防止热损伤的ITO薄膜制造方法及其制造装置制造方法及图纸

技术编号:12778045 阅读:124 留言:0更新日期:2016-01-27 20:30
本发明专利技术公开一种防止热损伤的ITO薄膜制造方法及其制造装置,包括基材,所述基材在真空腔室内从放料辊出发,绕过溅射主辊,在溅射主辊处经靶材溅射形成ITO薄膜,最后到达收卷辊收卷。本发明专利技术在现有技术的基础上通过增加张力摆辊和展平辊展平基材,使基材与溅射主辊完全接触,对溅射主辊内部设水循环系统带走溅射中产生的热量,使溅射主辊和第二收料导辊与地线相连接带走部分电荷,在卷取辊旁设一除静电装置除去静电等技术改良,有效地减少热损伤、变形、电击人体等现象的发生,使ITO薄膜的生产过程更加安全、高效,其产品更加美观,提高优品率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及ΙΤ0薄膜生产
,特别涉及一种防止热损伤的ΙΤ0薄膜制造方法及其制造装置。
技术介绍
因为ΙΤ0薄膜具有良好的透明性与导电性,同时还具有良好的刻蚀性,因而被大量运用于平面液晶显示(IXD),电致发光显示(ELD),电致色彩显示(E⑶)等。随着近几年来,国内液晶显示器产业的大力发展,对ΙΤ0产品的需求量增大的同时,对产品的质量有了新的要求。现存的ΙΤ0薄膜生产工艺中,特别是在溅射成膜的时候,粒子碰撞会产生很大的电荷,随着溅射生产时间的增加,薄膜基材表面的电荷密度不断增大,并与薄膜基材表面接触的溅射主辊形成通路,使得溅射主辊以及薄膜基材的温度上升,导致膜损伤。同时,在高能粒子和等离子体的环境下,带电粒子入射,大量的电流流动,造成电流热效应的热量很大,薄膜基材在被高温加热的情况下,薄膜基材会产生变形和褶皱等热损伤现象,造成ΙΤ0薄膜的成品率不稳定。
技术实现思路
本专利技术针对现有技术存在之缺,其目的在于提供一种防止热损伤的ΙΤ0薄膜制造方法及其制造装置,其可有去除ΙΤ0薄膜表面电量,降低成膜环境的温度,减轻ΙΤ0薄膜的热损伤。为达上述目的,本专利技术采用如下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防止热损伤的ITO薄膜制造方法,包括基材,所述基材在真空腔室内从放料辊出发,绕过溅射主辊,在溅射主辊处经靶材溅射形成ITO薄膜,最后到达收卷辊收卷,其特征在于:在基材到达溅射主辊前,使用展平辊和张力摆辊使基材保持展平状态,以便基材与溅射主辊表面完全接触;在溅射主辊内部设置水循环系统,通过水循环带走溅射主辊上的部分热量,降低溅射主辊表面温度;在收卷辊旁设置除静电装置,去除成形后的ITO薄膜表面的电荷。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:由龙黄振革
申请(专利权)人:山东金鼎电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:山东;37

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