一种晶圆横向水平对准的方法技术

本发明专利技术提供一种晶圆横向水平对准的方法，应用于并行测试系统，通过在显示器和旋钮上设置相对应的角度刻度，当晶圆偏移横向水平位置时，显示器上的刻度会显示其偏移角度，根据调整晶圆承载盘上的角度旋钮相应的角度大小，可快速，精准的实现对晶圆横向水平的精确调节。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体制造领域，尤其涉及。
技术介绍
并行测试系统中探针卡4X4分布在晶圆承载盘上方，每一排探针卡横向水平，因此，要求置于晶圆承载盘上的晶圆必须横向水平。并行测试系统目前的横向对准方法无法知道晶圆偏离横向水平的实际角度，全靠工程师人为估计偏移角度，然后不断的重复调节，直至认为调平，这种方法造成对准所需时间较久，调平也不够精准，给测试造成不便，严重的可能会损坏探针卡。现有技术中调平方法:1)首先让显示器上的对准标记和显示器所显示晶圆图像的横向水平线某一点对齐；2)沿轨道横向水平移动显微镜，若晶圆没有横向水平，显示器所显示晶圆图像的横向水平线就会偏离对准标记；3)手动调节晶圆承载盘下的旋钮，使晶圆承载盘旋转，让晶圆的横向水平；4)不断重复上述动作，直到晶圆横向水平。中国专利(CN 101196554B)提出一种晶圆多测试对象并行测试系统，包括并行测试所需的多个测试对象的探针组，测试对象临近芯片对应的附加探针，所述附加探针与并行测试对象临近的芯片的接地端或其他端子相对应，并在测试时与其接触。本专利技术有效地解决了并行测试过程中由地电位起伏而导致的串扰问题。该专利主要解决了晶圆多测试对象并行测试系统中由地电位起伏而导致的串扰问题，但并未为解决上述晶圆人工调横的问题。
技术实现思路
本专利技术提供，应用于并行测试系统，通过在显示器和旋钮上设置相对应的角度刻度，当晶圆偏移横向水平位置时，显示器上的刻度会显示其偏移角度，根据调整晶圆承载盘上的角度旋钮相应的角度大小，可快速，精准的实现对晶圆横向水平的精确调节。本专利技术记载了，应用于并行测试系统，其中，所述方法包括:提供一显示器和一待测晶圆，所述待测晶圆上设置由若干条相互垂直的切割线；在所述显示器的两侧边框的中心位置均水平设置一个横向对准标记，所述横向对准标记的一端紧贴显示器中的显示屏；在所述显示屏两侧边框上均竖直设置一刻度尺，所述刻度尺中的0刻度线与对准标记沿水平方向上延伸的直线重合；所述显示屏显示出一贯穿整个显示屏的切割线作为待测晶圆的横向水平线；当所述待测晶圆的横向水平线的一端与所述显示屏一侧的所述横向对准标记和所述刻度尺均相交时；根据待测晶圆的横向水平线另一端与所述显示屏另一侧的所述刻度尺的交点读出一晶圆偏移角度；通过一周围设置有刻度的角度旋钮将待测晶圆反方向旋转所述晶圆偏移角度，直至待测晶圆的横向水平线与两侧刻度尺上的0刻度线均相交；其中，任一所述刻度尺上的刻度单位均与所述角度旋钮上的刻度单位保持一致。上述方法，其中，所述待测晶圆被固定在一晶圆承载盘上；其中，通过旋转所述角度旋钮可以旋转所述晶圆承载盘，以带动所述待测晶圆旋转。上述方法，其中，在晶圆承载盘的上方设置有一显微镜，通过所述显微镜将观测结果反馈至所述显示器中，以观察晶圆承载盘上待测晶圆的横向水平线。上述方法，其中，所述显微镜对准任意两条相互垂直的切割道的十字交点，将沿着所述十字交点横向水平方向的切割道作为所述待测晶圆的横向水平线。上述方法，其中，当所述待测晶圆的横向水平线与任一所述横向对准标记不相交时，移动所述显微镜直至所述待测晶圆的横向水平线与所述横向对准标记刻度相交。上述方法，其中，所述刻度尺上每条刻度线所对应的角度是所述待测晶圆的横向水平线与两对准标记的水平连线之间的夹角。上述方法，其中，通过所述角度旋钮使所述待测晶圆绕其中心点在水平面内旋转。本专利技术具有如下技术优势:1、通过并行测试系统调节晶圆的横向水平对准，有效的提高了其横向对准的精确性。2、通过在显示器和旋钮上设置相一致的角度刻度，可以更加快速的实现对晶圆横向水平的精确调节。【附图说明】参考所附附图，以更加充分的描述本专利技术的实施例。然而，所附附图仅用于说明和阐述，并不构成对本专利技术范围的限制。图1为本专利技术并行测试系统结构示意图；图2为本专利技术晶圆切割道及十字交点7K意图；图3为本专利技术显示器结构示意图；图4为本专利技术角度旋钮示意图。【具体实施方式】本专利技术公开了一种晶圆水平对准的方法，应用于一并行测试系统，图1为本专利技术并行测试系统结构示意图，如图1所示，由于并行测试系统2的若干探针卡5排列在晶圆承载盘1上，且每排探针卡5横向水平，每个探针卡5在测试中都会插入晶圆承载盘1上晶圆的待测位置，因此，固定在晶圆承载盘1上的晶圆(图1中未显示)必须横向水平对准，以保证测试的精确性。上述并行测试系统2包括，一晶圆承载盘1，该晶圆承载盘通过旋转一角度旋钮(图中未显示)可以旋转晶圆承载盘1，以带动晶圆承载盘1上的固定的待测晶圆(图中未显示)，在晶圆承载盘的上方设置有一显微镜4，用于观察晶圆承载盘上的待测晶圆，并且该显微镜4固定在移动轨道6上，显微镜可在移动轨道6上横向水平移动。提供一待测晶圆(图中未显示)，所述待测晶圆上设置由若干条相互垂直的切割线，优选的，该晶圆上的若干切割线呈网格状排当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种晶圆横向水平对准的方法，应用于并行测试系统，其特征在于，所述方法包括：提供一显示器和一待测晶圆，所述待测晶圆上设置由若干条相互垂直的切割线；在所述显示器的两侧边框的中心位置均水平设置一个横向对准标记，所述横向对准标记的一端紧贴显示器中的显示屏；在所述显示屏两侧边框上均竖直设置一刻度尺，所述刻度尺中的0刻度线与对准标记沿水平方向上延伸的直线重合；所述显示屏显示出一贯穿整个显示屏的切割线作为待测晶圆的横向水平线；当所述待测晶圆的横向水平线的一端与所述显示屏一侧的所述横向对准标记和所述刻度尺均相交时；根据待测晶圆的横向水平线另一端与所述显示屏另一侧的所述刻度尺的交点读出一晶圆偏移角度；通过一周围设置有刻度的角度旋钮将待测晶圆反方向旋转所述晶圆偏移角度，直至待测晶圆的横向水平线与两侧刻度尺上的0刻度线均相交；其中，任一所述刻度尺上的刻度单位均与所述角度旋钮上的刻度单位保持一致。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴奇伟，尹彬锋，王炯，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31