一种显影设备及显影方法技术

本发明专利技术公开了一种显影设备及显影方法，所述显影设备的显影区设置有信号处理系统、移动风干系统以及多个传感器，所述显影设备中的信号处理系统能够根据多个传感器生成的与正在显影的基板相关的位置感应信息，确定所述基板是否在显影区停留，并在确定所述基板在显影区停留且确定所述基板的显影时长到达设定的显影时长时，控制移动风干系统对所述基板上的显影液进行去除，从而避免了由于基板在显影单元出现停留而导致的基板上的光刻胶过度显影的问题，提高了基板产品质量、缩短了工艺周期。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示
，尤其涉及。
技术介绍
TFT-LCD (Thin film Transistor Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显不器)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前平板显示器市场占据主流地位。其中，由于TFT阵列基板是TFT-1XD显示器的重要部分，因此提高TFT阵列基板良率，减少TFT阵列基板制备过程再作业次数可以提高显示质量。在制备TFT阵列基板的过程中，大部分都要进行涂胶、曝光、显影等工序。其中，显影设备主要用来去除曝光后的玻璃基板上的光刻胶，预先形成所需图形以便进行下一步刻蚀工序。目前在大尺寸TFT阵列基板的制备中，显影设备多采用喷淋式。如图1所示，其为现有喷淋式显影设备的结构示意图，所述现有喷淋式显影设备10包括基板等候区域11、显影区12、水洗区13和风洗区14四个区域，其中，显影区12内设置有靠近基板等候区域11侧的显影液喷淋装置121、以及传送滚轮122 ;水洗区13内设置有多个净化水喷淋装置131 ;风洗区14内设置有固定式风刀141。所述现有喷淋式显影设备10的工作原理是，首先通过显影液喷淋装置121，如显影液喷嘴在玻璃基板上均匀喷上显影液，然后在显影设备的显影区12显影一定时间，最后通过显影设备的水洗区13的净化水喷淋装置131和显影设备的风洗区14的固定式风刀141去除玻璃基板上的显影液并对玻璃基板进行清洗风干。由上述内容可知，在显影过程中，如果出现设备报警或其他故障现象导致玻璃基板在显影设备的显影区停留，则极易造成玻璃基板上的光刻胶过度显影，直接影响玻璃基板膜层的图形化，形成不良；且，由于此时玻璃基板需要进行再作业，因而还会存在增加工艺周期，降低产能的问题。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了，用以解决由于基板在显影单元出现停留导致基板上的光刻胶过度显影，使得基板产品质量不良以及工艺周期延长的问题。本专利技术实施例提供了一种显影设备，所述显影设备的显影区中设置有信号处理系统、移动风干系统以及多个传感器；所述多个传感器，用于生成与正在显影的基板相关的位置感应信息；所述信号处理系统，用于根据所述多个传感器生成的与所述基板相关的位置感应信息确定所述基板是否在显影区停留；若是，则在确定所述基板的显影时长到达设定的显影时长时，控制所述移动风干系统启动；所述移动风干系统，用于根据所述信号处理系统的控制去除所述基板上的显影液。进一步地，所述多个传感器按照距离所述显影设备的基板等候区域的远近在所述显影设备的显影区依次排列，且，任意两个相邻的传感器相互之间间隔设定的水平距离；所述信号处理系统，具体用于从第N个传感器初次检测到所述基板的时刻起，若确定位于所述第N个传感器之后的相邻的第N+1个传感器在设定时长内未检测到所述基板，则确定所述基板在显影区停留，其中，所述N为正整数。进一步地，所述信号处理系统，具体用于根据所述多个传感器生成的与所述基板相关的位置感应信息，确定所述基板在显影区的停留位置，并在控制所述移动风干系统移动到所述停留位置后，启动所述移动风干系统。