一种薄膜层图案、薄膜晶体管及阵列基板的制备方法技术

本发明专利技术实施例提供了一种薄膜层图案、薄膜晶体管及阵列基板的制备方法，涉及显示技术领域，可有效提升产品良率，并且可以缩短制作周期，节省成本。所述薄膜层图案的制备方法包括：提供掩模板，所述掩膜板包括掩膜板本体和设置在所述掩膜板本体上的镂空部分；将所述掩模板放置在基板上，使镂空部分在基板上的投影与所述待形成的所述薄膜层图案在基板上的投影重合；在放置有所述掩膜板的基板上形成薄膜；其中，形成在所述镂空部分的薄膜和形成在所述掩膜板本体上的薄膜断开；将所述掩膜板剥离，形成所述薄膜层图案。用于薄膜晶体管、阵列基板以及包括该阵列基板的显示装置的制造。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄膜层图案的制备方法，其特征在于，包括：提供掩模板，所述掩膜板包括掩膜板本体和设置在所述掩膜板本体上的镂空部分；将所述掩模板放置在基板上，使所述镂空部分在所述基板上的投影与待形成的薄膜层图案在所述基板上的投影重合；在放置有所述掩膜板的基板上形成薄膜；其中，形成在所述镂空部分的薄膜和形成在所述掩膜板本体上的薄膜断开；将所述掩膜板剥离，形成所述薄膜层图案。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建宏，詹裕程，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11