一种镀膜玻璃制造技术

技术编号:12423961 阅读:45 留言:0更新日期:2015-12-03 09:56
本实用新型专利技术公开了一种镀膜玻璃,包括玻璃基体,由玻璃基体一侧向外依次还包括:第一介电层、第一阻挡吸收层、第一金属/合金层、第一复合介电层、功能层、第二金属/合金层、第二复合介电层、第二阻挡吸收层和第三复合介电层,所述第一阻挡吸收层的厚度为1-2nm,所述第一金属/合金层的厚度为1.2-2.0nm,所述第一复合介电层的厚度为5-7nm,所述功能层的厚度为10-13nm,本实用新型专利技术的镀膜玻璃辐射率低、光阳比值高、钢化性能好。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜玻璃
,具体而言,涉及一种镀膜玻璃。
技术介绍
传统膜系结构上的可钢化低辐射镀膜玻璃具有一定的低辐射性能和较好的后续可被钢化能力,但无法取得低的辐射率值及高的光阳比值,这也意味着无法取得良好的隔热保温效果。传统膜系的镀膜玻璃辐射率值很难小于0.1,光阳比值则很难高过1.2。光阳比值为可见光透过率与阳光因子的比值,高光阳比值可提高玻璃的节能效果和舒适性。因此获得辐射率值小于0.1及光阳比值高,同时又保证能被钢化处理的镀膜玻璃成为急需解决的问题。
技术实现思路
针对上述现有技术中存在的问题,本技术提供一种低辐射值、高光阳比值的镀膜玻璃。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:—种镀膜玻璃,包括玻璃基体,由玻璃基体一侧向外依次还包括:第一介电层、第一阻挡吸收层、第一金属/合金层、第一复合介电层、功能层、第二金属/合金层、第二复合介电层、第二阻挡吸收层和第三复合介电层,所述第一阻挡吸收层的厚度为l_2nm,所述第一金属/合金层的厚度为1.2-2.0nm,所述第一复合介电层的厚度为5_7nm,所述功能层的厚度为10-13nmo进一步,所述第一介电层的厚度为21_30nm。进一步,所述第二金属/合金层的厚度为2.3-2.8nm。进一步,所述第二复合介电层的厚度为25-37nm。进一步,所述第二阻挡吸收层的厚度为2.1-2.5nm。进一步,所述第三复合介电层的厚度为30-50nm。本技术的有益效果如下:1、本技术的镀膜玻璃重新对各膜层进行排列,并且优化了膜层材料和厚度,各个膜层之间功能相互配合,达到最佳效果,能够有效的降低辐射,提高可见光透过率和光阳比值,增加舒适性和节能性;2、本技术减少了贵重金属材料的膜层厚度,降低成本;3、本技术的镀膜玻璃排列方式克服了金属/合金层厚度太薄造成的镀膜玻璃加工性能变差的缺点,本技术的镀膜玻璃耐洗刷性好、可钢化性能优异。【附图说明】图1为本技术的整体结构示意图。图中:1 一玻璃基体,2—第一介电层,3—第一阻挡吸收层,4一第一金属/合金层,5—第一复合介电层,6—功能层,7—第二金属/合金层,8—第二复合介电层,9一第二阻挡吸收层,10—第三复合介电层。【具体实施方式】为了使本领域的人员更好地理解本技术的技术方案,下面结合本技术的附图,对本技术的技术方案进行清楚、完整的描述,基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的其它类同实施例,都应当属于本申请保护的范围。实施例一:—种镀膜玻璃,包括玻璃基体1,由玻璃基体I 一侧向外依次还包括:第一介电层2、第一阻挡吸收层3、第一金属/合金层4、第一复合介电层5、功能层6、第二金属/合金层7、第二复合介电层8、第二阻挡吸收层9和第三复合介电层10,玻璃基体I为建筑级浮法玻璃;第一介电层2为掺铝的氮化硅、金红石结构的氧化钛或氧化锌锡,本实施例中第一介电层2为掺招的氮化娃,所述第一介电层2的厚度为21-30nm,本实施例中为25nm ;第一阻挡吸收层3为镍、铌、镍铬合金或镍铬钒合金,本实施例中第一阻挡吸收层3为镍铬钒合金,所述第一阻挡吸收层3的厚度为l_2nm,本实施例中为1.5nm ;第一金属/合金层4为镍、钛、镍络合金或银钛合金,本实施例中第一金属/合金层4为镍粉,所述第一金属/合金层4的厚度为1.2-2.0nm,本实施例中为1.6nm ;第一复合介电层5为2层,靠近玻璃基体I的为PET层,该层外面的为氧化钛层,所述第一复合介电层5的厚度为5-7nm,本实施例中为6nm,两层的厚度比例为1:1 ;功能层6为金、银或金银合金,本实施例中功能层6为银,所述功能层6的厚度为10-13nm,本实施例中为12nm,本技术减少了贵重金属材料的膜层厚度,降低成本;第二金属/合金层7为镍、钛、镍络合金或银钛合金,本实施例中第二金属/合金层7为镍铬合金,所述第二金属/合金层7的厚度为2.3-2.8nm,本实施例中为2.5nm ;第二复合介电层8为3层,靠近玻璃基体I的为氮化硅层,中间为氧化锌层,最外面为氧化钛层,所述第二复合介电层8的厚度为25-37nm,本实施例中为27nm,三层的厚度比例为1:1:1 ;第二阻挡吸收层9为镍、铌、镍铬合金或镍铬钒合金,本实施例中为镍,所述第二阻挡吸收层9的厚度为2.1-2.5nm,本实施例中为2.3nm ;第三复合介电层10为2层,靠近玻璃基体I的是氧化锌锡层,另外一层为氮化硅层,所述第三复合介电层10的厚度为30-50nm,本实施例中为37nm,两层的厚度比例为1:1。经检测,本实施例中的镀膜玻璃室外可见光反射率为13%,光阳比值为1.48,辐射率值为0.06。本技术的镀膜玻璃重新对各膜层进行排列,并且优化了膜层材料和厚度,各个膜层之间功能相互配合,达到最佳效果,能够有效的降低辐射,提高可见光透过率和光阳比值,节约资源,提高舒适性。本技术的镀膜玻璃排列方式克服了金属/合金层厚度太薄造成的镀膜玻璃加工性能变差的缺点,本技术的镀膜玻璃耐洗刷性好、可钢化性能优异。此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。【主权项】1.一种镀膜玻璃,包括玻璃基体,其特征在于,由玻璃基体一侧向外依次还包括:第一介电层、第一阻挡吸收层、第一金属/合金层、第一复合介电层、功能层、第二金属/合金层、第二复合介电层、第二阻挡吸收层和第三复合介电层,所述第一阻挡吸收层的厚度为l-2nm,所述第一金属/合金层的厚度为1.2-2.0nm,所述第一复合介电层的厚度为5_7nm,所述功能层的厚度为10-13nm。2.根据权利要求1所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第一介电层的厚度为21-30nm。3.根据权利要求2所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第二金属/合金层的厚度为2.3-2.8nm。4.根据权利要求3所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第二复合介电层的厚度为25_37nm05.根据权利要求4所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第二阻挡吸收层的厚度为2.1-2.5nm。6.根据权利要求5所述的镀膜玻璃,其特征在于,所述第三复合介电层的厚度为30_50nm。【专利摘要】本技术公开了一种镀膜玻璃,包括玻璃基体,由玻璃基体一侧向外依次还包括:第一介电层、第一阻挡吸收层、第一金属/合金层、第一复合介电层、功能层、第二金属/合金层、第二复合介电层、第二阻挡吸收层和第三复合介电层,所述第一阻挡吸收层的厚度为1-2nm,所述第一金属/合金层的厚度为1.2-2.0nm,所述第一复合介电层的厚度为5-7nm,所述功能层的厚度为10-13nm,本技术的镀膜玻璃辐射率低、光阳比值高、钢化性能好。【IPC分类】C03C17/36【公开号】CN204824615【申请号】CN201520518622【专利技术人】樊义平, 周厚祥 【申请人】青岛锦绣前程节能玻璃有限公司【公开日】2015年12月2日【申请日】2015年7月16日本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种镀膜玻璃,包括玻璃基体,其特征在于,由玻璃基体一侧向外依次还包括:第一介电层、第一阻挡吸收层、第一金属/合金层、第一复合介电层、功能层、第二金属/合金层、第二复合介电层、第二阻挡吸收层和第三复合介电层,所述第一阻挡吸收层的厚度为1‑2nm,所述第一金属/合金层的厚度为1.2‑2.0nm,所述第一复合介电层的厚度为5‑7nm,所述功能层的厚度为10‑13nm。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:樊义平周厚祥
申请(专利权)人:青岛锦绣前程节能玻璃有限公司
类型:新型
国别省市:山东;37

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