本发明专利技术涉及一种真空获得系统气体分析控制实施装置，包括真空槽、除尘器、真空泵组，所述真空槽与除尘器之间通过真空管道一相连，所述除尘器与真空泵组之间通过真空管道二相连，所述真空管道二上设有激光气体分析仪、压力检测仪表，所述激光气体分析仪、压力检测仪表分别与PLC控制器输入端相连，所述PLC控制器又分别与真空泵组、吹扫气源控制开关相连，所述吹扫气源控制开关与吹扫气源相连，所述吹扫气源上设有吹扫气管，其有益效果为：将真空槽内释放出的气体气体成份分析起始时间提前，缩短了真空获得系统对真空槽内气体成份变化进行控制的响应时间，达到快速实时的检测分析真空槽内气体成份变化，并以此精准控制真空获得系统的真空获得系统。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空获得系统领域，具体涉及。
技术介绍
真空获得系统广泛用于冶金、化工领域，它包括真空槽、除尘器、真空栗系统、气体分析仪、压力检测仪表、真空管道、排空管道等。对其真空槽内释放的气体成份进行快速准确分析是控制真空获得系统的关键。当前真空获得系统控制是通过在排空管道末端安装气体分析仪对真空栗组排放的气体成份进行检测分析，比对检测结果后对真空获得系统进行控制，这样真空槽内物质在真空条件下释放出的气体，需要经历真空栗组逐级压缩才能到达末端气体排放管道排放到大气中，此时获得的气体成份检测分析结果已经相对滞后，并且真空栗抽真空过程中不可避免要吸入其它气体，排空管道与大气相连也不可避免会混入空气，导致气体成份发生一定变化，无法保证快速准确分析，难以达到以真空槽内气体成分变化控制真空获得系统，去满足各种产品生产工艺要求的目的。
技术实现思路
为克服所述不足，本专利技术的目的在于提供，能将真空槽内释放出的气体气体成份分析起始时间提前，缩短了真空获得系统对真空槽内气体成份变化进行控制的响应时间，达到快速实时的检测分析真空槽内气体成份变化，并以此精准控制真空获得系统的真空获得系统气体分析控制实施装置。本专利技术解决其技术问题所采用的技术方案是:一种真空获得系统气体分析控制装置，包括真空槽、除尘器、真空栗组，所述真空槽与除尘器之间通过真空管道一相连，所述除尘器与真空栗组之间通过真空管道二相连，所述真空管道二上设有激光气体分析仪、压力检测仪表，所述激光气体分析仪、压力检测仪表分别与PLC控制器相连，所述PLC控制器又分别与真空栗组、吹扫气源控制开关相连，所述吹扫气源控制开关与吹扫气源相连，所述吹扫气源上设有吹扫气管，吹扫气管的另一端对准激光气体分析仪镜头，吹扫气源开关根据接受到的信号控制吹扫气源，对激光气体分析仪镜头进行吹气，防止积灰影响分析精度。利用一种真空获得系统气体分析控制的方法，包括:当真空栗组启动后，激光气体分析仪开始对真空管道二内气体进行成分分析，然后将分析结果反馈给PLC控制器，PLC控制器将气体成分分析结果比对生产工艺要求，调节真空栗组工作，对真空获得系统进行控制；同时，压力检测仪表对除尘器与真空栗组之间真空管道二中的气体压力进行测定，将压力信息传输PLC控制器，PLC控制器对真空管道二压力进判断；当真空管道二内压力大于等于设定值时，打开吹扫气源控制开关，吹扫气源对激光气体分析仪镜头进行吹扫清洁，防止积灰影响分析精度；当真空管道二内压力值小于设定值时，关闭吹扫气气源控制开关，停止对激光气体分析仪镜头进行吹扫清洁，减少进入真空获得系统的气体量。本专利技术具有以下有益效果:通过选用激光气体分析仪，并将气体分析仪前置到真空获得系统的核心设备真空栗前，将气体成份分析起始的时间提前，缩短了真空获得系统对真空槽内气体成份变化进行控制的响应时间；对真空管道二中的气体压力进行实时监测，将监测结果反馈给PLC控制器，PLC控制器气体压力变化，控制吹扫气源控制开关，吹扫气源控制开关控制吹扫气源，当真空管道二内压力值高于等于设定值时，吹扫气气源控制开关打开，开始吹扫；当真空管道二内压力值低于设定值时，吹扫气气源控制开关关闭，停止对激光气体分析仪镜头进行吹扫清洁，减少进入真空获得系统的气体量真空获得系统的气体分析控制方法，使得真空获得系统对其中物质析出气体成分控制更精准。【附图说明】图1是本专利技术的结构示意图。图2是本专利技术的原理图。 图中，I真空槽，2真空导管一，3除尘器，4激光气体分析仪，5压力检测仪表，6真空导管二，7真空栗组，8PLC控制器，9吹扫气源控制开关，10吹扫气源，11吹扫气管。【具体实施方式】现在结合附图对本专利技术作进一步详细的说明。