一种化学机械抛光液制造技术

一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：氧化物抛光颗粒5~50wt%，氧化剂0.1~2wt%，螯合剂0.01~2wt%，络合剂0.01~2wt%，表面活性剂0.01~2wt%，余量为pH调节剂和水。采用本发明专利技术中公开的化学机械抛光液能够达到高的金属移除效率；高的金属表面质量，无明显橘皮、腐蚀坑和划伤等缺陷。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘卫丽，宋志棠，
申请(专利权)人：上海新安纳电子科技有限公司，中国科学院上海微系统与信息技术研究所，
类型：发明
国别省市：上海;31