用于制备聚酰亚胺的组合物、聚酰亚胺、制品和显示器件制造技术

本发明专利技术涉及用于制备聚酰亚胺的组合物、聚酰亚胺、制品和显示器件。所述用于制备聚酰亚胺的组合物包括四羧酸二酐混合物和由化学式3表示的二胺，所述四羧酸二酐混合物包括由化学式1A、化学式1B或其组合表示的四羧酸二酐、由化学式2表示的四羧酸二酐，其中在化学式1A、1B、2和3中，基团和取代基的定义描述在说明书中。化学式1A化学式1B化学式2化学式3 NH2-R1-NH2。

【技术实现步骤摘要】
用于制备聚酰亚胺的组合物、聚酰亚胺、制品和显示器件相关申请的交叉引用本申请要求2013年11月25日提交的韩国专利申请No.10-2013-00144125和2014年11月20日提交的韩国专利申请No.10-2014-0162857的优先权以及由其产生的所有权益，将其内容全部引入本文作为参考。
本公开内容涉及用于制备聚酰亚胺的组合物、由所述组合物制备的聚酰亚胺、以及包括所述聚酰亚胺的制品。
技术介绍
聚酰亚胺膜是不溶性膜，其耐高温，并且在暴露于热时不氧化。其还耐辐射、低温并且因此适合于在如下中应用：用于车辆、航天航空、宇宙飞船的各种各样的耐热性高科技材料，电子材料例如用于薄膜晶体管-液晶显示器(TFT-LCD)的绝缘涂层、绝缘膜、半导体、电极保护层，等等。对于用于液晶显示器、有机电致发光显示器件、有机TFT等的基底，已广泛地使用玻璃。然而，根据对基底的轻质和柔性的需要，已经研究了柔性基底。在对于用于替代玻璃的柔性基底而言期望的高透明性、低的热膨胀、高耐热性、低的光学各向异性的材料方面存在需要。
技术实现思路
已经发现可使用透明的聚酰亚胺膜作为柔性基底。一种实施方式涉及用于制备具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的聚酰亚胺的组合物。另一实施方式涉及具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的聚酰亚胺。又一实施方式涉及具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的制品。再一实施方式涉及包括具有高温稳定性、高透明性和低的光学各向异性的制品的光学器件。根据一种实施方式，提供用于制备聚酰亚胺的组合物，包括四羧酸二酐混合物和由化学式3表示的二胺，所述四羧酸二酐混合物包括由化学式1A、化学式1B或其组合表示的四羧酸二酐，由化学式2表示的四羧酸二酐，化学式1A化学式1B化学式2其中在化学式1A、1B和2中，R10为单键、取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、取代或未取代的C3-C30脂环族有机基团、取代或未取代的C6-C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2-C30杂环基团，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1-C10脂族有机基团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR205的基团，其中R205为C1-C10脂族有机基团；或者式-SiR209R210R211的甲硅烷基，其中R209、R210和R211相同或不同并且独立地为氢或C1-C10脂族有机基团，L1和L2相同或不同并且独立地为单键或C1-C5亚烷基，和n7和n8相同或不同并且独立地为0-3的整数。所述二胺可由化学式3表示：化学式3NH2-R1-NH2在化学式3中，R1为取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、或取代或未取代的C6-C30芳族有机基团，其中所述脂族有机基团可包括取代或未取代的C1-C30亚烷基、取代或未取代的C2-C30亚烯基、取代或未取代的C2-C30亚炔基、取代或未取代的C3-C30亚环烷基，其中所述亚环烷基可包括一个亚环烷基环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个或更多个亚环烷基环：亚芴基、O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、其中1≤p≤10的(CH2)p、其中1≤q≤10的(CF2)q、C(CH3)2、C(CF3)2、和C(＝O)NH，其中所述芳族有机基团可包括一个芳环、稠合在一起以提供稠环体系的两个或更多个芳环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个或更多个芳环：亚芴基、O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、其中1≤p≤10的(CH2)p、其中1≤q≤10的(CF2)q、C(CH3)2、C(CF3)2、和C(＝O)NH。在一种实施方式中，化学式1A中的取代基R10可为取代或未取代的C1-C15亚烷基、取代或未取代的C1-C15氟代亚烷基、取代或未取代的C1-C15亚杂烷基、取代或未取代的C3-C15亚环烷基、取代或未取代的C3-C15亚杂环烷基、取代或未取代的C6-C15亚芳基、或者取代或未取代的C2-C15亚杂芳基。在另一实施方式中，化学式1A中的取代基R10可为取代或未取代的C1-C15氟代亚烷基。化学式1A可由化学式4或化学式5表示，和化学式2可由化学式6或化学式7表示：化学式4化学式5化学式6化学式7在化学式4-7中，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1-C10脂族有机基团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR200的基团，其中R200为C1-C10脂族有机基团；或者式-SiR201R202R203的甲硅烷基，其中R201、R202和R203相同或不同并且独立地为氢或C1-C10脂族有机基团，和n7和n8相同或不同并且独立地为0-3的整数。