根据图1、图2所示的一种真空获得系统气体分析控制装置，包括真空槽1、除尘器3、真空栗组7，所述真空槽I与除尘器3之间通过真空管道一 2相连，所述除尘器3与真空栗组7之间通过真空管道二 6相连，所述真空管道二 6上设有激光气体分析仪4、压力检测仪表5，所述激光气体分析仪4、压力检测仪表5分别与PLC控制器8相连，所述PLC控制器8又分别与真空栗组7、吹扫气源控制开关9相连，所述吹扫气源控制开关9与吹扫气源10相连，所述吹扫气源10上设有吹扫气管11，吹扫气管11的另一端对准激光气体分析仪4镜头，吹扫气源控制开关9根据接受到的PLC控制器8的信号控制吹扫气源10，对激光气体分析仪4镜头进行吹气，防止积灰影响分析精度。利用一种真空获得系统气体分析控制的方法，包括:当真空栗组7启动后，激光气体分析仪4开始对真空管道二 6内气体进行成分分析，然后将分析结果反馈给PLC控制器8，PLC控制器8将气体成分分析结果比对生产工艺要求，调节真空栗组7工作，对真空获得系统进行控制。同时，压力检测仪表5对除尘器3与真空栗组7之间的真空管道二 6中的气体压力进行测定，将压力信息传输PLC控制器8，PLC控制器8对真空管道二 6压力进判断；当真空管道二 6内压力大于等于设定值时，打开吹扫气源控制开关9，吹扫气源10对激光气体分析仪4镜头进行吹扫清洁，防止积灰影响分析精度；当真空管道二 6内压力值小于设定值时，关闭吹扫气气源控制开关9，停止对激光气体分析仪4镜头进行吹扫清洁，减少进入真空获得系统的气体量。本专利技术不局限于所述实施方式，任何人应得知在本专利技术的启示下作出的结构变化，凡是与本专利技术具有相同或相近的技术方案，均落入本专利技术的保护范围之内。本专利技术未详细描述的技术、形状、构造部分均为公知技术。【主权项】1.一种真空获得系统气体分析控制装置，包括真空槽、除尘器、真空栗组，所述真空槽与除尘器之间通过真空管道一相连，所述除尘器与真空栗组之间通过真空管道二相连，其特征在于:所述真空管道二上设有激光气体分析仪、压力检测仪表，所述激光气体分析仪、压力检测仪表分别与PLC控制器相连，所述PLC控制器又分别与真空栗组、吹扫气源控制开关相连，所述吹扫气源控制开关与吹扫气源相连，所述吹扫气源上设有吹扫气管，吹扫气管的另一端对准激光气体分析仪镜头。2.—种真空获得系统气体分析控制的方法，其特征在于:包括: 当真空栗组启动后，激光气体分析仪开始对真空管道二内气体进行成分分析，然后将分析结果反馈给PLC控制器，PLC控制器将气体成分分析结果比对生产工艺要求，调节真空栗组工作，对真空获得系统进行控制； 同时，压力检测仪表对除尘器与真空栗组之间真空管道二中的气体压力进行测定，将压力信息传输PLC控制器，PLC控制器对真空管道二压力进判断；当真空管道二内压力大于等于设定值时，打开吹扫气源控制开关，吹扫气源对激光气体分析仪镜头进行吹扫清洁；当真空管道二内压力值小于设定值时，关闭吹扫气气源控制开关，停止对激光气体分析仪镜头进行吹扫清洁。【专利摘要】本专利技术涉及一种真空获得系统气体分析控制实施装置，包括真空槽、除尘器、真空泵组，所述真空槽与除尘器之间通过真空管道一相连，所述除尘器与真空泵组之间通过真空管道二相连，所述真空管道二上设有激光气体分析仪、压力检测仪表，所述激光气体分析仪、压力检测仪表分别与PLC控制器输入端相连，所述PLC控制器又分别与真空泵组、吹扫气源控制开关相连，所述吹扫气源控制开关与吹扫气源相连，所述吹扫气源上设有吹扫气本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种真空获得系统气体分析控制装置，包括真空槽、除尘器、真空泵组，所述真空槽与除尘器之间通过真空管道一相连，所述除尘器与真空泵组之间通过真空管道二相连，其特征在于：所述真空管道二上设有激光气体分析仪、压力检测仪表，所述激光气体分析仪、压力检测仪表分别与PLC控制器相连，所述PLC控制器又分别与真空泵组、吹扫气源控制开关相连，所述吹扫气源控制开关与吹扫气源相连，所述吹扫气源上设有吹扫气管，吹扫气管的另一端对准激光气体分析仪镜头。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：施汉生，齐滨，陈宝堂，孙风晓，王学新，温维新，孙金明，王者堂，
申请(专利权)人：山东钢铁集团日照有限公司，
类型：发明
国别省市：山东;37
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