主隔垫物和第一隔垫物支撑,只有在显示面板受到较大外力时,辅助隔垫物才起到支撑作用。主隔垫物、辅助隔垫物和第一隔垫物由感光材料制得,如:感光树脂。对于主隔垫物和辅助隔垫物,其与彩膜基板的黑矩阵位置对应,与阵列基板的薄膜晶体管位置对应。而对于第一隔垫物,彩膜基板上用于支撑所述第一隔垫物的支撑图形为层叠设置的黑矩阵和滤光层,阵列基板上用于支撑所述第一隔垫物的支撑图形为薄膜晶体管。显然,为了保证显示区域和非显示区域的面板盒厚一致,需要设置第一隔垫物的高度小于主隔垫物,但大于辅助隔垫物。具体的,本文档来自技高网
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一种掩膜板、显示基板及显示器件

【技术保护点】
一种掩膜板,包括部分透光的第一透光区,其特征在于,所述第一透光区中具有至少一个第二透光区,所述第二透光区的透光率大于所述第一透光区的除第二透光区之外的区域的透光率,用于增加整个所述第一透光区的透光率。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,包括部分透光的第一透光区,其特征在于,所述第一透光区中具有至少一个第二透光区,所述第二透光区的透光率大于所述第一透光区的除第二透光区之外的区域的透光率,用于增加整个所述第一透光区的透光率。2.根据权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述第一透光区中具有镂空部,由所述镂空部形成全透光的所述第二透光区。3.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第一透光区中具有一个第二透光区。4.根据权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,所述第二透光区占所述第一透光区的面积的10%~20%。5.根据权利要求4所述的掩膜板,其特征在于,所述第一透光区的直径为20um~30um,所述第二透光区的直径为3um~4um。6.根据权利要求5所述的掩膜板,其特征在于,所述第一透光区和第二透光区的形状为正多边形。7.根据权利要求1-6任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板还包括全透光的全透光区、部分透光的第三透光区、不透光的遮光区,所述第一透光区的除所述第二透光区之外的区域为不透光。8.根据权利要求1-6任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板还包括全透光的全透光区、部分透光的第三透光区、不透光的遮光区,所述第一透光区的除所述第二透光区之外的区域与所述第三透光区的透光率一致。9.一种显示基板,包括显示区域和位于显示区域外围的非显示区域,其特征在于,所述显示基板包括基底和设置在所述基底上的位于非显示区域的支撑图形,以及设置在所述支撑图形上的第一隔垫物,所述第一隔垫物的材料选择感光材料,并采用权利要求1-8任一项所述的掩膜板制得,在曝光过...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈长堤
申请(专利权)人:合肥京东方光电科技有限公司京东方科技集团股份有限公司
类型:新型
国别省市:安徽;34

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