图案化石墨烯薄膜及阵列基板的制作方法、阵列基板技术

技术编号:11377966 阅读:69 留言:0更新日期:2015-04-30 20:12
本发明专利技术公开了一种图案化石墨烯薄膜的制作方法,包括:在基板上形成一层石墨烯,并在所述石墨烯上涂布感光材料;采用构图工艺使需要形成石墨烯薄膜图形区域的感光材料被去除;将已去除感光材料后裸露的石墨烯氧化成氧化石墨烯层;对整个基板进行超声波清洗,除去基板上未被氧化的石墨烯和该石墨烯上的感光材料;将氧化石墨烯层还原成石墨烯层,得到所述石墨烯薄膜。本发明专利技术还同时公开了一种阵列基板及其制作方法,运用该方法、阵列基板可减小数据线的线宽,提高开口率和分辨率。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种图案化石墨烯薄膜的制作方法,其特征在于,该方法包括:首先,在基板上形成一层石墨烯,并在所述石墨烯上涂布感光材料;之后,采用构图工艺使需要形成石墨烯薄膜图形区域的感光材料被去除;然后,将已去除感光材料后裸露的石墨烯氧化成氧化石墨烯层;然后,对整个基板进行超声波清洗,除去基板上未被氧化的石墨烯和该未被氧化的石墨烯上的感光材料;最后,将氧化石墨烯层还原成石墨烯层,得到所述石墨烯薄膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李鸿鹏宋省勋肖昂李建
申请(专利权)人:北京京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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