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本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜的方法。本发明提供了一种能够有效地制备偏光膜的基膜、一种积层体以及一种制备偏光膜方法，所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下，并具有优异的功...
该专利属于LG化学株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过LG化学株式会社授权不得商用。

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