【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
一种分离的结合多肽,其包含CH1结构域,其中所述CH1结构域在根据Kabat编号的氨基酸位置114处包含天冬酰胺残基。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:C·潘,H·邱,P·达尔,B·陈,D·贾诺利奥,
申请(专利权)人:建新公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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