交叉矩阵列式磁性随机存储器及其读写方法技术

本发明专利技术提供了一种交叉矩阵列式磁性随机存储器，包括若干第一向导线、与所述若干第一向导线间隔且交叉设置的若干第二向导线，以及由所述若干第一向导线和所述若干第二向导线相互交叉所限定的若干交叉节点；每个所述交叉节点均设置有磁记忆单元，所述磁记忆单元分别与其所处交叉节点处的第一向导线和第二向导线电连接；所述磁记忆单元包括磁电阻元件，以及与所述磁电阻元件电连接的二极管；所述磁电阻元件包括垂直型磁性隧道结，从而所述磁电阻元件可通过流经其中的电流来改变其电阻态。本发明专利技术还提供了上述磁性随机存储器的读写方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术设及存储器件领域，尤其设及一种交叉矩阵列式磁性随机存储器及其读写 方法。
技术介绍
近年来人们利用磁性隧道结（MTJ，Ma即etic化nnel化nction)的特性做成磁性 随机存储器，即为MRAM(Ma即etic Random Access Memoir)。MRAM是一种新型固态非易失 性记忆体，它有着高速读写的特性。铁磁性MTJ通常为Ξ明治结构，其中有磁性记忆层，它 可W改变磁化方向W记录不同的数据；位于中间的绝缘的隧道势垒层；磁性参考层，位于 隧道势垒层的另一侧，它的磁化方向是不变的。当磁性记忆层与磁性参考层之间的磁化强 度矢量方向平行或反平行时，MTJ元件的电阻态也相应分别为低阻态或高阻态。运样测量 MTJ元件的电阻态即可得到存储的信息。[000引 已有一种方法可W得到高的磁电阻（MR，Ma即eto Resistance)率：在非晶结构的 磁性膜的表面加速晶化形成一层晶化加速膜。当此层膜形成后，晶化开始从隧道势垒层一 侧形成，运样使得隧道势垒层的表面与磁性表面形成匹配，运样就可W得到高MR率。 一般通过不同的写操作方法来对MRAM器件进行分类。传统的MRAM为磁场切换型 MRAM :在两条交叉的电流线的交汇处产生磁场，可改变MTJ元件的磁性记忆层的磁化强度 方向。自旋转移矩磁性随机存储器（STT-MRAM，Spin-transfer Torque Ma即etic Random Access Memory)则采用完全不同的写操作，它利用的是电子的自旋角动量转移，即自旋极 化的电子流把它的角动量转移给磁性记忆层中的磁性材料。磁性记忆层的容量越小，需要 进行写操作的自旋极化电流也越小。所W运种方法可W同时满足器件微型化与低电流密 度。STT-MRAM具有高速读写、大容量、低功耗的特性，有潜力在电子忍片产业，尤其是移动忍 片产业中，替代传统的半导体记忆体W实现能源节约与数据的非易失性。[000引对于目前的面内型STT-MRAM(其中MTJ元件的易磁化方向在面内）来说，受面内 型MTJ元件的特性所限，单一元件尺寸一般较大，并且相邻MTJ元件需要有较大间距，W避 免相互间的磁场干扰。因此，限制了面内型STT-MRAM产品集成度的提升。 垂直型磁性隧道结（PMTJ，Pe巧endi州lar Ma即etic Tunnel Junction)即磁矩垂 直于衬底表面的磁性隧道结，在运种结构中，由于两个磁性层的磁晶各向异性比较强（不 考虑形状各向异性），使得其易磁化方向都垂直于层表面。在同样的条件下，元件尺寸可W 做得比面内型MTJ元件更小，易磁化方向的磁极化误差可W做的很小，并且MTJ元件尺寸的 减小使所需的切换电流也可相应减小。另一方面，在存储器阵列中，相邻垂直型MTJ的安 全间距较之面内型MTJ也可大为缩小。从而垂直型STT-MRAM(pSTT-MRAM，pe巧endicular Spin-transfer Torque Magnetic Random Access Memory)较之面内型 STT-MRAM,其集成 度有非常大的提升空间。 但在现有的STT-MRAM结构中，每个记忆单元的MTJ元件通常会连接一个Ξ极管作 为电流流向选择器，如使用M0S管，通过M0S管的导通和截止W实现电流导向，从而可W通 过相应的写电流来设置MTJ元件的高、低电阻态，也即写入了存储信息，W及根据读电流的 大小来判断MTJ元件的电阻态，也即读出了存储信息。[000引对于面内型STT-MRAM来说，基于面内型MTJ元件的尺寸及其相互间距的要求，Ξ 极管的尺寸不是提高面内型STT-MRAM集成度的主要瓶颈，或者说缩小Ξ极管的尺寸，对于 面内型STT-MRAM集成度的提升程度有限。