幕状显影喷嘴制造技术

本发明专利技术涉及在半导体晶片上获得光刻胶图形的显影处理设备，具体地说是一种幕状显影喷嘴。包括喷嘴本体和喷嘴盖，其中喷嘴盖设置于喷嘴本体的上方，所述喷嘴本体和喷嘴盖之间设有形成幕状喷洒的断面结构和喷嘴口，所述喷嘴口与断面结构连通，所述喷嘴盖上设有与所述断面结构连通的进水接头。所述断面结构包括水槽和溢流部分，其中水槽设置于喷嘴本体的上表面上、并与喷嘴盖上的进水接头连通，所述喷嘴本体的上表面一侧设有一斜坡，该斜坡与所述喷嘴盖之间留有缝隙，形成所述溢流部分，所述溢流部分的两端分别与水槽和所述喷嘴口连通。本发明专利技术喷嘴与晶圆的接触距离非常小所以在喷涂的过程中可将浪费的显影液量调整为很小。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种幕状显影喷嘴，其特征在于：包括喷嘴本体(1)和喷嘴盖(2)，其中喷嘴盖(2)设置于喷嘴本体(1)的上方，所述喷嘴本体(1)和喷嘴盖(2)之间设有形成幕状喷洒的断面结构和喷嘴口(8)，所述喷嘴口(8)与断面结构连通，所述喷嘴盖(2)上设有与所述断面结构连通的进水接头(4)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：魏猛，胡延兵，
申请(专利权)人：沈阳芯源微电子设备有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21