进一步地，所述移动风干系统包括移动风刀和移动风刀传送装置，其中，所述移动风刀位于显影区靠近水洗区一侧，所述移动风刀传送装置位于显影区上下两侧；所述信号处理系统，具体用于根据所述基板在显影区的停留位置，控制所述移动风刀传送装置将所述移动风刀移动到所述停留位置后，启动所述移动风刀。进一步地，所述信号处理系统，具体用于根据所述多个传感器生成的与所述基板相关的位置感应信息，确定在确定所述基板在显影区停留的时刻所述基板的已显影时长，并根据所述设定的显影时长和所述已显影时长确定所述基板的未显影时长，以及，从确定所述基板在显影区停留的时刻起，若确定已经过所述未显影时长，则控制所述移动风干系统启动。进一步地，本专利技术实施例还提供了一种与所述显影设备相对应的显影方法，包括:信号处理系统根据多个传感器生成的与正在显影的基板相关的位置感应信息，确定所述基板是否在显影区停留；若是，则在确定所述基板的显影时长到达设定的显影时长时，控制移动风干系统启动。进一步地，所述多个传感器按照距离所述显影设备的基板等候区域的远近在所述显影设备的显影区依次排列，且，任意两个相邻的传感器相互之间间隔设定的水平距离；根据多个传感器生成的与正在显影的基板相关的位置感应信息，确定所述基板是否在显影区停留，包括:从第N个传感器初次检测到所述基板的时刻起，若确定位于所述第N个传感器之后的相邻的第N+1个传感器在设定时长内未检测到所述基板，则确定所述基板在显影区停留，其中，所述N为正整数。进一步地，控制移动风干系统启动，包括:根据所述多个传感器生成的与所述基板相关的位置感应信息，确定所述基板在显影区的停留位置，并在控制所述移动风干系统移动到所述停留位置后，启动所述移动风干系统。进一步地，所述移动风干系统包括移动风刀和移动风刀传送装置，其中，所述移动风刀位于显影区靠近水洗区一侧，所述移动风刀传送装置位于显影区上下两侧；控制移动风干系统启动，包括:根据所述基板在显影区的停留位置，控制所述移动风干系统中的移动风刀传送装置将所述移动风干系统中的移动风刀移动到所述停留位置后，启动所述移动风刀。进一步地，在确定所述基板的显影时长到达设定的显影时长时，控制移动风干系统启动，包括:根据所述多个传感器生成的与所述基板相关的位置感应信息，确定在确定所述基板在显影区停留的时刻所述基板的已显影时长，并根据所述设定的显影时长和所述已显影时长确定所述基板的未显影时长，以及，从确定所述基板在显影区停留的时刻起，若确定已经过所述未显影时长后，则控制所述移动风干系统启动。本专利技术有益效果如下:本专利技术实施例提供了，所述显影设备的显影区设置有信号处理系统、移动风干系统以及多个传感器，所述显影设备中的信号处理系统能够根据多个传感器生成的与正在显影的基板相关的位置感应信息，确定所述基板是否在显影区停留，并在确定所述基板在显影区停留且确定所述基板的显影时长到达设定的显影时长时，控制移动风干系统对所述基板上的显影液进行去除，从而避免了由于基板在显影单元出现停留而导致的基板上的光刻胶过度显影的问题，提高了基板产品质量、缩短了工艺周期。【附图说明】为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍，显而易见地当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种显影设备，其特征在于，所述显影设备的显影区中设置有信号处理系统、移动风干系统以及多个传感器；所述多个传感器，用于生成与正在显影的基板相关的位置感应信息；所述信号处理系统，用于根据所述多个传感器生成的与所述基板相关的位置感应信息确定所述基板是否在显影区停留；若是，则在确定所述基板的显影时长到达设定的显影时长时，控制所述移动风干系统启动；所述移动风干系统，用于根据所述信号处理系统的控制去除所述基板上的显影液。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马骏，黄寅虎，韩俊号，韩领，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34