基膜制造技术

本发明专利技术提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明专利技术提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法，所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下，并具有优异的功能，例如偏光性能。根据本发明专利技术可以防止在延伸处理中产生撕裂或卷曲等，并且可以通过容易地延伸可偏光材料例如PVA类树脂而制备偏光膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请涉及一种基膜、积层体以及制备偏光膜的方法。
技术介绍
将二色性材料吸附或定向在聚乙烯醇类树脂（以下称作"PVA树脂"）层中来制备 偏光膜的方法是众所周知的。偏光膜通常被用于显示器，例如液晶显示器（LCD)。例如，通 常厚度为约60μm至80μm的PVA树脂类偏光膜被粘贴到IXD液晶面板的两面。 PVA树脂是亲水性的。因此，偏光膜对温度或湿度的变化敏感，容易膨胀、收缩，并 且容易导致所谓卷曲的缺陷。因此，为了抑制膨胀、收缩以及减少温度和湿度的影响，通常 把保护膜粘贴到PVA树脂偏光膜的两面。然而，当偏光膜较厚时则不容易抑制膨胀、收缩， 并且当偏光膜被粘贴到液晶面板等时会引起应力，该应力导致在屏幕上产生污渍等。此外， 近来随着对薄型设备或低耗能设备需求增加，对更薄的偏光膜的需求也在增加。 例如，专利文件1等公开有制备薄偏光膜的方法。现有抟术f件 专利f件 专利文件1 :韩国专利第1175700号。
技术实现思路
专利技术目的 本申请提供一种基膜，积层体以及制备偏光膜的方法。 技术方案 本申请涉及一种基膜。一种示例的基膜，例如，可以是一种在延伸能显示偏光功能 的材料例本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种满足下式1的可延伸基膜：[式1]E/R≥5，其中，在式1中，E表示室温下测定的可延伸基膜的伸长率(单位：％)，R表示恢复率(单位：％)，所述恢复率的测定方法如下：通过将宽度和长度与基膜相同而厚度为30μm的聚乙烯醇膜粘贴到被切成宽度为50mm、长度为100mm的基膜的表面而制备的积层体在60℃的水中于纵向延伸5倍，从水中取出该积层体，剥离聚乙烯醇膜，将该积层体在室温保持1小时，测定所述基膜在长度方向上的长度T，并将所测得的值代入式“100×(T‑A)/A”中来计算恢复率，其中，该式中的A为延伸之前所述基膜的长度。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：梁世雨，南星铉，罗钧日，黄闰泰，郑棕炫，柳惠珉，黄智英，朴恩淑，
申请(专利权)人：LG化学株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR