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一种化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及重量百分含量：氧化物抛光颗粒5~50wt%，氧化剂0.1~2wt%，螯合剂0.01~2wt%，络合剂0.01~2wt%，表面活性剂0.01~2wt%，余量为...该专利属于上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所授权不得商用。