本实用新型专利技术涉及陶瓷生产设备领域，具体的涉及一种自动浸釉机，其特征在于：包括主机架、升降机构、翻转机构和旋转机构，升降臂可上下移动，翻转机构上的翻转轴设置于升降臂上，旋转机构包括吸胚筒、旋转驱动、气管、空心轴和抽气机，空心轴在旋转驱动的带动下可旋转的设置于翻转轴上，空心轴的一端与气管连接，一端穿过吸胚筒底部的中心孔并与吸胚筒连接。本实用新型专利技术自动浸釉机可使胚体倒置，将配体内的多余釉料倾倒出来，避免釉料的浪费；胚体上釉的角度和高度可以自由调整，更好地适用不同类型的胚体；吸胚筒内，空心轴的端面高于吸胚筒内底面，避免吸胚筒的釉液被吸管吸走。
【技术实现步骤摘要】
本技术涉及陶瓷生产设备领域，具体的涉及一种自动浸釉机。
技术介绍
陶瓷在烧制前需要给陶瓷表面上釉，传统的上釉方式为人工上釉，当采用浸釉法时，使用人工逐个将胚体浸入釉浆池内，利用胚体的吸水性吸附釉浆，采用人工上釉的方式缺陷在于耗费人力，生产效率低，上釉易不均匀，不合符现代陶瓷规模化和自动化的需求。为解决该问题，授权公开号为CN 203653449U的技术专利提供了一种一种日用陶瓷制品自动浸釉机。该技术提供的日用陶瓷制品自动浸釉机，在支架上层表面两端固定安装有轴承座和轴承，穿过轴承的是翻转主轴，翻转主轴穿过整个支架，翻转主轴伸出支架外面部分连接着翻转传动机构，转筒内设置有中心管，可通过旋转接头与真空发生装置控制转筒内部的真空度。该技术提供的日用陶瓷制品自动浸釉机虽然提供了一种自动上釉的设备，但仍存在一定缺陷:上釉过程完成后，胚体残留的釉液需要人工倒出，不符合自动化程度不足；胚体的角度不可调整，不能适用于不同类型的胚体上釉。
技术实现思路
为克服现有技术中的不足，本技术提供一种自动化程度高、调整范围广的自动浸釉机。为实现上述目的，本技术采用的技术方案如下:一种自动浸釉机，其特征在于:包括主机架、升降机构、翻转机构、旋转机构和釉浆池，所述升降机构包括升降臂、升降驱动和升降轨道，该升降轨道设置于主机架上，升降驱动带动升降臂沿升降轨道上下移动，所述翻转机构包括翻转轴和翻转驱动，翻转轴在翻转驱动的带动下可旋转的设置于升降臂上，翻转轴的轴线垂直于升降平面，所述旋转机构包括吸胚筒、旋转驱动、气管、空心轴和抽气机，该抽气机与气管相连通，，空心轴在旋转驱动的带动下可旋转的设置于翻转轴上，空心轴的轴线平行于升降平面，空心轴的一端与气管连通，一端穿过吸胚筒底部的中心孔并与吸胚筒连接，空心轴的端面高于吸胚筒内底面，所述釉浆池位于旋转机构下方。进一步的，还包括注浆管，所述注浆管设置主机架上，当吸胚筒的筒口正向上时，注浆管的管口位于吸胚筒筒口的上方。进一步的，所述气管还包括旋转接头，用于连接气管和空心轴。进一步的，所述升降驱动为液压缸，液压缸一端连接于主机架，一端连接于升降臂。进一步的，所述翻转驱动为液压马达。进一步的，所述旋转驱动为液压马达。由上述描述可知，本技术提供的自动浸釉机至少包含以下有益效果:一是胚体可实现完全倒置，将配体内的多余釉料倾倒出来，避免釉料的浪费；二是胚体上釉的角度和高度可以自由调整，从而更好地适用于不同类型的胚体；三是吸胚筒内，空心轴的端面高于吸胚筒内底面，避免吸胚筒的釉液被真空吸管吸走；此外能实现对上釉时间的自动控制，保证同一批胚体上釉的厚度一致，提高成品率。【附图说明】图1为本技术自动浸釉机的结构示意图。图2为本技术自动浸釉机的上釉过程示意图。图3为本技术自动浸釉机的上釉过程示意图。【具体实施方式】以下通过【具体实施方式】对本技术作进一步的描述。如图1和图2所示，本技术自动浸釉机，包括主机架1、升降机构2、翻转机构3、旋转机构4、釉浆池5和注浆管6，所述升降机构2包括升降臂21、液压缸22和升降轨道23，该升降轨道23设置于主机架I上，液压缸22带动升降臂21沿升降轨道23上下移动，液压缸22 —端连接于主机架1，一端连接于升降臂21，所述翻转机构3包括翻转轴31和翻转液压马达32，翻转轴31在翻转液压马达32的带动下可旋转的设置于升降臂21上，翻转轴31的轴线垂直于升降平面，所述旋转机构4包括吸胚筒41、旋转液压马达42、气管43、空心轴44和抽气机45，该抽气机45与气管43相连通，空心轴44在旋转液压马达42的带动下可旋转的设置于翻转轴31上，空心轴44的轴线平行于升降平面，且空心轴44的一端与气管43连通，一端穿过吸胚筒41底部的中心孔并与吸胚筒41连接，气管43包括旋转接头431，用于连接气管43和空心轴44，空心轴44的端面高于吸胚筒41的内底面，所述釉浆池5位于旋转机构4的下方，注浆管6设置主机架I上，且当吸胚筒41的筒口 411正向上时，注浆管6的管口位于吸胚筒41的筒口 411的上方。