一种金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法，所述阳光控制玻璃包括自下而上依次紧密叠合的玻璃基片、第一硅铝合金膜层；第二镍铬合金膜层；第三银膜层；第四镍铬合金膜层；第五硅铝金属膜层，所述制备方法包括步骤：1)烧结靶材；2)玻璃的预处理；3)镀膜处理。本发明专利技术低辐射镀膜玻璃在阳光下呈金色，可达到良好的装饰、节能效果；产品可异地加工，降低加工企业制造成本；也可制成中空玻璃，达到更好的控光、节能效果。

【技术实现步骤摘要】
一种金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法
本专利技术涉及一种镀膜玻璃制备方法及由该方法制备的镀膜玻璃，特别涉及一种低辐射镀膜玻璃的制备方法及其制备的低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
镀膜玻璃(Reflectiveglass)也称反射玻璃。镀膜玻璃是在玻璃表面涂镀一层或多层金属、合金或金属化合物薄膜，以改变玻璃的光学性能，满足某种特定要求。镀膜玻璃按产品的不同特性，可分为以下几类：热反射玻璃、低辐射玻璃(Low-E)、导电膜玻璃等。镀膜玻璃的生产方法很多，如真空磁控溅射法、真空蒸发法、化学气相沉积法以及溶胶-凝胶法等。磁控溅射镀膜玻璃利用磁控溅射技术可以设计制造多层复杂膜系，可在白色玻璃基片上镀出多种颜色，膜层的耐腐蚀和耐磨性能较好，是目前生产和使用最多的技术。真空蒸发镀膜玻璃的品种和质量与磁控溅射镀膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空溅射法取代。化学气相沉积法是在浮法玻璃生产线上通入反应气体在灼热的玻璃表面分解，均匀地沉积在玻璃表面形成镀膜玻璃的技术。该方法的设备投入少、易调控，产品成本低、化学稳定性好、可热加工，是目前最有发展前途的生产方法之一。溶胶-凝胶法生产镀膜玻璃工艺简单，稳定性好，不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金色低辐射镀膜玻璃，其特征是，包括：玻璃基片(1)；第一膜层(2)，位于玻璃基片上，所述第一膜层为硅铝合金膜层；第二膜层(3)，位于所述第一膜层上，所述第二膜层为镍铬合金膜层；第三膜层(4)，位于所述第二膜层上，所述第三膜层为银膜层；第四膜层(5)，位于所述第三膜层上，所述第四膜层为镍铬合金膜层；第五膜层(6)，位于所述第四膜层上，所述第五膜层为硅铝合金膜层。

【技术特征摘要】
1.一种金色低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括如下顺序进行的步骤：1)烧结靶材将硅铝合金、镍铬合金、银分别烧结在玻璃镀膜机的真空磁控溅射室的靶位上，备用；2)玻璃的预处理将待镀膜处理的玻璃置于真空状态下，对待镀膜处理的玻璃进行排湿、脱气处理，降低玻璃表面沉积的水份和气体，制得排湿、脱气玻璃；3)镀膜处理将排湿、脱气玻璃送入玻璃镀膜机的真空磁控溅射室内，在排湿、脱气玻璃的表面自下而上依次镀覆厚度为32.0-40.0nm的第一硅铝合金膜层、厚度为5.0-6.0nm的第二镍铬合金膜层、厚度为7.0-9.0nm的第三银膜层、厚度为5.0-6.0nm的第四镍铬合金膜层和厚度为163.0-176.0nm的第五硅铝合金膜层；其中，所述第一硅铝合金膜层分两次镀覆处理而成；所述第五硅铝合金膜层分四次镀覆处理而成，镀覆过程中真空磁控溅射室内的气氛为氮气和氩气的混合气体；第一次镀覆处理的厚度为41-44nm，且镀覆过程中所述气氛中氮气与氩气的体积之比为2-3：1；第二镀覆处理的厚度为41-44nm，且镀覆处理过程中所述气氛中氮气与氩气的体积之比为17-18：11；第三镀覆处理的厚度为41-44nm，第四镀覆处理的厚度为38-45nm，且第...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈全福，陈玉平，田永刚，
申请(专利权)人：福建新福兴玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：福建;35