目前已有一些针对面内型STT-MRAM集成度提升 的技术方案，如专利号为US6868003B2的美国专利中，面内型STT-MRAM使用PN结二极管取 代Ξ极管作为电流流向选择器，由于面内型STT-MRAM占用面积较大，存储忍片的集成度没 有实质性的提高；同时读写电流也较大，PN结二极管也不宜做小。 对于垂直型STT-MRAM来说，情况却与面内型STT-MRAM恰恰相反，垂直型MTJ元 件的尺寸及其相互间距较之面内型MTJ元件已大为缩小，此时集成度的提升几乎完全取决 于Ξ极管的尺寸大小，即使使用当前最先进的工艺（线宽），Ξ极管的尺寸仍远大于垂直型 MTJ元件，同时Ξ极管制造工艺相对也比较复杂，提高了产品的制造成本。垂直型STT-MRAM 目前仍采用Ξ极管作为电流流向选择器，从而使其集成度的提升一直依赖于先进工艺（线 宽）的升级。 因此，本领域的技术人员致力于开发一种高集成、高性能、成本节省的pSTT-MRAM 产品。
技术实现思路
有鉴于现有技术的上述缺陷，本专利技术提供了一种交叉矩阵列式磁性随机存储器， 其包括若干第一向导线、与所述若干第一向导线间隔且交叉设置的若干第二向导线，W及 由所述若干第一向导线和所述若干第二向导线相互交叉所限定的若干交叉节点；每个所述 交叉节点均设置有磁记忆单元，所述磁记忆单元分别与其所处交叉节点处的第一向导线和 第二向导线电连接；所述磁记忆单元包括磁电阻元件，W及与所述磁电阻元件电连接的二 极管；所述磁电阻元件包括垂直型磁性隧道结，从而所述磁电阻元件可通过流经其中的电 流来改变其电阻态。 通常的垂直型磁性隧道结包括： 磁性参考层，所述磁性参考层的磁化方向不变且磁各向异性垂直于层表面； 磁性记忆层，所述磁性记忆层的磁化方向可变且磁各向异性垂直于层表面； 隧道势垒层，所述隧道势垒层位于所述磁性参考层和所述磁性记忆层之间且分别 与所述磁性参考层和所述磁性记忆层相邻。 进一步地，所述二极管由淀积的薄膜所形成。 进一步地，所述二极管和所述磁电阻元件的图案化使用同一块掩膜版。 进一步地，所述二极管的制备工序在所述磁电阻元件之前。 进一步地，所述二极管的制备工序在所述磁电阻元件之后。 本专利技术还提供了上述磁性随机存储器的读写方法，其中对于任一交叉节点的磁记 忆单元采用W下读写操作： 写操作：在交叉节点所对应的第一向导线和第二向导线上加载写电压，产生的写 电流流经对应的磁电阻元件W改变其电阻态； 读操作：在交叉节点所对应的第一向导线和第二向导线上加载读电压，产生读电 流，所述读电流不足w改变其所流经的磁电阻元件的电阻态。 进一步地，所述写操作时，所述写电压使二极管正向导通或反向击穿。本文中所提 到的二极管的反向击穿，限于在反向电压去掉后二极管可W恢复到原始状态，而不会导致 二极管击穿损坏。 进一步地，所述读电压使二极管正向导通。本专利技术的交叉矩阵列式磁性随机存储器，利用半导体二极管替代Ξ极管作为磁记 忆单元中的电流流向选择器，实现了将复杂的供电网路改用简单的交叉式供电方式，从而 极大的简化了 MRAM的生产工艺、降低了成本，并且可W极大地提高存储忍片的集成度，特 别是对于pSTT-MRAM产品。 W下将结合附图对本专利技术的构思、具体结构及产生的技术效果作进一步说明，W 充分地了解本专利技术的目的、特征和效果。【附图说明】 图1是一种现有的磁记忆单元的结构示意图； 图2是本专利技术的一种交叉矩阵列式磁性随机存储器的磁记忆单元的结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种磁性随机存储器，其特征在于，包括若干第一向导线、与所述若干第一向导线间隔且交叉设置的若干第二向导线，以及由所述若干第一向导线和所述若干第二向导线相互交叉所限定的若干交叉节点；每个所述交叉节点均设置有磁记忆单元，所述磁记忆单元分别与其所处交叉节点处的第一向导线和第二向导线电连接；所述磁记忆单元包括磁电阻元件，以及与所述磁电阻元件电连接的二极管；所述磁电阻元件包括垂直型磁性隧道结，从而所述磁电阻元件可通过流经其中的电流来改变其电阻态。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：肖荣福，郭一民，陈峻，
申请(专利权)人：上海磁宇信息科技有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31