化学式1A也可由化学式18表示：化学式18其中在化学式18中，R10为单键、取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、取代或未取代的C3-C30脂环族有机基团、取代或未取代的C6-C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2-C30杂环基团，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1-C10脂族有机基团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR205的基团，其中R205为C1-C10脂族有机基团；或者式-SiR209R210R211的甲硅烷基，其中R209、R210和R211相同或不同并且独立地为氢或C1-C10脂族有机基团，和n7和n8相同或不同并且独立地为0-2的整数。由化学式1A表示的四羧酸二酐可为选自如下的一种或多种：3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐、3,3',4,4'-二苯基砜四羧酸二酐、4,4'-(六氟异丙叉)二邻苯二甲酸酐、和4,4'-氧基二邻苯二甲酸酐。由化学式2表示的四羧酸二酐可为选自如下的一种或多种：2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-二苯基砜四羧酸二酐、和3,4’-氧基二邻苯二甲酸酐。在所述组合物中，基于所述四羧酸二酐混合物的总摩尔数，可以大于或等于约10摩尔％且小于约53摩尔％的量包括由化学式2表示的四羧酸二酐。在所述组合物中，基于所述四羧酸二酐混合物的总摩尔数，可以大于或等于约25摩尔％且小于或等于约52摩尔％的量包括由化学式2表示的四羧酸二酐。在所述组合物中，所述四羧酸二酐混合物和所述二胺可以1:1的摩尔比存在。由化学式1A表示的四羧酸二酐可为3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐(BPDA)。由化学式2表示的四羧酸二酐可为2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐(a-BPDA)。由化学式3表示的二胺可为选自以下化学式的至少一种：在所述化学式中，R32-R52相同或不同，并且独立地为：卤素、硝基、氰基、取代或未取代的C1-C15烷基、取代或未取代的C1-C15烷氧基、取代或未取代的C1-C15氟烷基、取代或未取代的C2-C15烷酰基、取代或未取代的C2-C15烷基羧基、取代或未取代的C2-C15烷氧基羰基、取代或未取代的C3-C15环烷基、取代或未取代的C3-C15杂环烷基、取代或未取代的C3-C15环烷氧基、取代或未取代的C6-C15芳基、取代或未取代的C6-C15芳氧基、或者取代或未取代的C2-C15杂芳基，X2-X12相同或不同，并且独立地本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于制备聚酰亚胺的组合物，包括四羧酸二酐混合物和由化学式3表示的二胺，所述四羧酸二酐混合物包括：由化学式1A、化学式1B或其组合表示的四羧酸二酐，由化学式2表示的四羧酸二酐，化学式1A化学式1B化学式2其中在化学式1A、1B和2中，R10为单键、取代或未取代的C1‑C30脂族有机基团、取代或未取代的C3‑C30脂环族有机基团、取代或未取代的C6‑C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2‑C30杂环基团，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1‑C10脂族有机基团；取代或未取代的C6‑C20芳族有机基团；式‑OR205的基团，其中R205为C1‑C10脂族有机基团；或者式‑SiR209R210R211的甲硅烷基，其中R209、R210和R211相同或不同并且独立地为氢或C1‑C10脂族有机基团，L1和L2相同或不同并且独立地为单键或C1‑C5亚烷基，和n7和n8相同或不同并且独立地为0‑3的整数；化学式3NH2‑R1‑NH2在化学式3中，R1为取代或未取代的C1‑C30脂族有机基团、或取代或未取代的C6‑C30芳族有机基团，其中所述脂族有机基团可包括取代或未取代的C1‑C30亚烷基、取代或未取代的C2‑C30亚烯基、取代或未取代的C2‑C30亚炔基、取代或未取代的C3‑C30亚环烷基，其中所述亚环烷基可包括一个亚环烷基环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个或更多个亚环烷基环：亚芴基、O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、其中1≤p≤10的(CH2)p、其中1≤q≤10的(CF2)q、C(CH3)2、C(CF3)2、和C(＝O)NH，其中所述芳族有机基团包括一个芳环、稠合在一起以提供稠环体系的两个或更多个芳环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个或更多个芳环：亚芴基、O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、其中1≤p≤10的(CH2)p、其中1≤q≤10的(CF2)q、C(CH3)2、C(CF3)2、和C(＝O)NH。...

