一种阵列基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及其制作方法，所述方法包括：在衬底基板上制作开关阵列层；在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜，所述色阻层上形成有过孔；在色阻层上形成透明导电层；以及在所述透明导电层上形成遮光层。本发明专利技术的阵列基板及其制作方法，通过在制作透明导电层之后制作黑色矩阵，防止同时在黑色矩阵和色阻层上制作过孔时，容易造成孔的尺寸偏差，避免透明导电层发生破裂。

【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本专利技术涉及液晶显示器
，特别是涉及。 【
技术介绍
】 如图1所示，现有的阵列基板：譬如为BOA(BMonArray)基板，B0A基板是在阵列 基板上制作彩色滤光膜和黑色矩阵，阵列基板包括：衬底基板11、第一金属层12位于衬底 基板11上，包括栅极；栅绝缘层13部分位于第一金属层12上，用于隔离所述第一金属层12 和有源层14 ;有源层14部分位于栅绝缘层13上，用于形成沟道；第二金属层15位于有源 层14上，包括源极、漏极；第二绝缘层16,位于第二金属层15上；色阻层17,位于所述第二 绝缘层16上，色阻层和遮光层上形成有过孔18 ;以及黑色矩阵层19位于色阻层17上，透 明导电层20部分位于黑色矩阵层19上。 为了使透明导电层与第二金属层接触，需要分别在色阻层和遮光层上设置过孔， 且在色阻层设置过孔后，使得孔内的遮光层比较厚，不利于遮光层的过孔的制作，其次会使 得色阻层上的孔和遮光层上孔的位置出现偏差，使得后续的透明导电层容易产生裂缝，影 响显示效果。 因此，有必要提供，以解决现有技术所存在的问题。 【
技术实现思路
】 本专利技术的目的在于提供，以解决现有技术中遮光层和 色阻层的过孔位置容易发生偏差，容易使得透明导电层产生裂缝，显示效果差的技术问题。 为解决上述技术问题，本专利技术构造了一种阵列基板的制作方法，其包括： 在衬底基板上制作开关阵列层，所述开关阵列层包括第一金属层、有源层、第二金 属层；其中对所述第一金属层进行图形化处理形成多个栅极，对所述第二金属层进行图形 化处理形成多个源极和多个漏极，所述有源层用于形成沟道； 在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩 膜，所述色阻层上形成有过孔； 在所述色阻层上形成透明导电层；以及 在所述透明导电层上形成遮光层。 在本专利技术的阵列基板的制作方法中，在所述透明导电层上方的过孔内也填充有所 述遮光层。 在本专利技术的阵列基板的制作方法中，所述遮光层为黑色矩阵。 在本专利技术的阵列基板的制作方法中，所述方法还包括：在所述遮光层上形成第一 绝缘层。 在本专利技术的阵列基板的制作方法中，所述第一绝缘层的厚度小于等于0. 2微米。 在本专利技术的阵列基板的制作方法中，所述透明导电层通过所述过孔与所述第二金 属层连接。 本专利技术还提供一种阵列基板，其包括： 衬底基板； 开关阵列层，位于所述衬底基板上，所述开关阵列层包括第一金属层、有源层、第 二金属层；其中所述第一金属层包括多个栅极，所述第二金属层包括多个源极和多个漏极， 所述有源层用于形成沟道； 色阻层，位于所述开关阵列层上，所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜， 所述色阻层上形成有过孔； 透明导电层，位于所述色阻层上；以及 遮光层，位于所述透明导电层上。 在本专利技术的阵列基板中，在所述透明导电层上方的过孔内也设置有所述遮光层。 在本专利技术的阵列基板中，所述遮光层为黑色矩阵。 在本专利技术的阵列基板中，在所述遮光层上还设置有第一绝缘层。 本专利技术的阵列基板及其制作方法，通过在制作透明导电层之后制作黑色矩阵，避 免透明导电层产生裂缝，提高了显示效果。 【【附图说明】】 图1为现有技术的阵列基板的结构示意图； 图2为本专利技术的阵列基板的结构示意图； 图3为电场强度随绝缘层厚度变化的示意图； 图4为本专利技术的不同厚度的绝缘层对电场强度影响的波形图； 图5为本专利技术的阵列基板的制作方法流程图； 图6为本专利技术的液晶显示面板的结构示意图。 【【具体实施方式】】 以下各实施例的说明是参考附加的图式，用以例示本专利技术可用以实施的特定实施 例。本专利技术所提到的方向用语，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧 面」等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本专利技术，而非用 以限制本专利技术。在图中，结构相似的单元是以相同标号表示。 请参照图2,图2为本专利技术的阵列基板的结构示意图。 如图2所示，本专利技术的阵列基板包括：衬底基板21、开关阵列层、色阻层27、透明导 电层28、遮光层29 ; 所述开关阵列层位于所述衬底基板21上，所述开关阵列层包括多个薄膜晶体管； 其具体包括：第一金属层22、栅绝缘层23、有源层24、第二金属层25 ; 所述第一金属层22位于所述衬底基板21上，可包括多个栅极，所述栅绝缘层23 位于所述第一金属层22上，所述有源层24部分位于所述栅绝缘层23上，所述第二金属层 25位于所述有源层24上；所述色阻层27位于所述第二金属层25上，所述色阻层包括多个 彩膜色阻；所述色阻层27上还可设置有过孔；所述透明导电层28通过所述过孔与所述第 二金属层25连接。 所述透明导电层28位于所述色阻层27上；所述遮光层29位于所述透明导电层28 上。所述遮光层29可为黑色矩阵。 通过将遮光层在透明导电层之后制作，仅需要在色阻层上制作过孔，从而节省制 程程序，避免同时在色阻层和遮光层上制作过孔，容易出现偏差的问题，从而防止透明导电 层出现裂缝， 优选地，在所述透明导电层28上方的过孔内也填充有所述遮光层。 由于透明导电层可透光，因此导致过孔边缘出现漏光，通过在过孔内也填充上遮 光层，能够避免过孔边缘出现漏光的现象，从而更好地提高显示效果。可以理解的是，向所 述过孔内填充黑色矩阵，直至过孔填满，能够使过孔表面更加平整，更好地提高显示效果。 优选地，在所述遮光层29上还可设置第一绝缘层30,所述第一绝缘层30,防止高 温制程中容易导致遮光层或者色阻层内材料挥发，产生气泡，从而影响显示效果。所述第一 绝缘层的材料主要为无机透明材料，如氮化娃SiNx等。 进一步地，所述第一绝缘层30的厚度小于等于0. 2微米；由于垂直方向液晶电场 强度会随着第一绝缘层的厚度增加而减弱，虽然在实际操作中，可通过调整液晶驱动电压 来弥补第一绝缘层的厚度增加对电场的减弱作用，但会增加能耗，从而增加生产成本。通过 实验验证发现，通过将第一绝缘层的厚度设置在上述范围时，在降低能耗的同时，避免影响 电场强度。所述第一绝缘层30的厚度更优选为小于等于0. 1微米。 电场强度随绝缘层厚度的变化示意图，如图3所示，图3中横坐标表示绝缘层厚度 (单位为um)，纵坐标表示电场强度（单位为V/um);电场强度随绝缘层厚度的变化具体数 值如下表： 表 1 从图3和表1，不难看出绝缘层厚度等于0. 2um时，电场强度下降8. 08% ;绝缘层 厚度等于〇. 5um时；电场强度下降16. 2%;当绝缘层厚度大于0. 2微米时，电场强度下降幅 度变大，而在液晶驱动电压附近绝缘层厚度在〇. 2um以下时，电场强度下降缓慢，能够满足 正常制程需求。特别是绝缘层厚度在0. 1微米以下时，基本上不会对电场强度造成影响。 图4给出不同厚度的绝缘层对电场强度影响的波形图，如图4所示，图4中横坐标 表示绝缘层的在液晶显示面板长边方向的位置（单位为um)，纵坐标表示电场强度（单位为 VAim) ;101表示没有设置绝缘层时的电场强度波形示意图，102表示绝缘层的厚度在1000 埃时的电场强度波形示意图；103表示绝缘层的厚度在当前第1页1 2 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上制作开关阵列层，所述开关阵列层包括第一金属层、有源层、第二金属层；其中对所述第一金属层进行图形化处理形成多个栅极，对所述第二金属层进行图形化处理形成多个源极和多个漏极，所述有源层用于形成沟道；在所述开关阵列层上形成色阻层，所述色阻层包括红色彩膜、绿色彩膜、蓝色彩膜，所述色阻层上形成有过孔；在所述色阻层上形成透明导电层；以及在所述透明导电层上形成遮光层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘国和，祝秀芬，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44