如图1至图3所示，所述自动浸釉机的工作过程为:自动浸釉机处于图1所示位置时，吸胚筒41在翻转机构3的带动下，筒口 411处于正向上的位置，此时注浆管6的管口位于吸胚筒41的筒口 411的上方，并往吸胚筒41注射一定量的釉液，且釉液面不超过空心轴44的端面，将胚体放置到吸胚筒41上，抽气机45工作，将吸胚筒41空气抽干，使胚体吸附在吸胚筒41上，翻转机构3向下翻转一定角度，使胚体斜向下一定角度，升降机构3向下移动，使胚体部分浸入釉浆池5的釉浆里，旋转机构4工作，使胚体旋转，均匀上釉，此时自动浸釉机处于图2所示位置，待胚体上釉后，升降机构3上升，并且翻转机构3继续向下翻转直至筒口 411完全向下，此时自动浸釉机处于图3所示位置，待胚体内釉液流出后，翻转机构3向上翻转至筒口 411向上，此时自动浸釉机重新回到图1所示位置，在上述过程中，吸胚筒41内的釉液同时对胚体底部进行上釉，从而实现对整个胚体的自动上釉。上述仅为本技术的若干【具体实施方式】，但本技术的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本技术进行非实质性的改动，均应属于侵犯本技术保护范围的行为。【主权项】1.一种自动浸釉机，其特征在于:包括主机架、升降机构、翻转机构、旋转机构和釉浆池，所述升降机构包括升降臂、升降驱动和升降轨道，该升降轨道设置于主机架上，升降驱动带动升降臂沿升降轨道上下移动，所述翻转机构包括翻转轴和翻转驱动，翻转轴在翻转驱动的带动下可旋转的设置于升降臂上，翻转轴的轴线垂直于升降平面，所述旋转机构包括吸胚筒、旋转驱动、气管、空心轴和抽气机，该抽气机与气管相连通，空心轴在旋转驱动的带动下可旋转的设置于翻转轴上，空心轴的轴线平行于升降平面，空心轴的一端与气管连通，一端穿过吸胚筒底部的中心孔并与吸胚筒连接，空心轴的端面高于吸胚筒内底面，所述釉楽池位于旋转机构下方。2.根据权利要求1所述的自动浸釉机，其特征在于:还包括注浆管，所述注浆管设置主机架上，当吸胚筒的筒口正向上时，注浆管的管口位于吸胚筒筒口的上方。3.根据权利要求1所述的自动浸釉机，其特征在于:所述气管还包括旋转接头，用于连接气管和空心轴。4.根据权利要求1所述的自动浸釉机，其特征在于:所述升降驱动为液压缸，液压缸一端连接于主机架，一端连接于升降臂。5.根据权利要求1所述的自动浸釉机，其特征在于:所述翻转驱动为液压马达。6.根据权利要求1所述的自动浸釉机，其特征在于:所述旋转驱动为液压马达。【专利摘要】本技术涉及陶瓷生产设备领域，具体的涉及一种自动浸釉机，其特征在于：包括主机架、升降机构、翻转机构和旋转机构，升降臂可上下移动，翻转机构上的翻转轴设置于升降臂上，旋转机构包括吸胚筒、旋转驱动、气管、空心轴和抽气机，空心轴在旋转驱动的带动下可旋转的设置于翻转轴上，空心轴的一端与气管连接，一端穿过吸胚筒底部的中心孔并与吸胚筒连接。本技术自动浸釉机可使胚体倒置，将配体内的多余釉料倾倒出来，避免釉料的浪费；胚体上釉的角度和高度可以自由调整，更好地适用不同类型的胚体；吸胚筒内，空心轴的端面高于吸胚筒内底面，避免本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种自动浸釉机，其特征在于：包括主机架、升降机构、翻转机构、旋转机构和釉浆池，所述升降机构包括升降臂、升降驱动和升降轨道，该升降轨道设置于主机架上，升降驱动带动升降臂沿升降轨道上下移动，所述翻转机构包括翻转轴和翻转驱动，翻转轴在翻转驱动的带动下可旋转的设置于升降臂上，翻转轴的轴线垂直于升降平面，所述旋转机构包括吸胚筒、旋转驱动、气管、空心轴和抽气机，该抽气机与气管相连通，空心轴在旋转驱动的带动下可旋转的设置于翻转轴上，空心轴的轴线平行于升降平面，空心轴的一端与气管连通，一端穿过吸胚筒底部的中心孔并与吸胚筒连接，空心轴的端面高于吸胚筒内底面，所述釉浆池位于旋转机构下方。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：王小龙，
申请(专利权)人：王小龙，
类型：新型
国别省市：福建;35
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