【技术特征摘要】
2013.11.25 KR 10-2013-0144125;2014.11.20 KR 10-2011.用于制备聚酰亚胺的组合物，包括四羧酸二酐混合物和由化学式3表示的二胺，所述四羧酸二酐混合物包括：由化学式1A、化学式1B或其组合表示的四羧酸二酐，由化学式2表示的四羧酸二酐，化学式1A化学式1B化学式2其中在化学式1A、1B和2中，R10为单键、取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、取代或未取代的C3-C30脂环族有机基团、取代或未取代的C6-C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2-C30杂环基团，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1-C10脂族有机基团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR205的基团，其中R205为C1-C10脂族有机基团；或者式-SiR209R210R211的甲硅烷基，其中R209、R210和R211相同或不同并且独立地为氢或C1-C10脂族有机基团，L1和L2相同或不同并且独立地为单键或C1-C5亚烷基，和n7和n8相同或不同并且独立地为0-3的整数；化学式3NH2-R1-NH2在化学式3中，R1为取代或未取代的C6-C30芳族有机基团，其中所述芳族有机基团包括一个芳环、稠合在一起以提供稠环体系的两个或更多个芳环、或者通过单键或者通过选自如下的官能团连接的两个或更多个芳环：亚芴基、O、S、C(＝O)、CH(OH)、S(＝O)2、Si(CH3)2、其中1≤p≤10的(CH2)p、其中1≤q≤10的(CF2)q、C(CH3)2、C(CF3)2、和C(＝O)NH，其中基于所述四羧酸二酐混合物的总摩尔数，以大于或等于25摩尔％且小于或等于52摩尔％的量包括由化学式2表示的四羧酸二酐。2.根据权利要求1的组合物，其中R10为取代或未取代的C1-C15亚烷基、取代或未取代的C1-C15氟代亚烷基、取代或未取代的C1-C15亚杂烷基、取代或未取代的C3-C15亚环烷基、取代或未取代的C3-C15亚杂环烷基、取代或未取代的C6-C15亚芳基、或者取代或未取代的C2-C15亚杂芳基。3.根据权利要求1的组合物，其中化学式1A由化学式4或化学式5表示，和化学式2由化学式6或化学式7表示：化学式4化学式5化学式6化学式7在化学式4-7中，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1-C10脂族有机基团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR200的基团，其中R200为C1-C10脂族有机基团；或者式-SiR201R202R203的甲硅烷基，其中R201、R202和R203相同或不同并且独立地为氢或C1-C10脂族有机基团，和n7和n8相同或不同并且独立地为0-3的整数。4.根据权利要求1的组合物，其中化学式1A由化学式18表示：化学式18其中在化学式18中，R10为单键、取代或未取代的C1-C30脂族有机基团、取代或未取代的C3-C30脂环族有机基团、取代或未取代的C6-C30芳族有机基团、或者取代或未取代的C2-C30杂环基团，R12和R13相同或不同并且独立地为：卤素；羟基；取代或未取代的C1-C10脂族有机基团；取代或未取代的C6-C20芳族有机基团；式-OR205的基团，其中R205为C1-C10脂族有机基团；或者式-SiR209R210R211的甲硅烷基，其中R209、R210和R211相同或不同并且独立地为氢或C1-C10脂族有机基团，和n7和n8相同或不同并且独立地为0-2的整数。5.根据权利要求1的组合物，其中由化学式1A表示的四羧酸二酐为选自如下的一种或多种：3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐3,3',4,4'-二苯基砜四羧酸二酐、4,4'-(六氟异丙叉)二邻苯二甲酸酐、和4,4'-氧基二邻苯二甲酸酐。6.根据权利要求1的组合物，其中由化学式2表示的四羧酸二酐为选自如下的一种或多种：2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-二苯基砜四羧酸二酐、和3,4’-氧基二邻苯二甲酸酐。7.根据权利要求1的组合物，其中由化学式1A表示的四羧酸二酐为3,3',4,4'-联苯四羧酸二酐，和由化学式2表示的四羧酸二酐为2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐。8.根据权利要求1的组合物，其中由化学式3表示的二胺为选自以下化学式的至少一种：在所述化学式中，R32-R48相同或不同，并且独立地为：...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡贞厦，孙炳熙，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR